一种低雾度红外截止滤光片制造技术

技术编号:17714986 阅读:77 留言:0更新日期:2018-04-15 04:33
本实用新型专利技术公开了一种低雾度红外截止滤光片,所述低雾度红外截止滤光片包括基板和设于所述基板表面的复合膜层,所述基板为玻璃基板,所述复合膜层通过交替叠合的高折射率材料层和低折射率材料层制成,通过选取形状规整的玻璃基板,采用超声波、离心甩干机、离子源分别对玻璃基板进行清洗、烘干及清扫后开始镀膜,镀膜时采用电子束加热蒸发,在膜层沉积过程离子束不断轰击辅助镀膜,该膜层在停止沉积时,关闭离子源挡板,此时会有特定能量的离子束继续轰击膜层,直到下一膜层开始沉积。与现有技术相比,本实用新型专利技术方法简单,科学合理,可以有效解决红外截止滤光片型变量大及发雾问题。

A low foggy infrared cut-off filter

【技术实现步骤摘要】
一种低雾度红外截止滤光片
本技术涉及光学部件制造
,具体涉及一种低雾度红外截止滤光片。
技术介绍
红外截止滤光片是一种允许可见光透过而截止或反射红外光的光学滤光片,主要用于数码相机、手机、电脑摄像头、监视器、可视电话,通过表面设有的膜层将通过摄相镜头后的光波滤去高频段,只让一定范围内的低频光波通过。在镜头和CCD或CMOS图像传感器之间加上光学玻璃手机滤片,能有效抑制高于CCD或CMOS图像传感器空间频率的光波通过而引起波纹扰动,并有效地抑制红外光波,提高彩色CCD、CMOS图像传感器有效分辨率和彩色还原性,使图像清晰和稳定。现有生产工艺,在膜层切换过程中离子束完全被遮挡,不足之处是难以满足特定产品低雾度的外观要求;离子源清扫效率低,导致镀膜效率变低;在镀膜阶段,膜层停止沉积时离子束不能持续轰击,导致镀膜后的膜层致密度不高,粗糙度增加,散射增加;另外光谱不够稳定,不能解决镀膜时的发雾问题。
技术实现思路
为解决上述缺陷,本技术的目的是提供一种低雾度红外截止滤光片,可以有效解决红外截止滤光片型变量大及发雾问题。为达到上述目的,本技术采用的技术方案是:一种低雾度红外截止滤光片,包括基板和设本文档来自技高网...
一种低雾度红外截止滤光片

【技术保护点】
一种低雾度红外截止滤光片,其特征在于:包括基板和设于所述基板表面的复合膜层,所述基板为玻璃基板,所述复合膜层通过交替叠合的高折射率材料层和低折射率材料层制成,所述高折射率材料层为二氧化钛、五氧化三钛、五氧化二钽或五氧化二铌材料层,所述低折射率材料层为二氧化硅、三氧化二铝或氟化镁材料层。

【技术特征摘要】
1.一种低雾度红外截止滤光片,其特征在于:包括基板和设于所述基板表面的复合膜层,所述基板为玻璃基板,所述复合膜层通过交替叠合的高折射率材料层和低折射率材料层制成,所述高折射率材料层为二氧化钛、五氧化三钛、五氧化二钽或五氧化二铌材料层,所述低折射...

【专利技术属性】
技术研发人员:李智超付勇焦涛涛孙波张昊
申请(专利权)人:利达光电股份有限公司
类型:新型
国别省市:河南,41

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