公开了一种用于将已利用UV辐射充电的液体介质施加到基板的设备，其具有：壳体，其具有细长的腔室、具有朝腔室打开的至少一个入口开口、并且具有狭槽状出口开口，其与至少一个入口开口相对定位且其在腔室的长度上延伸；管元件，其沿纵向方向延伸通过腔室...

公开了一种用于将已利用UV辐射充电的液体介质施加到基板的设备，所述设备具有下述：壳体，其具有细长的腔室、具有朝所述腔室打开的至少一个入口开口、并且具有狭槽状出口开口，其与所述至少一个入口开口相对定位且其在所述腔室的长度上延伸；管元件，其...

描述了用于处理衬底的方法。方法包括如下步骤：使含水液体介质流动通过流动通道和至少一个出口狭缝到待处理的衬底上，以及至少在流动通道的紧邻至少一个出口狭缝的一部分中以及在所述含水液体介质已经朝着衬底流动通过出口开口之后且因此在将含水液体介质...

本发明涉及用于将暴露于UV辐射的液体介质施加到基板的设备，所述设备包括：壳体，其具有细长的腔室、朝所述腔室打开的至少一个入口开口、和狭槽型出口开口，其与所述至少一个入口开口相对且在所述腔室的长度上延伸；及管状元件，其沿纵向方向延伸通过所...