防溅射分子沉骨架制造技术

本发明专利技术涉及一种用于地面电推进试验等离子空间环境模拟设备中的防溅射系统技术领域，尤其涉及一种防溅射分子沉骨架。防溅射分子沉骨架包括圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体；圆筒形防溅射靶骨架主体包括第一管、第二管和第一冷却管；底端防溅射靶骨架主体包括第三管、第四管和第二冷却管；第三管上连接有第二进液口，第四管上连接有第二出液口；还包括连接管；第二进液口和第二出液口均和连接管连通；连接管通过第一管和第二管与第一冷却管连通。本发明专利技术的在于提供一种防溅射分子沉骨架，以解决现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。

Anti sputtering molecular sinking skeleton

The invention relates to the technical field of anti sputtering system in the simulation equipment of the plasma space environment of the ground electric propulsion test, in particular to an anti sputtering molecular sinking skeleton. The anti sputtering framework includes a cylindrical anti sputtering target skeleton body and a bottom anti sputtering target skeleton body. The cylindrical anti sputtering target skeleton body consists of the first tube, the second tube and the first cooling tube, and the bottom anti sputtering target skeleton body includes the third tubes, the fourth tubes and the second cooling tubes, and the third pipes are connected to the second inlet port. The fourth pipe is connected with a second outlet, and a connecting pipe is also included; the second inlet and second outlet ports are connected with the connecting pipe, and the connecting pipe is connected to the first cooling tube through the first tube and the second tube. The present invention is to provide an anti sputtering molecular sinking skeleton to solve the technical problem that the anti sputtering target in the existing technology has poor effect on the reduction of sputtering products and reflux pollutants.

【技术实现步骤摘要】
防溅射分子沉骨架
本专利技术涉及一种用于地面电推进试验等离子空间环境模拟设备中的防溅射系统
，尤其是涉及一种防溅射分子沉骨架。
技术介绍
电推进羽流主要由气体电离形成的等离子体组成，包含束流等离子体和电荷交换等离子体，会对航天器产生溅射污染效应，既包括带电粒子和中性粒子的沉积污染，又有高速带电粒子对航天器表面溅射刻蚀造成的溅射污染。在地面电推进试验中，当高能束流离子和电荷交换离子碰撞于真空舱舱壁材料表面时，只要离子能量大于被碰撞材料的溅射阈值就会产生溅射污染，从而影响真空舱内粒子分布情况，严重影响实验结果。因此，需要对防溅射分子沉进行合理设计。国际上一些适用于电推进的大型真空舱的防溅射分子沉结构的设计结构主要有平板式，异形式两种。但是现有的的防溅射分子沉结构的防溅射靶的结构简单，且在进行长时间地面电推进实验以及沉积污染物成分、质量分析时，溅射产物的空间分布及返流污染物都会对实验结果造成影响。因此，本申请针对上述问题提供一种新的防溅射分子沉骨架。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种防溅射分子沉骨架，以解决现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防溅射分子沉骨架，其特征在于，包括圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体；所述圆筒形防溅射靶骨架主体包括第一管、第二管和第一冷却管；所述第一冷却管呈环形，且所述第一冷却管有多个，多个所述第一冷却管的轴线方向重合；多个所述第一冷却管通过所述第一管和所述第二管固定连接，形成圆筒形的侧部，且所述第一管、所述第二管和多个所述第一冷却管之间均相连通；所述第一管上连接有第一进液口，所述第二管上连接有第一出液口；所述底端防溅射靶骨架主体包括第三管、第四管和第二冷却管；所述第三管上连接有第二进液口，所述第四管上连接有第二出液口；所述第二冷却管有多个，且多个所述第二冷却管沿垂直于长度方向间隔设置；多个...

【技术特征摘要】
1.一种防溅射分子沉骨架，其特征在于，包括圆筒形防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶骨架主体；所述圆筒形防溅射靶骨架主体包括第一管、第二管和第一冷却管；所述第一冷却管呈环形，且所述第一冷却管有多个，多个所述第一冷却管的轴线方向重合；多个所述第一冷却管通过所述第一管和所述第二管固定连接，形成圆筒形的侧部，且所述第一管、所述第二管和多个所述第一冷却管之间均相连通；所述第一管上连接有第一进液口，所述第二管上连接有第一出液口；所述底端防溅射靶骨架主体包括第三管、第四管和第二冷却管；所述第三管上连接有第二进液口，所述第四管上连接有第二出液口；所述第二冷却管有多个，且多个所述第二冷却管沿垂直于长度方向间隔设置；多个所述第二冷却管通过所述第三管和所述第四管固定连接，且所述第三管、所述第四管和多个所述第二冷却管之间均相连通；还包括连接管；所述连接管呈环形，所述第二进液口和所述第二出液口均和所述连接管连通；所述连接管通过所述第一管和所述第二管与所述第一冷却管连通，且所述连接管的轴线方向与所述圆筒形的轴线方向重合，所述连接管令所述底端防溅射靶骨架主体形成所述圆筒形的底部。2.根据权利要求1所述的防溅射分子沉骨架，其特征在于，多个所述第一冷却管沿所述第一管的轴线方向均匀设置。3.根据权利要求1所述的防溅射分子沉骨架，其特征在于，所述第一管和所述第二管的轴线方向平行；所述第一管和所述第二管分别连接于所述第一冷却管沿径向方向的两端，且所述第一管和所述第二管分别连接于所述连接管沿径向方向的两端。4.根据权利要求3所述的防溅射分子沉骨架，其特征在于，所述防溅射分子沉骨架为卧式结构，且所述第一管位于所述第二管的底端。5.根据权利要求4所述的防溅射分子沉骨架，其特征在于，所述第三管位于所述第四管的底端；所...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡国飙，郑鸿儒，刘立辉，
申请(专利权)人：北京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：北京,11