本发明专利技术公开一种镀膜承载结构的改良，该结构应用于真空镀膜设备中并用来承载需镀膜的元件，其至少包括有一具有一定承载面积的伞状承载座、位于承载座的中心并可将承载座连接至动力源轴承上的安装孔，以及若干个排布于承载座上并具菱形结构的镀膜孔。镀膜承载结构的每一镀膜孔均可安装一与其构形相同的菱形接合部，而每一菱形接合部均可容纳多个镀膜元件。借由该镀膜承载结构的改良构造可使得每次镀膜的元件数量增加，从而提升镀膜效率。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种镀膜承载结构的改良，尤其是指一种应用于真空镀膜设备中并可承载需镀膜的元件的镀膜承载结构。
技术介绍
镀膜制程常用于金属加工业、半导体业及光电产业等等。近几年来，由于半导体业与光电产业的迅速发展，使得镀膜技术也有重大进展。常见的镀膜制程有真空蒸镀法、溅射法及离子镀法，其中真空蒸镀是在10-3～10-4Pa的压力下，采用各种形式的热能转换方式使镀膜材料蒸发，并成为具有一定能量的气态粒子，蒸发的气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到基板，然后在基板上凝聚成薄膜。而溅射法是在真空室内充以10～1Pa的惰性气体，以被溅射的材料作为阴极，将基片作为阳极并接地，整个系统在阴、阳极之间加上数千伏的直流电后产生辉光放电，由放电形成的正离子在电场作用下朝着阴极(靶材)方向加速，并轰击阴极，在离子的轰击下，材料从阴极上被打出来，被溅射出来的粒子冷凝在放置于阳极的基片上并沉积一定厚度后就形成薄膜。离子镀法是在真空蒸镀的基础上，再加上等离子体的活化作用，在惰性气体的辉光放电中将膜材的蒸气进行离子化，再对基板进行轰击和镀膜的方法。应用于上述镀膜制程中的现有镀膜设备都有一些相似的结构，如图1所示，其大致包括有一个可用真空泵抽成真空的真空室90、在真空室90的上部腔室中安装有一伞具式承载座91、一遮板92，以及一镀材源93。其中，伞具式承载座91是轴设于一动力源94的轴心并可借由该动力源94驱动进行旋转，而镀材源93与伞具式承载座91相对而设，遮板92设置于邻近伞具式承载座91的位置并处于伞具式承载座91与镀材源93之间。该镀膜设备9的详细构造可参阅台湾专利公告第540585号的内容。当使用镀膜设备9来进行镀膜制程时，通常先将多个接合部95固定在伞具式承载座上91，然后驱动动力源94以旋转伞具式承载座91，最后再利用真空蒸镀或溅射等方式将镀材源93上的镀膜材料沉积在这些接合部95上。当接合部95被蒸镀(或溅射)一层或多层薄膜后，将这些已镀制完毕的接合部95从真空室90内移出，并再次将同样数量的接合部移入真空室90内，以便接着同样为它们蒸镀一次或多次的薄膜。例如可选择具高折射率的材料和具低折射率的材料作为镀材源经重复交替地沉积在设于接合部上的玻璃基板表面上而制成光学镜片。上述伞具式承载座91的形状类似伞状，其作为一种镀膜夹治具又可称为镀膜伞。在镀膜伞的伞形座体上设置有若干个可安装接合部95的镀膜孔及一个可连接至动力源94轴承上的安装孔910，在这个现有的承载座91上设置的镀膜孔数量与每次可批量完成的镀膜元件的数量成正比。因镀膜伞的面积有限，因此同一镀膜伞上所设镀膜孔的数量多寡将直接决定镀膜效率的高低。目前较为常见的镀膜伞结构主要有两种，如台湾专利公告第538975号及第573693号所揭示的现有的镀膜伞，其镀膜孔的排布结构均较为简单但会浪费镀膜伞的承载空间。其中，第一种结构，如图2所示，它是在镀膜伞8的承载座81上形成若干个圆形镀膜孔80，而这些圆形镀膜孔80是与若干个圆形接合部82一一对应，且每一圆形接合部82上均可安装若干个圆形镀膜元件(未图示)；第二种结构，如图3A与图3B所示，它是在镀膜伞7的承载座71上形成若干个矩形镀膜孔70，这些矩形镀膜孔70是与若干个矩形接合部72一一对应，每一矩形接合部72上均可安装若干个圆形镀膜元件73(请参图3B)。但是，为能更加充分利用镀膜伞的承载空间，以提高镀膜设备的生产效率，现有镀膜伞的结构仍有进一步改进的必要。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种镀膜承载结构的改良，以提高镀膜承载结构的承载面积的利用率。本专利技术的另一目的在于提供一种具有改良型镀膜承载结构的镀膜设备，其镀膜承载结构的承载空间可得到充分利用，从而提高该镀膜设备的生产效率。依据本专利技术的上述目的，本专利技术提供一种镀膜承载结构的改良，其可承载需镀膜的元件，其至少包括有一具有一定承载面积的承载座、位于承载座的中心并可将承载座连接至动力源轴承上的安装孔，以及若干个排布于承载座上并具菱形结构的镀膜孔。借由这些镀膜孔的构造设计可使得每次镀膜元件的数量增加。上述镀膜承载结构大致呈伞状，当将其安装于真空镀膜设备中时可提升其镀膜效率，其中镀膜伞是借助其安装孔轴设于动力源的轴心并可借由动力源驱动进行旋转，而镀材源与镀膜伞相对而设，遮板设置于镀膜伞与镀材源之间，用来调整镀膜元件的镀膜厚度。上述镀膜伞的每一镀膜孔均可安装一与其构形相同的菱形接合部，而每一菱形接合部均可容纳较多的镀膜元件。相较于现有技术，本专利技术通过对镀膜伞的结构进行改良，即改变镀膜伞的镀膜孔的设计，使其具菱形构造，从而提高镀膜伞的承载面积的利用率，况且因与菱形镀膜孔相匹配的接合部也具菱形构造，而该菱形接合部对镀膜元件的容纳量较大，借此双重结构将使得镀膜效率大大提升。附图说明图1是现有镀膜设备的构造示意图。图2是镀膜设备的镀膜伞的现有构造之一。图3A是镀膜设备的镀膜伞的现有构造之二。图3B是圆形镜片以矩形排列的方式排布于如图3A所示的现有镀膜伞上的其中一个方形接合部上的情况。图3C是圆形镜片以错位排列的方式排布于如图3A所示的现有镀膜伞上的其中一个方形接合部上的情况。图4A是本专利技术镀膜伞结构的改良。图4B是圆形镜片排布于如图4A所示的镀膜伞上的其中一个菱形接合部上的情况。具体实施方式如图4A与图4B所示，本专利技术镀膜伞1的改良结构包括有一伞形承载座11、一个与动力源轴承相连接的安装部(具体来讲是一安装孔14)、设置于承载座11上的若干个菱形镀膜孔10，以及若干个可夹持安装于这些镀膜孔10上的菱形接合部12，这些接合部12是与这些菱形镀膜孔10一一对应，且每一菱形接合部12上均安装有若干个镀膜元件13(请参图4B)。其中，安装孔14是位于伞形承载座11的中心，镀膜孔10是分布于安装孔14的周围并占据了伞形承载座11的整个外围，而菱形接合部12可以是以机械连接的方式安装至镀膜孔10上。与现有产品相似的是，本专利技术的镀膜伞1可以安装至如图1所示的镀膜设备上。其中，镀膜伞1是借由其安装孔14轴设于动力源的轴心并可借由动力源驱动进行旋转，而镀材源与镀膜伞1相对而设，遮板设置于镀膜伞1与镀材源之间，用来调整镀膜元件的镀膜厚度。但是，具相同承载面积的镀膜伞因所加工的镀膜孔的构形及排布方式不同而使其面积利用率也不相同，请同时参阅图2、图3A及图4A，当假定三个镀膜伞的直径均为950cm，用若干个直径为40cm的圆形镀膜孔80布满于现有镀膜伞8的承载座81上时，圆形镀膜孔80的数量可达79个，所以由这些圆形镀膜孔80所占用的镀膜伞8的面积S1可以用下列计算式得出S1＝(40*40*3.14159)*79＝397097cm2当用若干个相邻两边长均为80cm的方形镀膜孔70布满于现有镀膜伞7的承载座71上时，方形镀膜孔70的数量可达66个，所以由这些方形镀膜孔70所占用的镀膜伞7的面积S2也可以用下列计算式得出S2＝(80*80)*66＝422400cm2本专利技术所提供的镀膜伞1的承载座11上具有66个大小相等且相邻边长分别为90.1725cm与78.6025cm的较大菱形镀膜孔10，另外在承载座11的最外圈空间还可最大限度地再设置6个尺寸相同且相邻边长分别为62.3814cm与5本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种镀膜承载结构的改良，其应用于镀膜设备中作为镀膜夹治具以承载需镀膜的元件，该镀膜承载结构至少包括有：一个具有一定承载面积的承载座、位于承载座的中心并可将承载座连接至动力源轴承上的安装孔，以及若干个排布于承载座上的镀膜孔，其特征在于：镀膜孔是呈菱形结构，其可使得每次镀膜的元件数量增加，从而提升镀膜效率。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李荣洲，
申请(专利权)人：亚洲光学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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