一种掺杂蒸镀源喷嘴结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种掺杂蒸镀源喷嘴结构，所述掺杂蒸镀源喷嘴设置于掺杂蒸镀源上，在所述掺杂蒸镀源两侧各设有主体蒸镀源，所述主体蒸镀源上设有主体蒸镀源喷嘴，位于两个所述主体蒸镀源喷嘴中间的掺杂蒸镀源喷嘴设有至少两个喷嘴支管，所述喷嘴支管中的至少两个分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴。本实用新型专利技术改造了掺杂蒸镀源的喷嘴结构，使得掺杂蒸镀源喷嘴由向上方喷出掺杂材料改进为可向左右方向喷出掺杂材料，提高左右两侧的主体蒸镀源喷嘴上方的掺杂材料含量，同时降低掺杂蒸镀源喷嘴上方的掺杂材料含量，使得主体蒸镀源喷嘴与掺杂蒸镀源喷嘴上方的掺杂材料与主体材料含量一致，从而提升掺杂均匀性，提高器件产品性能。

The structure of a dopant evaporation source nozzle

The utility model provides a kind of dopant evaporation source nozzle structure. The doped evaporation source nozzle is set on the dopant evaporation source, and the main steam plating sources are provided on both sides of the doped evaporation source. The main steam plating source nozzle is provided with the main steam plating source nozzle, and the mixed evaporation source nozzle is located in the middle of the two main steam plating source nozzles. There are at least two nozzle branches, and at least two of the nozzle branch pipes are evaporated to the source nozzles on the sides respectively. The utility model reforms the nozzle structure of the doped evaporation source, which makes the doping source nozzle spray doped material from the top to the right and left direction, and improves the content of the doped material above the main steam source nozzle in the left and right sides, and reduces the content of the doped material above the dopant evaporation source nozzle. The content of the doped material above the main nozzle of the main evaporation source and the source nozzle of the source is consistent with the content of the main material, thus improving the uniformity of the doping and improving the performance of the device.

【技术实现步骤摘要】
一种掺杂蒸镀源喷嘴结构
本技术涉及有机发光二极管显示
，具体涉及一种掺杂蒸镀源喷嘴结构。
技术介绍
在平板显示技术中，有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示器因其轻薄、主动发光、快速响应、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为继液晶显示器(LCD)之后的第三代显示技术。按驱动方式，OLED分为被动式OLED(PassiveMatrixOLED，PMOLED)及主动式OLED(Active-matrixOLED，AMOLED)，其中，PMOLED只能制作小尺寸、低分辨率的显示面板，AMOLED因其通过在每个像素中集成薄膜晶体管(TFT)和电容器并由电容器维持电压的方法进行驱动，因而可以实现大尺寸、高分辨率面板，是当前研究的重点及未来显示技术的发展方向。AMOLED在实现大尺寸方面使用了线性蒸镀源，其蒸镀源上部是由众多喷嘴(nozzle)排布而成，蒸镀源喷嘴用来控制有机材料均匀分布。蒸镀源喷嘴的设计排布对器件性能有很大影响，尤其关于掺杂均匀性方面更甚。如图1-1,1-2,1-3所示，目前行业所使用的蒸镀源为传统蒸镀源，掺杂蒸镀源1位于主体蒸镀源2,3中间，主体蒸镀源2,3与掺杂蒸镀源1上均设有管状喷嘴。在主体蒸镀源喷嘴(hostnozzle)21,31上方的主体材料含量较高，其位置上蒸发的掺杂材料含量较少。同理在掺杂喷嘴11(dopantnozzle)上方蒸发的掺杂材料含量较高，其位置上蒸发的主体材料含量较少，从而使得掺杂材料(dopant)蒸发与主体材料(HOST)蒸发混合不够均匀。此种不均匀掺杂分布会影响器件产品性能。
技术实现思路
本技术提供一种掺杂蒸镀源喷嘴结构，解决了提高主体蒸镀源喷嘴位置上掺杂材料的含量，提升掺杂均匀性，提高器件产品性能的技术问题。为了解决上述技术问题，本技术所采取的技术方案为：本技术提供一种掺杂蒸镀源喷嘴结构，所述掺杂蒸镀源喷嘴设置于掺杂蒸镀源上，在所述掺杂蒸镀源两侧各设有主体蒸镀源，所述主体蒸镀源上设有主体蒸镀源喷嘴，位于两个所述主体蒸镀源喷嘴中间的掺杂蒸镀源喷嘴设有至少两个喷嘴支管，所述喷嘴支管中的至少两个分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴。进一步地，所述掺杂蒸镀源喷嘴设置为Y形结构，设有两个喷嘴支管，每个喷嘴支管分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴。或者，所述掺杂蒸镀源喷嘴设有四个喷嘴支管，每两个喷嘴支管分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴。或者，所述掺杂蒸镀源喷嘴设有六个喷嘴支管，每三个喷嘴支管分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴。或者所述掺杂蒸镀源喷嘴设置设定数量的多个喷嘴支管。更进一步地，所述掺杂蒸镀源喷嘴的喷嘴支管呈圆弧状排列，或其他排列结构。进一步地，所述主体蒸镀源喷嘴用于喷出主体蒸镀源蒸发的主体材料，所述主体材料作为掺杂材料的基体材料；所述掺杂蒸镀源喷嘴用于喷出掺杂蒸镀源蒸发的掺杂材料。本技术改造了掺杂蒸镀源的喷嘴结构，使得掺杂蒸镀源喷嘴由向上方喷出掺杂材料改进为可向左右方向喷出掺杂材料，提高左右两侧的主体蒸镀源喷嘴上方的掺杂材料含量，同时降低掺杂蒸镀源喷嘴上方的掺杂材料含量，使得主体蒸镀源喷嘴与掺杂蒸镀源喷嘴上方的掺杂材料与主体材料含量一致，从而提升掺杂均匀性，提高器件产品性能。附图说明图1-1,1-2,1-3是现有的掺杂蒸镀源喷嘴结构示意图；图2-1,2-2,2-3是本技术掺杂蒸镀源喷嘴结构的第一实施例的结构示意图；图3是本技术掺杂蒸镀源喷嘴结构的第二实施例的结构示意图；图4是本技术掺杂蒸镀源喷嘴结构的第三实施例的结构示意图。具体实施方式下面结合附图具体阐明本技术的实施方式，附图仅供参考和说明使用，不构成对本技术专利保护范围的限制。实施例1：如图2-1,2-2,2-3所示，本实施例涉及一种掺杂蒸镀源喷嘴结构，所述掺杂蒸镀源喷嘴11设置于掺杂蒸镀源1上，在所述掺杂蒸镀源1两侧各设有主体蒸镀源2,3，所述主体蒸镀源2,3上设有主体蒸镀源喷嘴21,31，位于两个所述主体蒸镀源喷嘴21,31中间的掺杂蒸镀源喷嘴11设有至少两个喷嘴支管111，所述喷嘴支管111中的至少两个分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴21,31。在本实施例中，所述掺杂蒸镀源喷嘴11设置为Y形结构，设有两个喷嘴支管，每个喷嘴支管分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴21,31。所述主体蒸镀源喷嘴21,31用于喷出主体蒸镀源2,3蒸发的主体材料，所述主体材料作为掺杂材料的基体材料；所述掺杂蒸镀源喷嘴11用于喷出掺杂蒸镀源蒸发的掺杂材料。实施例2：本实施例与实施例1的不同之处在于：如图3所示，所述掺杂蒸镀源喷嘴11设有四个喷嘴支管，每两个喷嘴支管分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴21,31。所述掺杂蒸镀源喷嘴的喷嘴支管呈圆弧状排列。实施例3：本实施例与实施例1的不同之处在于：如图4所示，所述掺杂蒸镀源喷嘴11设有六个喷嘴支管，每三个喷嘴支管分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴21,31。所述掺杂蒸镀源喷嘴还可以设置设定数量的多个喷嘴支管。所述掺杂蒸镀源喷嘴的喷嘴支管呈圆弧状排列，或其他排列结构。以上所揭露的仅为本技术的较佳实施例，不能以此来限定本技术的权利保护范围，因此依本技术申请专利范围所作的等同变化，仍属本技术所涵盖的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掺杂蒸镀源喷嘴结构，所述掺杂蒸镀源喷嘴设置于掺杂蒸镀源上，在所述掺杂蒸镀源两侧各设有主体蒸镀源，所述主体蒸镀源上设有主体蒸镀源喷嘴，其特征在于：位于两个所述主体蒸镀源喷嘴中间的掺杂蒸镀源喷嘴设有至少两个喷嘴支管，所述喷嘴支管中的至少两个分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴。

【技术特征摘要】
1.一种掺杂蒸镀源喷嘴结构，所述掺杂蒸镀源喷嘴设置于掺杂蒸镀源上，在所述掺杂蒸镀源两侧各设有主体蒸镀源，所述主体蒸镀源上设有主体蒸镀源喷嘴，其特征在于：位于两个所述主体蒸镀源喷嘴中间的掺杂蒸镀源喷嘴设有至少两个喷嘴支管，所述喷嘴支管中的至少两个分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴。2.根据权利要求1所述的掺杂蒸镀源喷嘴结构，其特征在于：所述掺杂蒸镀源喷嘴设置为Y形结构，设有两个喷嘴支管，每个喷嘴支管分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴。3.根据权利要求1所述的掺杂蒸镀源喷嘴结构，其特征在于：所述掺杂蒸镀源喷...

【专利技术属性】
技术研发人员：何文双，吴炜钦，罗武峰，蔡晓义，柯贤军，苏君海，李建华，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44