【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种磁控溅射镀膜所用的大回路闭合溅射轨迹的柱状磁控靶,属气相沉积
现在使用的柱状磁控靶,其中有一种的结构如图1和图2所示。其中的磁路系统由环型永磁体3(磁体如同厚垫圈)与极片8相间叠装组成,溅射轨迹为垂直靶轴分布的独立圆环,靶管越长,溅射环越多,好象“糖葫芦”串。由于磁性材料的不均匀性,各独立的圆环溅射区的磁场强度以及相应的等离子环的强度也是不一致的。由此带来的主要问题是(1)各环磁场不同,于是轴向溅射速率不一致,镀膜均匀性差。(2)较强的等离子环集中了较大的电流,该环的靶材刻蚀速度相应较快,于是靶管壁厚率先变薄,造成表面磁感应强度更强,形成愈演愈烈的恶性循环(正反馈效应),使靶材寿命缩短,其利用率只有20~30%。本技术的目的是设计一种新型的柱状磁控靶,对已有的柱状靶从结构上作出改进。本技术是采用平行于圆管状靶材(靶管)轴向分布的磁路系统,形成大回路闭合溅射轨迹新型的柱状磁控靶,从而溅射区与靶管轴向平行,消除了现有柱状靶存在的缺点。本技术设计的大回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶的一种结构见图3和图4,包括靶材、永磁体、水冷通道、N极板、N极靴、S极板、S极靴和磁芯、靶材为空心圆柱形,N极板和S极板分别置于靶材的上下二端。磁芯置于靶材内腔的中央,永磁体为块状,每一块永磁体与磁芯的一边相接。N极靴有二块,其一端与N极板相接,并沿靶管内壁向下延伸,但不接触位于靴管下端的S极板。S极靴也是二块,其一端与S极板相接,另一端沿靶管的内壁向上延伸,但不接触位于靶管上端的N极板。极靴内壁与磁芯之间插入永磁体。靶管内的空腔作为水冷通道。本技术设计的柱状磁 ...
【技术保护点】
一种大回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶,包括靶材、永磁体、水冷通道、其特征在于还包括N极板、N极靴、S极板、S极靴和磁芯;所述的靶材为空心圆柱形靶管,N极板和S极板分别置于靶管的二端;圆柱形靶管内腔为水冷通道,磁芯置于靶管的中央;永磁体为块状,每一块永磁体与磁芯的一边相接;N极靴有二块,极靴的一端与N极板相接,沿靶管的内壁插入靶管内壁与永磁体之间;S极靴有二块,极靴的一端与S极板相接,沿靶管的内壁插入内壁与永磁体之间。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:郑世民,范毓殿,李云松,
申请(专利权)人:郑世民,
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]
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