溅射装置及形成薄膜的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供可以简单易行地制作具有所需膜厚分布的薄膜的溅射装置。该溅射装置中，在靶２９ａ、２９ｂ和基板Ｓ之间设有膜厚修正板３５和遮蔽板３６。在与靶２９ａ、２９ｂ和基板夹具１３之间的领域不同的领域，面向基板１３的领域（６０）设有产生等离子体的等离子体发生装置８０。膜厚修正板３５中由沿基板公转轴方向接连设置的多个修正小片３５ａ↓［１］、３５ｂ↓［１］等构成第１修正板３５ａ和第２修正板３５ｂ。修正小片（３５ａ↓［１］等）和修正小片（３５ｂ↓［１］等）沿所述基板Ｓ公转的轨迹在所述靶２９ａ、２９ｂ上的投影的投影轨迹方向以一定的间隔距离设置。其中配有驱动修正小片（３５ａ↓［１］和３５ｂ↓［１］等）沿所述投影轨迹方向移动的驱动装置（７１ａ、７１ｂ等）。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于制造光学薄膜，或者用于制造光学设备、光电子学设备、半导体设备等中的薄膜的，特别是涉及可以调节所形成的薄膜的厚度的。
技术介绍
一直以来，在基板上形成薄膜时，为了调整形成的薄膜的薄膜分布而在原料物质的发生源和基板之间设置修正板的技术早已经为人们所熟知(例如专利文献1特开2002-285330号公报(第2、4-5页，图1-4)。图12、图13是说明专利文献1描述的现有技术的说明图。如图12(a)所示，现有技术中，在作为薄膜的构成元素的发生源的靶310和形成薄膜的基板330之间设有膜厚修正板320。这样，在将具有旋转对称形状的基板330以旋转对称轴为中心旋转的同时，在基板330上形成薄膜。膜厚修正板320具有图12(b)、(c)所示的形状。图12(c)是将图12(b)的一部分放大的图。如图12(b)、(c)所示，膜厚修正板320具有多个驱动装置321和驱动装置321驱动的多个微小的遮蔽部件322。膜厚修正板320上设有开口部323。图13是表示遮蔽部件322受到驱动的状态的说明图。现有技术专利文献1中，驱动装置321驱动微小的遮蔽部件322，使膜厚修正板320的形状改本文档来自技高网...

【技术保护点】
溅射装置，其是通过对安装在真空容器内部的板状靶进行溅射而在所述真空容器的内部公转的基板上形成薄膜的溅射装置；　　　　其特征为，其配有基板夹具和膜厚修正板，并配有修正板驱动装置；所述基板夹具夹持所述基板使所述基板公转，所述膜厚修正板设置在所述靶和所述基板之间，与所述靶相对，用来对形成的薄膜的厚度进行修正，所述膜厚修正板由第１修正板和第２修正板构成，所述第１修正板和所述第２修正板分别由沿所述基板公转轴方向接连设置的多个修正小片构成，构成所述第１修正板的修正小片和构成第２修正板的修正小片沿所述基板公转的轨迹在所述靶上的投影的投影轨迹方向以一定的间隔距离设置，构成所述第１修正板的多个修正小片和构成所述...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋亦周，樱井武，千叶幸喜，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：发明
国别省市：JP[日本]