显示器用玻璃基板及其制造方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种从吸附台剥离时不容易产生剥离带电的显示器用玻璃基板及其制造方法。本发明专利技术的显示器用玻璃基板具有第一面和与该第一面相反侧的第二面，其中，上述第一面具有多个开口的孔，上述孔的平均开口面积为1.70×10

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示器用玻璃基板及其制造方法
本专利技术涉及显示器用玻璃基板及其制造方法。
技术介绍
在等离子体显示面板(PDP)、液晶显示装置(LCD)、电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)等平板显示器中，使用在玻璃基板上形成有透明电极、半导体元件等的构件作为基板。例如，在LCD中，使用在玻璃基板上形成有透明电极、TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)等的构件作为基板。在玻璃基板上的透明电极、半导体元件等的形成是在通过吸附将玻璃基板固定于吸附台上的状态下进行的。但是，由于玻璃基板的表面平滑，因此，玻璃基板强力地粘贴在吸附台上，玻璃基板难以从吸附台剥离，强行剥离时，会导致玻璃基板破损。另外，在将形成有透明电极、半导体元件等的玻璃基板从吸附台剥离时，玻璃基板带电。玻璃基板产生剥离带电的情况下，会发生TFT等半导体元件的静电击穿。因此，对与吸附台接触的一侧的玻璃基板的表面进行粗糙化处理，从而减小玻璃基板与吸附台的接触面积。如果减小该接触面积，则容易从吸附台剥离玻璃基板。另外，可以抑制剥离带电的产生，能够减少剥离带电量。作为粗糙化处理的方法而言，例如，已知有在向玻璃基板的一个面喷吹含有液体和研磨磨粒的浆料的同时利用刷对玻璃基板的表面进行研磨的方法(例如，参见专利文献1)。但是，对于通过现有的方法进行了粗糙化处理的玻璃基板而言，无法充分地抑制剥离带电的产生，有时会发生半导体元件的静电击穿。另外，玻璃基板会由于剥离带电而再次粘贴于吸附台等，玻璃基板难以从吸附台等剥离，强行剥离时，有时会导致玻璃基板破损。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2001-343632号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术提供一种从吸附台剥离时不容易产生剥离带电的显示器用玻璃基板及其制造方法。用于解决问题的手段本专利技术的显示器用玻璃基板具有第一面和与该第一面相反侧的第二面，其特征在于，上述第一面具有多个开口的孔，上述孔的平均开口面积为1.70×104nm2以下，并且上述孔的合计开口面积为6.00×106nm2/25μm2以上。本专利技术的显示器用玻璃基板优选：以氧化物基准的质量％表示，所述显示器用玻璃基板的玻璃组成为：SiO2的含量为50质量％～70质量％、Al2O3的含量为10质量％～20质量％、B2O3的含量为0～15质量％、MgO的含量为0～10质量％、CaO的含量为0～20质量％、SrO的含量为0～20质量％、BaO的含量为0～20质量％、MgO、CaO、SrO、BaO的合计含量为1质量％～30质量％、并且实质上不含碱金属氧化物。本专利技术的显示器用玻璃基板优选：上述第二面为用于形成电子构件的面，上述第一面为不形成电子构件的面。本专利技术的显示器用玻璃基板优选：上述第一面的算术平均粗糙度Sa为0.30nm以上。本专利技术的显示器用玻璃基板优选：上述第一面和上述第二面为矩形，并且一边的长度为1m以上。本专利技术的显示器用玻璃基板的制造方法的特征在于，其包括对具有第一面和与该第一面相反侧的第二面的玻璃板的上述第一面进行玻璃蚀刻处理的工序，并且在上述进行玻璃蚀刻处理的工序中，以使得平均开口面积为1.70×104nm2以下、合计开口面积为6.00×106nm2/25μm2以上的方式形成在上述第一面开口的多个孔。本专利技术的显示器用玻璃基板的制造方法优选：在上述进行玻璃蚀刻处理的工序之前具有利用含有碳酸钙的浆料对上述玻璃板进行清洗的工序。本专利技术的显示器用玻璃基板的制造方法优选上述玻璃蚀刻处理为利用含有氟化氢的气体进行的蚀刻。本专利技术的显示器用玻璃基板的制造方法优选：在上述利用含有氟化氢的气体进行的蚀刻中，从反应气体喷出口向蚀刻槽内以0.07m/秒喷出含有氟化氢反应成分的气体，并从反应气体排出口以0.07m/秒排出，从反应气体排出口排出的气体与反应气体排出口周围的空气一起被以0.5m/秒抽吸时的混合气体中所含的氟化氢浓度为500ppm～1500ppm。专利技术效果本专利技术的显示器用玻璃基板在从吸附台剥离时不容易产生剥离带电。附图说明图1是示出本专利技术的显示器用玻璃基板的一个实施方式的示意性剖视图。图2是对实施例1的玻璃基板检测孔而得到的图像。图3是对实施例2的玻璃基板检测孔而得到的图像。图4是对实施例3的玻璃基板检测孔而得到的图像。图5是对比较例1的玻璃基板检测孔而得到的图像。图6是对比较例2的玻璃基板检测孔而得到的图像。图7是对比较例3的玻璃基板检测孔而得到的图像。图8是示出玻璃基板的孔的合计开口面积与玻璃基板的剥离带电量的关系的图。具体实施方式[显示器用玻璃基板]图1是示出本专利技术的显示器用玻璃基板的一个实施方式的示意性剖视图。本实施方式的显示器用玻璃基板10具有第一面10a和与第一面10a相反侧的第二面10b。显示器用玻璃基板10在第一面10a形成有多个孔12。孔12以在显示器用玻璃基板10的第一面10a开口的方式形成。需要说明的是，为了便于说明，图1中的孔12以大于实际的方式记载。孔12在显示器用玻璃基板10的第一面10a开口。换而言之，孔12是在第一面10a中沿显示器用玻璃基板10的厚度方向凹陷的微小的空间。在显示器用玻璃基板10的第一面10a中，孔12以岛状不规则地分散。另外，多个孔12的形状不均匀(不整齐)，并且，其开口面积(俯视与显示器用玻璃基板10的板厚方向垂直的平面时的尺寸)也不均匀(不整齐)。孔12的平均开口面积为1.70×104nm2以下、优选为3.00×103nm2～1.65×104nm2。平均开口面积是俯瞰显示器用玻璃基板10的第一面10a时的在规定区域内存在的多个开口的平均面积(平均开口面积＝(S1+S2+…+Sn)/n。在此，S1、S2、…、Sn表示在规定区域内存在的各开口的面积、n表示在规定区域内存在的开口的数量)。通过将平均开口面积调节至上述数值范围内，在将显示器用玻璃基板10载放于吸附台等上的情况下，孔12内部与吸附台的接触概率降低。即，显示器用玻璃基板10与吸附台的接触面积减小。需要说明的是，孔12的平均开口面积是通过后述的方法测定的值。另外，孔12的合计开口面积为6.00×106nm2/25μm2以上、优选为6.00×106nm2/25μm2～1.80×107nm2/25μm2、更优选为8.00×106nm2/25μm2～1.80×107nm2/25μm2。合计开口面积为俯瞰显示器用玻璃基板10的第一面10a时的在规定区域内存在的多个开口的合计面积(合计开口面积＝S1+S2+…+Sn。在此，S1、S2、…、Sn表示在规定区域内存在的各开口的面积、n表示在规定区域内存在的开口的数量)。通过将合计开口面积调节至上述数值范围内，在将显示器用玻璃基板10载放于吸附台等上的情况下，显示器用玻璃基板10与吸附台的接触面积减小。需要说明的是，孔12的合计开口面积是通过后述的方法测定的值。如果孔12的平均开口面积为1.70×104nm2以下且孔12的合计开口面积为6.00×106nm2/25μm2以上，则从吸附台剥离显示器用玻璃基板10时产生的剥离带电量减少，容易从吸附台剥离显示器用玻璃基板10。剥离带电量优选为-7200V以上、更优选为-7150V以上、进一步优选为-7000V以上、进一步优选为6800V以上、进一步本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示器用玻璃基板，其具有第一面和与该第一面相反侧的第二面，其特征在于，所述第一面具有多个开口的孔，所述孔的平均开口面积为1.70×10

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.10.15 JP 2015-2038811.一种显示器用玻璃基板，其具有第一面和与该第一面相反侧的第二面，其特征在于，所述第一面具有多个开口的孔，所述孔的平均开口面积为1.70×104nm2以下，并且所述孔的合计开口面积为6.00×106nm2/25μm2以上。2.如权利要求1所述的显示器用玻璃基板，其中，以氧化物基准的质量％表示，所述显示器用玻璃基板的玻璃组成为：SiO2的含量为50质量％～70质量％、Al2O3的含量为10质量％～20质量％、B2O3的含量为0～15质量％、MgO的含量为0～10质量％、CaO的含量为0～20质量％、SrO的含量为0～20质量％、BaO的含量为0～20质量％、MgO、CaO、SrO、BaO的合计含量为1质量％～30质量％，并且实质上不含有碱金属氧化物。3.如权利要求1或2所述的显示器用玻璃基板，其中，所述第二面为用于形成电子构件的面，所述第一面为不形成电子构件的面。4.如权利要求1～3中任一项所述的显示器用玻璃基板，其中，所述第一面的算术平均粗糙度Sa为0.30nm以上。5.如权利要求1～4中任一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤启史，若林纱枝，中谷嘉孝，小林大介，似内佑辅，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP