The invention provides a preparation method of an antigen detection material, including the following steps: firstly, the electrochemical etching method is used to prepare the microporous silicon substrate, and then the porous silicon substrate is surface modified to assemble the composite monolayers of two kinds of silane containing long hydrophobic carbon and reactive end groups respectively. The antibody is grafted onto the surface of the modified porous silicon substrate to produce a composite single molecular layer, which makes the surface a superhydrophobic biological functional surface with specific antibodies. The multifunctional porous silicon material prepared by the invention can be used to detect the antigen disease. The principle is that the surface of the material containing the antibody can play an adhesive force with the liquid containing the antigen. A specific disease antigen. The detection material involved in the invention has simple preparation process, convenient detection process and high practical application value. One
【技术实现步骤摘要】
一种抗原检测材料及其制备方法和应用
本专利技术涉及一种多孔硅基底表面修饰的方法,具体地说,是通过对多孔硅基底表面进行修饰使该表面成为一种结合有特定疾病抗体的超疏水生物功能表面,利用其超疏水性和生物功能该材料可用来快速检测待测样品中是否含有特定的疾病抗原。
技术介绍
硅材料在作为生物传感器、生物芯片等研究中有广泛的应用,可以用来作为生物传感器,在抗原或抗体检测方面,常见的方法是通过在多孔硅基材表面接枝抗原/抗体,当检测样品中的抗体/抗原与其结合时,会改变多孔硅薄膜的折光率,从而产生响应信号实现对抗体的传感。基于多孔硅的检测方法包括:反射光谱的检测和拉曼、荧光光谱的检测,前两者都是非标记生物检测技术中常用的方法。专利CN103979543A公开了一种多孔硅的修饰方法及其作为生物传感器的用途,该修饰方法包括以下步骤:首先通过电化学刻蚀方法制备多孔硅,刻蚀液为氢氟酸:无水乙醇体积比为3:1;然后将得到的多孔硅进行烷氧基硅烷修饰;最后与4-(二乙氨基)水杨醛反应,得到带有芳叔胺基团的多孔硅。并且指出该修饰过的多孔硅可以作为生物传感器用于光学非标记生物检测各种可溶性受体分子。但该类方法所制备的材料在用于生物检测时,通常检测情况下拉曼信号较弱。专利CN103116019A公开了一种免疫基底的制备方法及抗原或抗体的免疫检测方法,该免疫基底的制备方法利用金或银纳米粒子修饰硅片,再在金或银纳米粒子表面修饰抗体/抗原,用于捕获待测抗原/抗体,利用了金或银纳米粒子的表面增强拉曼散射效应,大大提高了免疫检测的灵敏度,弥补了通常检测情况下拉曼信号较弱的缺点,并且可进行高通量的多抗原或 ...
【技术保护点】
1.一种抗原检测材料的制备方法,该材料以多孔硅为基底材料,其特征在于:所述材料
【技术特征摘要】
1.一种抗原检测材料的制备方法,该材料以多孔硅为基底材料,其特征在于:所述材料的制备过程包括以下步骤:(1)用电化学刻蚀方法制备微米多孔硅基底;(2)对步骤(1)得到的多孔硅基底进行表面修饰:将步骤(1)具有多孔结构的硅基材浸涂在含有疏水长碳链硅氧烷和具有反应性端氨基的硅氧烷的混合溶液中,同时组装含有两种硅烷的复合单层膜,从而使该基底表面同时具有超疏水性和与抗体发生反应的特性,并且通过调整组装混合溶液两种硅氧烷功能分子的百分比来改变这两种分子在多孔硅基材表面的占比;以体积分数计,所述混合溶液的组成为:具有反应性端氨基的硅氧烷:0.8%~1.6%、含有疏水长碳链硅氧烷:0.2%~3.2%,溶剂:95.2%~99.0%;(3)将特定抗体接枝到步骤(2)中反应性端氨基的位点从而在多孔硅基底材料表面形成抗体分子与疏水长碳链硅烷复合单分子层,复合单分子层建立在具有微米多孔结构的硅基材表面,使该表面成为一种结合有特定抗体的超疏水生物功能表面。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤(1)中电化学刻蚀方法制备微米多孔硅基底,具体包括以下过程:在进行电化学刻蚀前,将单面抛光的单晶硅片分别用丙酮、去离子水超声清洗3min,然后晾干;将晾干的硅片放入体积比为3∶1的浓硫酸与双氧水的混合溶液中,至硅片表面不再产生气泡,取出硅片用去离子水冲洗干净,放入体积分数为5%的氢氟酸水溶液中浸泡1min,然后用去离子水冲洗干净,氮气吹干,放入无水乙醇中备用;电化学刻蚀方法制备多孔硅:以体积分数为25%的氢氟酸乙醇溶液作为电解液,恒电流电解、电流密度3mA/cm2、腐蚀时间为600s,电化学阳极氧化得到多孔硅,所获得的多孔硅基底经过乙醇清洗去除残留的腐蚀液,氮气吹干。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤(2)中对多孔硅...
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