磁控溅射卷绕镀膜机制造技术

本发明专利技术提供了一种磁控溅射卷绕镀膜机，至少包括有卷材放卷机构和／或收卷机构的真空室，至少一个镀膜真空室，连接收卷、放卷真空室及镀膜真空室的真空连接箱，其特征是有至少一个镀膜真空室中有真空镀膜箱体，位于真空镀膜箱体内的冷却辊，以冷却辊为中心周围布置有至少３组阴极和高低压真空泵及管道组成的真空抽气系统，磁控溅射的阴极的靶及靶芯设置在每个真空镀膜箱体中，阴极通过阴极法兰连接座以法兰连接形式安装在真空镀膜箱体壁上，气体、电源、冷却水连接管线置于真空镀膜箱体壁外，每组阴极之间有挡气隔离板将真空镀膜箱体壳体与冷却辊之间的空隙隔离形成抽气通道。本发明专利技术镀膜机能在塑料薄膜表面多层镀膜，且获得的镀膜表面微观结构非常致密，表面平滑。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种磁控溅射巻绕镀膜机，特别涉及的是一种具有多个 冷却辊及多个镀膜真空室的磁控溅射巻绕镀膜机。
技术介绍
在塑料薄膜上镀功能膜多采用巻绕镀膜方式，而要在塑料薄膜上镀 功能较好的功能膜如在聚酯膜上镀功能较好的低反射膜(Low-E膜)，至 少要镀双银结构膜也即要镀9层以上膜层，若镀可见光透过率大于85%， 电阻小于1 Q/口的电磁屏蔽膜(EMI膜)，则要镀四银结构即17层膜层， 镀每一层膜都需要配置一套阴极及靶芯，而传统的巻绕镀膜机采用单辊 整体式镀膜，既在一个镀膜真空室内安放一个冷棍、2:-3个阴极及靶芯 及巻材放巻机构、收巻机构，由于结构限制原因，不能在圆周排布多至 4组以上的阴极，不能适应一个镀程就可以镀4层以二不同功能或材料 的膜层，既使在一个镀膜真空室内安放两个冷棍、4-6个阴极及靶芯， 也排布不下17个阴极及靶位，达不到镀完17层膜的目的，若按传统方 式设计，至少要3个冷却辊，需太大的真空箱且阴极及靶芯全在真空箱 内，通水、通电的管线多，产生的气体放气量太大，不利真空泵经济的 运行，若要将此种镀膜机的镀膜速度提高到3米/分以上， 一次通过即 能成为合格膜的阴极需求数将超过20多个，也必须要考虑多个冷却辊 的结构设计及方便检修，节约真空泵功率的多个真空室的设计，因此， 传统的巻绕镀机不能适应一个镀程就可以镀4层以上不同功能或材料的膜层，生产不出膜层多、功能较好的功能性塑料薄膜。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服以上不足，提供一种产量高、设备成本低、能适应一个镀程就可以镀4层以上不同功能或材料的膜层的磁控溅射巻 绕镀膜机。本专利技术的目的是这样来实现的本专利技术磁控溅射巻绕镀膜机，至少包括有巻材放巻机构和/或收巻 机构的真空室，至少一个镀膜真空室，连接收巻、放巻真空室及镀膜真 空室的真空连接箱，其特征在于有至少一个镀膜真空室中有真空镀膜箱 体，位于真空镀膜箱体内的冷却辊，以冷却辊为中心周围布置有至少3 组阴极和高低压真空泵及管道组成的真空抽气系统，磁控溅射的阴极的 耙及耙芯设置在每个真空镀膜箱体中，阴极通过阴极法兰连接座以法兰 连接形式安装在真空镀膜箱体壁上，气体、电源、冷却水连接管线置于 真空镀膜箱体壁外，每组阴极之间有挡气隔离板将真空镀膜箱体壳体与 冷却辊之间的空隙隔离形成抽气通道。镀膜真空室的数量可根据镀层多 少来随意安排，这样每一个镀膜真空室中只安排一个冷棍和若干个阴极 及靶芯，而把巻材放巻机构、收巻机构及其真空室和衡张力控制系统全 部放在镀膜真空室外，大大减少了镀膜真空室体积，减轻了镀膜真空室 的设计和制造难度，又可一个镀程就可以镀4层以上不同功能或材料的 膜，当镀膜工艺的需要少用镀膜真空室时'，可以关闭单独的不用的镀膜 真空室，减少抽气真空泵的运行，每个镀膜真空室安置的单独组成的真 空镀膜箱体中，设置有磁控溅射的阴极及靶芯，也可根据镀膜工艺的需 要开启或关闭，每一组阴极及靶芯之间有挡气隔离板，使两组阴极之间的窜气率低于20%甚至于5%,同时，抽真空系统利用隔离板形成的通道和/或每组阴极之间设有两块挡气隔离板之间形成的通道抽气，沿冷却 辊圆周分布安装在镀膜真空室壳体上的阴极及靶芯至少为3组，特别是阴极在冷却辊圆周分布并安装在与衿却辊距离最佳的最短的真空箱体壳体外面，可以节约真空箱腔体体积。上述的镀膜真空室为二个。增加镀膜真空室，可增加镀膜层数。 上述的镀膜真空室为三个。要增加铍膜层数，还可继续排列多个镀膜真空室。上述的巻材放巻机构与巻材收巻机构同置于一个真空室内。将巻材 放巻机构与巻材收巻机构同置于一个真空室内，可方便在一个真空室内 同时完成对巻材的收取和安放，减少镀膜真空室内真空度损耗，减少抽 气真空泵的运行。上述的巻材放巻机构与巻材收巻机构分别设置在巻绕镀膜机两端 独立设立的真空室内。上述的两组阴极之间设立的挡气隔离板由两块隔离板组成抽气通道，抽气泵及抽气管道放置在真空镀膜箱体两端和/或真空镀膜箱体之 上。原有的技术一般两阴极之间只设一板隔板，在镀膜真空室两端头设 抽气管道及泵，但膜宽在1200mm以上时，只在两端头抽气，难以保证镀膜区全宽度上真空度，难保镀膜均匀度，所以可在两组阴极及耙芯之 间设立两块隔离板组成抽气通道，在两端头抽气同时，还可在真空镀膜 箱体之上设置抽气泵及抽气管道，利用两块隔板形成的通道抽气，使两 个阴极之间的加入的工艺气体不相窜，这种结构可以将冷却辊加长到 2.5m长，生产宽幅薄膜，且薄膜镀层均匀性很好。上述的在多个真空镀膜室的首个阴极安装位置安装溅射所产生的 等离子体使巻材镀前其表面被等离子体清洗的条形阴极离子源预处理 机构。条形离子源可对膜表面利用气体产生的辉光离子进行清洗和表面 处理，以保证后续镀膜质量，在一个真空镀膜室位置安置一个离子源清 洗，四个阴极靶，可实现四层镀膜，若在出膜方向再增加同样布置，可 再镀四层膜，若再增加同样布置，可再镀四层膜，即一次通过可镀十二 层膜。上述的巻材放巻真空室及收巻真空室与真空连接箱之间设置有可 以分隔两箱之间的真空度及真空状态的阀门，该阀门是翻板阀或闸板阀 或滚动橡胶辊组成的门阀。在被镀塑料膜通道特别是在拐弯处增设观察 窗口及门阀，可以方便连接和传送膜片，使原来传统巻绕镀膜机需要在 镀完一巻巻材后将巻绕机构及张力辊甚至阴极及靶从真空箱体中分离 开来，完成对巻材的收取和安放后重新对整个生产系统恢复抽真空，损 耗太大，而在分隔两箱之间安置阀门，换巻方式改变，仅开收放巻的真 空室门，真空镀膜室不再开启，能保证真空镀膜室中真空度基本不损耗， 完成对巻材的收取和安放后，仅恢复对巻材放巻机构与巻材收巻机构真 空室抽真空，抽真空快速，效率提高，节约开启大真空镀膜室重新恢复 工作真空的时间及能耗。本专利技术磁控溅射巻绕镀膜机改变了传统的巻绕镀膜机采用单辊整 体式镀膜结构，既在一个镀膜真空室内安放一个冷棍、2-3个阴极及靶 芯及巻材放巻机构、收巻机构，不能适应一个镀程就可以镀4层以上不 同功能或材料的膜层，生产不出膜层多、功能较好的功能性塑料薄膜， 本专利技术产量高、设备成本低、能适应一个镀程就可以镀4层以上不同功 能或材料的膜层，且获得的镀膜表面微观结构非常致密，表面平滑。附图说明-图1为本专利技术具有两个冷却辊及两个镀膜真空室的磁控溅射巻绕镀 膜机结构示意图。图2为本专利技术真空镀膜箱体局部放大图。 图3为图1中A向视图。图4为本专利技术磁控溅射巻绕镀膜机另一结构示意图。图5为镀膜真空室另一结构示意图。图6为本专利技术磁控溅射巻绕镀膜机再一结构示意图。图7为真空连接箱位于镀膜真空室下面的本专利技术磁控溅射巻绕镀膜机另一结构示意图。具体实施例方式实施例1:图1 图3给出了本专利技术实施例1图。参见图1 图3，本专利技术的磁 控溅射巻绕镀膜机结构示意图，本专利技术巻绕镀膜机中有放巻真空室1、位于放巻真空气壁上的用于换巻材的开启门2、位于放巻真空室内的放 巻机3、与放巻机配合由数个张力辊组成的薄膜衡张力控制系统30、外 购的薄膜控边器32、将要被镀的塑料薄膜4、已镀的塑料薄膜成品27、 两个镀膜真空室5、两个冷却薄膜的冷却辊6、十二个阴极法兰连接座7、 二个真空镀膜箱体31、真空连接箱8、抽真空用的滑阀泵9、罗茨泵10、 抽高真空度用的分子泵11、巻材镀前其本文档来自技高网...

【技术保护点】
磁控溅射卷绕镀膜机，至少包括有卷材放卷机构和／或收卷机构的真空室，至少一个镀膜真空室，连接收卷、放卷真空室及镀膜真空室的真空连接箱，其特征在于有至少一个镀膜真空室中有真空镀膜箱体，位于真空镀膜箱体内的冷却辊，以冷却辊为中心周围布置有至少３组阴极和高低压真空泵及管道组成的真空抽气系统，磁控溅射的阴极的靶及靶芯设置在每个真空镀膜箱体中，阴极通过阴极法兰连接座以法兰连接形式安装在真空镀膜箱体壁上，气体、电源、冷却水连接管线置于真空镀膜箱体壁外，每组阴极之间有挡气隔离板将真空镀膜箱体壳体与冷却辊之间的空隙隔离形成抽气通道。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：甘国工，
申请(专利权)人：甘国工，
类型：发明
国别省市：90[中国|成都]