一种金属连线恒温电迁移测试结构制造技术

本发明专利技术提出一种金属连线恒温电迁移测试结构，包括：下层金属测试线、金属通孔、下层金属连线、上层金属连线、测试金属垫、散热结构，其中所述下层金属测试线的两端连接于下层金属连线，所述下层金属连线分别通过金属通孔连接于所述上层金属连线，所述两条上层金属连线分别连接至测试金属垫，所述散热结构设置于所述下层金属连线和上层金属连线周围。本发明专利技术提出的金属连线恒温电迁移测试结构，用于解决现有技术中因为水库效应和金属引线温度较高引起的难以达成电迁移可靠性测试的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种金属连线恒温电迁移测试结构
本专利技术涉及电迁移测试结构的版图设计领域，且特别涉及一种金属连线恒温电迁移测试结构。
技术介绍
在铜互连工艺过程中，常规恒温电迁移测试结构通常使用同一层金属作为引线和测试线，如图1所示，金属测试线一般遵守最小尺寸设计规则，金属连线较宽。施加测试电流时，利用金属测试线在大电流下产生的焦耳热实现控制测试金属线的温度达到目标测试温度，从而实施电迁移测试。但是存在两个问题：一方面是水库效应的影响。金属测试线直接连接较宽的金属引线，在电迁移作用下下，阴极金属引线直接连接测试金属垫和金属测试线，较宽的金属引线和大块的测试金属垫会对金属测试线补偿金属原子，使得金属测试线难以出现失效。另一方面，在大的测试电流下，金属引线温度也较高，金属引线与金属测试线之间温度差异不大，在金属测试线上出现失效需要测试条件高，测试时间也长，影响可靠性测试的达成。
技术实现思路
本专利技术提出一种金属连线恒温电迁移测试结构，用于解决现有技术中因为水库效应和金属引线温度较高引起的难以达成电迁移可靠性测试的问题。为了达到上述目的，本专利技术提出一种金属连线恒温电迁移测试结构，包括：下层金属测试线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属连线恒温电迁移测试结构，其特征在于，包括：下层金属测试线、金属通孔、下层金属连线、上层金属连线、测试金属垫、散热结构，其中所述下层金属测试线的两端连接于下层金属连线，所述下层金属连线分别通过金属通孔连接于所述上层金属连线，所述两条上层金属连线分别连接至测试金属垫，所述散热结构设置于所述下层金属连线和上层金属连线周围。

【技术特征摘要】
1.一种金属连线恒温电迁移测试结构，其特征在于，包括：下层金属测试线、金属通孔、下层金属连线、上层金属连线、测试金属垫、散热结构，其中所述下层金属测试线的两端连接于下层金属连线，所述下层金属连线分别通过金属通孔连接于所述上层金属连线，所述两条上层金属连线分别连接至测试金属垫，所述散热结构设置于所述下层金属连线和上层金属连线周围。2.根据权利要求1所述的金属连线恒温电迁移测试结构，其特征在于，所述下层金属测试线的两端分别通过一个直角结构过渡连接至所述下层金属连线。3.根据权利要求1所述的金属连线恒温电迁移测试结构，其特征在于，所述下层金属连线分别通过一个或多个金属通孔连接于所述上层金属连线。4.根据权利要求1所述的金属连线恒温电迁移测试结构，其特征在于，所述每个测试金属垫包括经由金属通孔依次连接的多层金属层。...

【专利技术属性】
技术研发人员：王焱，陈雷刚，周柯，高金德，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31