用于将利用UV辐射辐照的液体介质施加到基板上的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及用于将暴露于UV辐射的液体介质施加到基板的设备，所述设备包括：壳体，其具有细长的腔室、朝所述腔室打开的至少一个入口开口、和狭槽型出口开口，其与所述至少一个入口开口相对且在所述腔室的长度上延伸；及管状元件，其沿纵向方向延伸通过所述腔室且对于UV辐射至少部分透明。所述管状元件布置在所述腔室中，使得在所述管状元件和所述腔室的壁之间限定流动空间，所述流动空间相对于所述腔室的纵向中心平面对称，所述纵向中心平面居中贯穿所述出口开口。所述管状元件延伸到所述壳体中的狭槽型出口开口中，从而在所述管状元件和所述壳体之间形成两个离开狭槽，其沿纵向方向延伸。所述设备还包括在所述管状元件中的至少一个UV辐射源，该至少一个UV辐射源布置成朝着所述流动空间的方向并通过所述出口开口从所述壳体发射UV辐射。该设备的特征在于包括器件，该器件使第一波长范围的UV辐射被发射通过管状元件的第一部分进入流动空间中。第二波长范围的UV辐射被发射通过管状元件的第二部分通过壳体的离开开口并且可选地进入流动空间的邻近于离开狭槽的端部部分。第一和第二波长范围彼此不同，并且对于所述部分中的至少一个，发射通过相应的部分的辐射输出的最大20％，优选地最大5％来自另一波长范围。

A device for applying a liquid medium irradiated by UV radiation to a substrate.

The present invention relates to a device for applying a liquid medium exposed to UV radiation to a substrate. The device comprises a shell with a slender chamber, at least one opening opening to the chamber, and a slot type outlet opening, which is relative to the at least one entrance opening and extends on the length of the chamber; And tubular elements, which extend longitudinally through the chamber and are at least partially transparent to UV radiation. The tubular member is arranged in the chamber so that the flow space is limited between the tube element and the wall of the chamber, and the flow space is symmetrical to the longitudinal center plane of the chamber, and the longitudinal center plane runs through the outlet opening. The tubular element is extended to the slot type outlet opening in the shell so as to form two leaving narrow grooves between the tubular element and the shell, which extends along the longitudinal direction. The device also includes at least one UV radiation source in the tubular element, the at least one UV radiation source is arranged in the direction of the flow space, and the UV radiation is emitted from the shell through the outlet opening. The device is characterized by including a device that causes the UV radiation in the first wavelength range to be launched into the flow space through the first part of the tubular element. The UV radiation of the second wavelength range is transmitted through the second part of the tubular element through the opening of the shell and optionally entering the flow space adjacent to the end part leaving the narrow slot. The first and second wavelength ranges are different from each other, and for at least one of the parts, the maximum of 20% of the radiated output through the corresponding part is transmitted, and the optimum maximum 5% comes from another wavelength range.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于将利用UV辐射辐照的液体介质施加到基板上的装置本专利技术涉及一种装置，其用于将利用UV辐射辐照的液体介质施加到基板上以便处理该基板，其中，液体在所述装置的区域中被局部地施加到基板的部分地区，以及其中，UV辐射被引入到液体中。在半导体技术中，已知例如，光掩模在其生产期间和在其使用期间两者中，必须经受不同处理步骤，尤其是清洁步骤。例如，已知使光掩模经受湿法清洁，在其中，至少局部地在基板上形成液膜，且UV辐射被引入到该液膜中。在半导体晶片的制造期间，还已知用于半导体晶片的对应的清洁步骤。在该情形中，液体和UV辐射匹配成使得大部分UV辐射在液膜中被吸收，以便在液膜中生成有助于清洁的自由基。尤其，已知在例如稀释的过氧化氢水或臭氧水O3-H2O中生成羟基自由基。这样的羟基自由基导致来自基板表面的有机材料的选择性溶解，而不损害在基板表面上的金属层（如果其存在的话）。然而，稀释的过氧化氢水或臭氧水O3-H2O也可能含有不允许到达基板的非期望的反应性物质。适用于该目的的装置例如从本申请的同一申请人的德国专利申请DE102009058962A1已知。尤其，该申请示出根据权利要求1的前序部分的装置。鉴于根据上述申请的装置，本申请的目的是在将液体施加到基板上之前更好地预处理液体。为了实现该目的，本专利技术的装置现在额外地具有权利要求1的特征部分的特征。尤其，提供一种用于将利用UV辐射辐照的液体介质施加到基板上的装置，所述装置包括：壳体，其具有细长的腔室、通向所述腔室的至少一个入口开口、和与所述入口开口相对的至少一个狭缝状出口开口，该出口开口在所述腔室的长度上延伸；管元件，其沿纵向方向延伸通过所述腔室，所述管元件对于UV辐射至少部分透明，其中，所述管元件布置在所述腔室中，使得在所述管元件和所述腔室的壁之间形成流动空间，所述流动空间相对于所述腔室的纵向中心平面对称，所述纵向中心平面将所述出口开口在其中间剖切，以及使得所述管元件延伸到所述壳体中的狭缝状出口开口中且由此在所述管元件和所述壳体之间形成两个纵向延伸的出口狭缝；以及在所述管元件中的至少一个UV辐射源，其布置成使UV辐射朝着所述流动空间的方向并通过所述出口开口自所述壳体离开发射。该装置的特征在于器件，其用于使主要在第一波长范围内发射的UV辐射通过所述管构件的第一区段进入所述流动空间中并且用于使主要在第二波长范围内发射的UV辐射通过所述管构件的第二区段通过所述壳体的所述出口开口并且可选地进入流动空间的邻近于出口狭缝的端部区域中。第一和第二波长范围不同，并且其中对于所述区段中的至少一个，发射通过相应的区段的辐射功率的最大20％，优选地最大5％来自另一波长范围。因此，可以在不同的地区中引入不同的辐射，这能够针对特定的目的进行调整。因此，例如，能够将主要在200nm以下的波长范围内，尤其是主要在大约185nm的范围内的辐射引入到流动空间中。在此范围内，辐射尤其适用于分解流动空间中的液体介质，以便形成或分解反应性物质。例如，（臭氧）能够特别地被分解或者例如OH可以从水生成。在此，介质和所用的波长范围的组合决定是否存在反应性物质的生成或分解，并且这能够根据需要进行调整。另一方面，在出口狭缝的区域中和在位于流动空间外侧的区域中（朝着待处理的基板的方向），例如，能够引入主要在200nm以上的波长范围内，尤其是主要在大约254nm的区域内的辐射。在此范围内，辐射尤其适用于在液体介质中生成自由基。用于此目的的器件能够具有不同的性质。在上面的示例中，波长选择的边界被设置为200nm。但是，能够设置其他边界或不同波长的范围。顺便提及，这也适用于以下示例和整个公开。尤其，通过下述对液体进行预处理使得能够进一步生成自由基：在该预处理的液体的第一波长范围内（在入口区域中）进行辐照并且在该预处理的液体的第二波长范围内（在出口区域中）进行后续辐照。这导致了两步过程，其在液体的流动方向上“自动”进行。在一个实施例中，器件包括对于相应的波长范围具有不同的透射特性的不同材料，其影响管元件的第一和第二区段的透射特性。例如，管元件的第一上部区段（其至少部分地限制流动空间）可以对于在200nm以上的范围内的UV辐射主要是不透明的（在该波长范围内的辐射的少于50％传递通过管元件），但对于在200nm以下的范围内的UV辐射，其大体上是透明的。同样，至少部分地延伸出壳体的第二下部部分可以对于在200nm以下的范围内的UV辐射主要是不透明的（在该波长范围内的辐射的少于50％传递通过管构件），但对于在200nm以上的范围内的UV辐射，它大体上是透明的。相应区段的角度范围能够在任何合适的范围内，并且还可以提供具有仍然不同的透射特性的其他区段。因此，例如在介质的入口区域中，透射特性可以使得大体上没有辐射离开管元件，因为介质流动在此仍然是不均匀的，并且相应的效果将不会均匀地发生。例如，能够通过管元件本身的材料的选择来调整管状元件的区段的透射特性。例如，普通玻璃对于UV是UV吸收的，而石英玻璃在UV光谱范围内是透明的。然而，例如也可以提供选择性地反射或吸收材料，例如在管元件的相应区段上或邻近于管元件的相应区段以层和/或箔的形式。在一个实施例中，器件包括至少两个不同的UV辐射源以及在管元件中布置在不同的UV辐射源之间的至少一个分隔元件，其中，至少一个第一辐射源发射主要在第一波长范围内的辐射，并且至少一个第二辐射源发射主要在第二波长范围内的辐射。“主要”在此和本申请中的其他地方指的是至少80％，并且该百分比基于在相应的波长范围内的辐射的强度。优选地，分隔元件大体上在管构件的整个宽度上延伸，并且分隔元件的端部限定在管构件的第一和第二区段之间的分隔。分隔元件的面向相应的辐射源的表面能够被设计为至少部分地是反射性的，尤其是对于其所面向的辐射源的相应的主要发射范围来说是反射性的。以这种方式，能够增加在第一和第二区段中的相应的波长范围内的辐射的产率。为了实现通过相应的区段发射的辐射的特定空间强度分布，分隔元件的面向辐射源的表面中的至少一个能够是弯曲的，以便以特定图案分布在表面上反射的辐射。尤其是在延伸出流动空间的区段中，这种空间分布可以是有利的，因为其能够影响待处理的基板的表面上的自由基的分布。尤其，具有高的自由基浓度的地区可以可选地扩大。例如，分隔元件的面向第一辐射源的表面可以凸形地弯曲和/或面向第二辐射源的表面可以具有至少一个凹形地弯曲部分以便提供期望的辐射分布。在一个实施例中，在管构件中且与管构件的至少一部分相邻或接触的器件包括过滤元件，其选择性地透射在期望的波长范围内的UV辐射并吸收在期望的波长范围外的辐射。第一波长范围可以例如是在<200nm的范围内，且第二波长范围可以是在>220nm的范围内。有利地，可以提供第二器件，该第二器件，其使得在管元件的面向流动空间的第三部分中，没有UV辐射被发射到流动空间中。例如，第二器件可以包括布置在至少一个辐射源和流动空间之间的、对于UV辐射不透明的元件。有利地，第三区域将面朝所述至少一个入口开口，相对于纵向中心平面对称布置，并且沿着管元件的圆周方向直至最多5°的在相应的出口狭缝之前延伸。第二区段可选地也可以将辐射发射到流动空间中并且因此可以与流动空间叠置。在这种情况本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于将利用UV辐射辐照的液体介质施加到基板上的装置，所述装置包括：壳体，其具有细长的腔室、通向所述腔室的至少一个入口开口、和与所述入口开口相对的至少一个狭缝状出口开口，所述至少一个狭缝状出口开口在所述腔室的长度上延伸；管元件，其沿纵向方向延伸通过所述腔室，所述管元件对于UV辐射至少部分透明，其中，所述管元件布置在所述腔室中，使得在所述管元件和所述腔室的壁之间形成流动空间，所述流动空间相对于所述腔室的纵向中心平面对称，所述纵向中心平面将所述出口开口在其中间剖切，以及使得所述管元件延伸到所述壳体中的所述狭缝状出口开口中，且由此在所述管元件和所述壳体之间形成两个纵向延伸的出口狭缝；以及在所述管元件中的至少一个UV辐射源，其布置成使UV辐射朝着所述流动空间的方向并通过所述出口开口自所述壳体离开发射，以便在所述液体中生成自由基以及将所述自由基带到所述基板的表面；其特征在于：器件，其用于使主要在第一波长范围内发射的UV辐射通过所述管构件的第一区段进入所述流动空间中并且用于使主要在第二波长范围内发射的UV辐射通过所述管构件的第二区段通过所述壳体的所述出口开口并且可选地进入所述流动空间的邻近于所述出口狭缝的端部区域中，其中，所述第一和第二波长范围不同，并且其中，对于所述区段中的至少一个，发射通过相应的区段的辐射功率的最大20％，优选地最大5％来自另一波长范围。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.27 DE 102015011228.71.一种用于将利用UV辐射辐照的液体介质施加到基板上的装置，所述装置包括：壳体，其具有细长的腔室、通向所述腔室的至少一个入口开口、和与所述入口开口相对的至少一个狭缝状出口开口，所述至少一个狭缝状出口开口在所述腔室的长度上延伸；管元件，其沿纵向方向延伸通过所述腔室，所述管元件对于UV辐射至少部分透明，其中，所述管元件布置在所述腔室中，使得在所述管元件和所述腔室的壁之间形成流动空间，所述流动空间相对于所述腔室的纵向中心平面对称，所述纵向中心平面将所述出口开口在其中间剖切，以及使得所述管元件延伸到所述壳体中的所述狭缝状出口开口中，且由此在所述管元件和所述壳体之间形成两个纵向延伸的出口狭缝；以及在所述管元件中的至少一个UV辐射源，其布置成使UV辐射朝着所述流动空间的方向并通过所述出口开口自所述壳体离开发射，以便在所述液体中生成自由基以及将所述自由基带到所述基板的表面；其特征在于：器件，其用于使主要在第一波长范围内发射的UV辐射通过所述管构件的第一区段进入所述流动空间中并且用于使主要在第二波长范围内发射的UV辐射通过所述管构件的第二区段通过所述壳体的所述出口开口并且可选地进入所述流动空间的邻近于所述出口狭缝的端部区域中，其中，所述第一和第二波长范围不同，并且其中，对于所述区段中的至少一个，发射通过相应的区段的辐射功率的最大20％，优选地最大5％来自另一波长范围。2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述器件包括对于相应的波长范围具有不同的透射特性的不同材料，其影响所述管元件的所述第一和第二区段的透射特性。3.根据权利要求1或2所述的装置，其中，所述器件包括至少两个不同的UV辐射源和在所述管元件中布置在所述不同的UV辐射源之间的至少一个分隔元件，其中，至少一个第一辐射源发射主要在所述第一波长范围内的辐射并且至少一个第二辐射源发射主要在所述第二波长范围内的辐射。4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述分隔元件大体上跨所述管构件的整个宽度延伸，并且所述分隔元件的端部限定在所述管元件的所述第一和第二区段之间...

【专利技术属性】
技术研发人员：P德雷斯，U迪茨，P格拉比茨，
申请(专利权)人：聚斯微技术光掩模设备两合公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE