用于平面显示器的化学气相沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术为一种用于平面显示器的化学气相沉积装置，包括：对平面显示器实施沉积加工的一反应室，一安装在反应室中的承载器，其举起且承载所述的平面显示器在其上表面，以及一位于所述的反应室外壁上的强制冷却部，通过冷却反应室的外壁来降低反应室内部的温度，强制冷却在沉积加工中被加热的承载器。因为承载器被强制冷却使得承载器的温度能在相当短的时间内降低至一适当值。所述的化学气相沉积装置的保养与维护时间能缩短，且化学气相沉积装置的生产力与运作效率增加，加工损失的产生减少，安装与保养／维修工作简单化，防止在反应室中产生粒子，及减轻承载器因为突然的热散失所造成的冲击，且防止承载器因为突然的温度不平衡而产生裂缝。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及的是一种气相沉积装置，特别涉及的是一种用于平面显示器的化学气相沉积装置，其中承载器(susceptor)会被强制冷却，使得其温度可在一相 当短的时间内降低至一适当程度。
技术介绍
平面显示器是被广泛地使用在个人携带式终端^L、电视或计算机显示器。 平面显示器包括很多种类例如液晶显示器(LCDs)、电浆显示面板(PDPs),以及 有机发光二极管(OLEDs)。在这些平面显示器中，LCD是由于两片薄上下玻璃 基板之间注入作为中间物质的液晶(处在固态与液态之间)所形成，且LCD是 一种使用光学切换现象的装置，其中数字或影像是通过使用上下玻璃基板间的 电压差来改变液晶分子配置以产生亮暗来显示。LCD是广泛使用在电子装置，例如电子钟、电子计算器、电^L、桌上型计 算机以及车辆与飞机上的转速计。一般来说，LCD电^见的屏幕大小可达20-30吋而显示器可达17吋或17吋着较大兴趣。因此，LCD制造商需要制造出较大的玻璃基板。近年来，所谓第 八代玻璃基板(约2x2米的大小)的量产是正在研发中。通过一连串的加工，包括TFT加工其中反复地进行沉积、微影、蚀刻、 化学气相沉积、用在结合上下玻璃基板的液晶胞加工，以及完成产品的模块化 加工，LCD是被制造出且最终进入市场。在 一 连串加工中的化学气相沉积加工中，通过以外部高频电源制造的电浆 获得高能量的以硅为基底的复合离子，其通过一电极从一气体分配面板中发射 出来且沉积在一玻璃基板上。所述的加工是在一进行化学气相沉积的反应室中 进行。在稍后的详细描述中，进行化学气相沉积加工的反应室是包括一上反应室与一下反应室。电极是位于上反应室中，而具有一用于接受沉积的玻璃基板位 于其上的承载器是位于下反应室。当玻璃基板承载在所述的承载器的上表面上时，所述的承载器是被加热至280-380度之间。然后，所述的承载器是被抬起且被放置在靠近所述的具有一下 电极的气体分配面板。通过所述的电极施加电压，其中所述的电才及是利用绝缘 材料铁氟龙与反应室绝缘。以硅为基底的复合离子是从具有多个孔的气体分配 面板中发射出来以实施玻璃基板的沉积加工。当沉积加工被反复地实施在玻璃 基板时，在反应室周围的结构与反应室中的多种部件是需要保养与维护。保养 与维护的工作必须等到被加热至280-380度的承载器的温度降低至IOO度以下且 暴露在外界空气中时才能进行。然而，市售的用于平面显示器的化学气相沉积装置一般需要24小时来使承 载器的温度从280-380度降低至100度以下来进行保养与维护，因此便有着需要 花很多时间来使承载器的温度下降以进行化学气相沉积装置保养与维护的问 题。这是因为在真空状态的反应室中，仅靠辐射作用进行热传导而已。因此，在现有技术中，由于保养与维护工作需要等承载器的温度从280-380 度降低至100度以下而浪费约24小时不能做任何事，因此所出现的问题就是保 养与维护工作的时间会拉长。据此，设备的运作效率便会低下且生产力便会恶 化使得会产生 一般加工损失。为解决上述问题，本案申请人是申请了韩国专利申请第2006-0009617与 2006-0011598号(两案均尚未公开)以提供一种通过于承载器中形成一冷却孔 并通过冷媒的直接冷却承载器的技术且还在下反应室安装一冷却块。然而，对于平面显示器用的化学气相沉积装置，是难以使用所述的方法。 例如，实际操作时是难以在承载器的上直接制作一冷却孔来使其进行冷却。且 使用分离制作的冷却块来冷却承载器也非易事。然而，由于承载器是一种坐落 于下反应室中的巨大结构，是难以在不将承载器与下反应室分开的情形下将冷 却块安装在下反应室的底面上，且日后的保养与维护也难以进行。另外，根据 沉积加工的特性，不能有微小粒子存在于反应室中。当在反应室中安装属于分 离结构的冷却块时，会从冷却块上产生粒子。此外，前述方法是属于直接冷却承载器的所谓直接冷却方法。因此，虽然 承载器的冷却时间能缩短，但因为承载器的快速冷却使得突然的温度不平衡会 使承载器产生裂痕。实际上，由于承载器属于非常贵重的产品，当裂痕产生时,承载器的更换会是财务上的负担。因此，是需要一种强制冷却承载器的方法，使得承载器的温度能在相当短 的时间内降低至一适当值，以满足缩短化学气相沉积装置保养与维护时间的需 求，且化学气相沉积装置的生产力与运作效率也能增加，加工损失的产生能减 少，安装与保养/维修工作能简单化，能防止在反应室中产生粒子，也能减轻承 载器因为突然的热散失所造成的冲击，且也能防止承载器因为突然的温度不平 衡而产生裂缝。
技术实现思路
为解决上述问题与/或其它问题，本专利技术是提供一种用于平面显示器的化学 气相沉积装置，其中承载器是被强制冷却使得承载器的温度能在相当短的时间 内降低至一适当值。因此所述的化学气相沉积装置的保养与维护时间能缩短， 且化学气相沉积装置的生产力与运作效率也能增加，加工损失的产生能减少， 安装与保养/维修工作能简单化，能防止在反应室中产生粒子，也能减轻承载器 因为突然的热散失所造成的冲击，且也能防止承载器因为突然的温度不平衡而 产生裂缝。根据本专利技术的一态样，用于平面显示器的化学气相沉积装置包含对平面显 示器实施沉积加工的一反应室， 一安装在反应室中的承载器，其是可举起且承 载所述的平面显示器在其上表面，以及一位于所述的反应室外壁上的强制冷却 部，以通过冷却反应室的外壁来降低反应室内部的温度来强制冷却在沉积加工 中被加热的承载器。所述的反应室包含具有用来清除沉积加工中沉积物质的电才及的上反应室， 以及具有承载器与一上部的下反应室，其中所述的上部是用来耦接上反应室。所述的强制冷却部包含耦接至所述的下反应室后表面的可分离冷却块，以 及位于所述的冷却块供冷媒循环的 一 冷却线路。在保养与维护所述的反应室时，冷媒是在冷却线路中循环。冷媒为水或氮气。所述的装置还包含一圆柱，其上端固定在所述的承载器后表面之中央区域， 其下端则通过所述的下反应室向下暴露，且承载所述的可升起的承载器，其中 强制冷却部是沿着所述的圆柱的外周围方向配置。冷却块包括多个部分分开的单元块。当承载器通过强制冷却部冷却且所述的平面显示器为LCD用的大型玻璃基 板时，所述的反应室是充填氢气或氦气。附图说明图1为根据本专利技术一实施例的用于平面显示器的化学气相沉积装置的横剖 面图2为图1的下反应室的底部侧视图； 图3为图2的强制冷却部的透视图；以及图4为本专利技术另一实施例的用于平面显示器的化学气相沉积装置的下反应 室的底部侧-f见图。附图标记说明10-上反应室；20-上反应室；20a-基板进入部；24-闸门阀； 30-电极；31-气体分配板；32-后板；34-绝缘件；35-悬置支撑件；36-上板；37-气体供应部；38-高频电源部；39-连接线；40-强化壁部；50-承载器；52-举针； 54-圆柱；56-承载器支撑；58-风箱管；60-抬升模块；70-强制冷却部；71-冷却 块；72-冷却线路；72a-端；72b-端；170-冷却部；171-冷却块；172-冷却线路；； B-緩冲空间；G-玻璃基板；S-沉积空间。具体实施例方式以下结合附图，对本专利技术上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。 图1为根据本专利技术一实施例的用于平面显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于平面显示器的化学气相沉积装置，其特征在于：包含：　　　　一反应室，其用以对平面显示器实施沉积加工；　　　　一承载器，其安装在反应室中，所述的承载器举起且承载所述的平面显示器在其上表面；以及　　　　一强制冷却部，其位于所述的反应室外壁上，通过冷却反应室的外壁来降低反应室内部的温度，用以强制冷却在沉积加工中被加热的承载器。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李相琝，张祥来，
申请(专利权)人：SFA股份有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]