一种晶片清洗机供水系统技术方案
A water supply system for wafer cleaning machine
The utility model relates to the field of electronic technology, in particular to a water supply system for wafer cleaning machines. The utility model has simple structure, and the resistivity tester can monitor and measure the pure water in the water tank in real time, and feed back the resistivity of the pure water in time to reach the standard. If the resistivity is too low, the sound and light alarm will be triggered. The utility model has a heating device and a branch heater, which can effectively avoid the water temperature of the water supply because of the long water supply pipeline, and can not meet the water temperature requirements of the wafer cleaning. The setting of the branch heater can effectively protect the water supplied to the wafer during the process of cleaning the chip. Low metal impurity level and particle level on the surface of the semiconductor wafer are cleaned to ensure efficiency.
【技术实现步骤摘要】
一种晶片清洗机供水系统
本技术涉及电子
，具体涉及一种晶片清洗机供水系统。
技术介绍
随着半导体市场竞争的日趋激烈，降低能耗、节约成本、提升良率成为技术发展的核心，为了在清洗过程中降低半导体晶片表面中的金属杂质水平和粒子水平，需要保证所供应的水电阻率不能过低，因此需对所供应水的电阻率进行监测，现有的技术中不能实现，需要对其进行改进；另外，由于供水管道较长，当加热后的水经过较长的水管后进入清洗机可能已经达不到所要求的温度，由于水温不达标，可能会造成晶片清洗不干净，需要重新返工或进行二次清洗，影响工作效率。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术提供一种结构简单、实时监测水质电阻率且有效保证水温的晶片清洗机供水系统。本技术是通过以下技术方案实现的：一种晶片清洗机供水系统，包括水箱，所述水箱的中下部设置有加热装置，所述加热装置电连接温控器，所述水箱的侧壁上安装有水位感应器，所述水位感应器电连接报警器，所述水箱的顶端通过供水泵连接有至少两个并行支路，所述水箱与供水泵之间的管路上安装有流量控制阀，所述供水泵与至少两个并行支路之间的管路上设置有电阻率测试仪，所述电阻率测试...
【技术保护点】
一种晶片清洗机供水系统，其特征在于：包括水箱，所述水箱的中下部设置有加热装置，所述加热装置电连接温控器，所述水箱的侧壁上安装有水位感应器，所述水位感应器电连接报警器，所述水箱的顶端通过供水泵连接有至少两个并行支路，所述水箱与供水泵之间的管路上安装有流量控制阀，所述供水泵与至少两个并行支路之间的管路上设置有电阻率测试仪，所述电阻率测试仪连接声光报警器，各所述支路包括依次连接的支路加热器和支路清洗机。
【技术特征摘要】
1.一种晶片清洗机供水系统，其特征在于：包括水箱，所述水箱的中下部设置有加热装置，所述加热装置电连接温控器，所述水箱的侧壁上安装有水位感应器，所述水位感应器电连接报警器，所述水箱的顶端通过供水泵连接有至少两个并行支路，所述水箱与供水泵之间的管路上安装有流量控制阀，所述供水泵与至少两个并行支路之间的管路上设...
【专利技术属性】
技术研发人员：张威，马帅，
申请(专利权)人：江苏星浪光学仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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