【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术涉及一种离子镀膜装置，具体地说是涉及一种双室可交替作业的离子镀膜机。
技术介绍
镀膜技术由蒸发镀发展到多弧离子镀，在镀膜质量方面有很大提高，镀层硬度及膜层与基体的结合都得到很大改善，且膜的品种大大增加。目前，多弧离子镀膜方法多数采用单室离子镀膜机，这种机型存在以下缺陷1、本机制造成本高及镀膜生产成本高；2、单室多弧离子镀膜机一般采用8套或12套蒸发离化源，由于某些原因往往出现熄弧，弧头越多镀膜时灭弧的几率越大，从而导致镀膜质量下降。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决已有技术中单室镀膜机制造成本高，镀膜生产成本高以及在镀膜时常出现熄弧而影响产品质量等问题。本技术主要由真空镀膜室、真空抽气系统、主弧电源、轰偏电源、加热测量装置、配气系统和控制台组成，其特征在于两个真空镀膜室分立，构成左右两部分，共用一套电源系统、电控系统和抽真空系统，主抽气管道与两个真空镀膜室相联，两室的配气通过控制台切换。真空镀膜室为筒体结构，蒸发离化源(3)分布室壁四周，公自转挂架位于室顶部。通常每个真空镀膜室内均等距离布置四套蒸发离化源。在连接两个真空镀膜室的主抽管道上用两个高真空阀将两...
【技术保护点】
分立双室离子镀膜机，主要由真空镀膜室、真空抽气系统、主弧电源、轰偏电源、加热测量装置、配气系统和控制台组成，其特征在于两个真空镀膜室分立，构成左右两部分，共用一套电源系统、电控系统和抽真空系统，主抽气管道与两个真空镀膜室相联，两室的配气通过控制台切换。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
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