掩模板、蒸镀设备和装置制造方法及图纸

一种掩模板、蒸镀设备和装置。该掩模板包括相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条，掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成构件的掩模图案，在第一掩模条和在第二掩模条的交叉区域，第一掩模条和第二掩模条共同构成该掩模图案的一部分。该掩模板可以降低掩模条的张网难度，提升掩模板的精度，从而提高利用该掩模板制造的装置的良率。

Mask, evaporation equipment and equipment

A mask, a steaming device and a device. The mask includes at least one first mask bar and at least one second mask bar intersected by each other. The mask is constructed as a member for forming a device and includes a mask pattern for forming a member. The first mask bar and the cross area in the second mask strip together constitute the first mask bar and the second mask strip. A part of a mask pattern. The mask can reduce the difficulty of the screen bar and enhance the accuracy of the mask, thereby improving the yield of the device made of the mask.

【技术实现步骤摘要】
掩模板、蒸镀设备和装置
本公开至少一个实施例涉及一种掩模板、蒸镀设备和装置。
技术介绍
随着电子显示产品的普及，用户对电子显示产品的功能、外观的要求进一步提高。例如，对于精细掩模板来说，如果用该掩模板形成的电子显示产品的结构层具有特殊的形状(例如弧形等)，则用于形成该构件的掩模条可能需要在原有形状的基础上进行相应的形变设计，如果形变过大，会极大增加掩模条的张网难度，使得掩模条张网时因变形而伸展不均匀，导致掩模板精度不良，影响利用该掩模板制造的电子显示产品的良率。
技术实现思路
本公开至少一个实施例提供一种掩模板，包括：相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条；所述掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成所述构件的掩模图案，在所述第一掩模条和在所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条和所述第二掩模条共同构成所述掩模图案的一部分。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，在利用所述掩模板形成所述构件时，所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域在所述装置的待形成的所述构件所在面上的正投影对应于所述构件的边角区域。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一掩模条沿与所述掩模板所在的第一平面平行的第一方向延伸，所述第二掩模条沿与所述第一平面平行的第二方向延伸；以及所述第一掩模条包括至少两个第一侧边，所述第二掩模条包括至少两个对应的第二侧边，在所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条的至少两个第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影和所述第二掩模条的对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影构成平滑相连的线段。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，在所述第一方向上，所述第一掩模条包括彼此交替设置的至少一个第一部分和至少一个第二部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第一方向的方向上，所述第二部分的宽度大于所述第一部分的宽度，所述第二部分的与所述第一部分连接的边为所述第一侧边；以及在所述第二方向上，所述第二掩模条包括彼此交替设置的至少一个第三部分和至少一个第四部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第二方向的方向上，所述第四部分的宽度大于所述第三部分的宽度，所述第四部分的与所述第三部分连接的边为所述第二侧边。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影与对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影至少部分重叠。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一掩模条为遮挡掩模条，所述第二掩模条为支撑掩模条，所述第二掩模条配置为支撑所述第一掩模条。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段的形状为圆弧形。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一方向与所述第二方向垂直，并且所述第一侧边的弧度为π/6～π/4，所述第二侧边的弧度为π/4～π/3。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段的弧度为π/2，并且所述线段的一个端点的切线与所述第一方向平行，所述线段的另一个端点的切线与所述第二方向平行。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段为直线段。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一方向和所述第二方向垂直，并且所述第一侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/3～1/2，所述第二侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/2～2/3。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段的延伸线所在的方向与所述第一方向和所述第二方向的夹角都为45度。本公开至少一个实施例提供一种蒸镀设备，包括前述任一实施例中的掩模板。本公开至少一个实施例提供一种装置，该装置的构件至少之一由前述任一实施例中的掩模板制备。例如，在本公开至少一个实施例提供的装置中，所述装置包括有机发光二极管显示面板，所述构件包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层和金属电极中的一种或者组合。在本公开至少一个实施例提供的掩模板、蒸镀设备和装置中，第一掩模条和第二掩模条共同构成用于形成装置中的构件的掩模图案，如此，可以降低每个掩模条的张网难度，从而提升掩模板的精度，并且提高利用该掩模板制备的装置的良率。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。图1为本公开一个实施例提供的掩模板的部分结构示意图；图2为图1所示掩模板A区域的一种结构示意图；图3A为图2所示掩模板中的第一掩模条的局部结构示意图；图3B为图2所示掩模板中的第二掩模条的局部结构示意图；图4为图1所示掩模板A区域的另一种结构示意图；图5A为图4所示掩模板中的第一掩模条的局部结构示意图；以及图5B为图4所示掩模板中的第二掩模条的局部结构示意图。附图标记：10-框架；100-第一掩模条；101-第一部分；102-第二部分；110-第一侧边；200-第二掩模条；201-第三部分；202-第四部分；210-第二侧边；1000-掩模板。具体实施方式为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。本公开至少一个实施例提供一种掩模板，包括：相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条；掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成构件的掩模图案，在第一掩模条和在第二掩模条的交叉区域，第一掩模条和第二掩模条共同构成掩模图案的一部分。当采用该掩模板形成的装置的构件的尺寸较大或用于形成弧度较大的弯曲形状等时，与单独一个掩模条形成情况相比，由两个彼此交叉的掩模条形成对应的掩模图案，这样，消除了单一一个掩模条因形变过大造成的张网困难的问题，减少或消除掩模条张网时因形变过大导致的伸展不均匀，提升了掩模板的精度，从而提高利用该掩模板制备的装置的良率。下面，结合附图对根据本公开至少一个实施例中的掩模板、蒸镀设备和装置进行说明。图1为本公开一个实施例提供的掩模板的部分结构示意图，图2为图1所示掩模板A区域的一种结构示意图。例如，在本公开至少一个实施例中，如图1和图2所示，掩模板1000包括相互交叉设置的至少一个第一掩模条100和至少一个第二掩模条200，掩模板1000构造为用于形成一装置的构件且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模板，包括：相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条；其中，所述掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成所述构件的掩模图案，在所述第一掩模条和在所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条和所述第二掩模条共同构成所述掩模图案的一部分。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板，包括：相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条；其中，所述掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成所述构件的掩模图案，在所述第一掩模条和在所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条和所述第二掩模条共同构成所述掩模图案的一部分。2.根据权利要求1所述的掩模板，其中，在利用所述掩模板形成所述构件时，所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域在所述装置的待形成的所述构件所在面上的正投影对应于所述构件的边角区域。3.根据权利要求2所述的掩模板，其中，所述第一掩模条沿与所述掩模板所在的第一平面平行的第一方向延伸，所述第二掩模条沿与所述第一平面平行的第二方向延伸；以及所述第一掩模条包括至少两个第一侧边，所述第二掩模条包括至少两个对应的第二侧边，在所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条的至少两个所述第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影和所述第二掩模条的对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影构成平滑相连的线段。4.根据权利要求3所述的掩模板，其中，在所述第一方向上，所述第一掩模条包括彼此交替设置的至少一个第一部分和至少一个第二部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第一方向的方向上，所述第二部分的宽度大于所述第一部分的宽度，所述第二部分的与所述第一部分连接的边为所述第一侧边；以及在所述第二方向上，所述第二掩模条包括彼此交替设置的至少一个第三部分和至少一个第四部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第二方向的方向上，所述第四部分的宽度大于所述第三部分的宽度，所述第四部分的与所述第三部分连接的边为所述第二侧边。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢飞，靳福江，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11