The utility model provides a limit grinding disc and grinding equipment, which limit the abrasive disc, including disc main body; a plurality of limiting structure mounted on the disc body, a plurality of limiting structure in the center of circle array, the main disc in which each limiting structure with respect to the end mill wheel body do vertical movement. Through the technical scheme of the utility model, increase the controllability of the product, by adjusting a plurality of limiting height of the structure, first of all to the wafer is fixed on the stationary limit grinding wheel, the wafer surface to be processed in parallel, and then determine the thickness, which in turn regulates multiple limiting structure of the surface the processing of the wafer steadily increased the height of the corresponding value, finally start processing, enhance the controllability of the process, reduce the uneven thickness of the processing, and reduce the rate of lobes and the rejection rate, at the same time, reduces the operation time, improve processing efficiency.
【技术实现步骤摘要】
限位研磨盘和研磨设备
本技术涉及半导体领域,具体而言,涉及一种限位研磨盘和一种研磨设备。
技术介绍
由于晶圆片的衬底存在电阻,会产生发热现象,因此,在光接收器件的制作过程中,需要通过减薄工艺将晶圆片衬底减薄一定的厚度,来降低电阻减少发热现象,提高光接收器件的性能,相关技术中,由于磨盘本身的平整度与平行度不高,对晶圆片的粘接难度大,需要反复测量与粘接严重影响工作效率,增加了人员操作时间和不可控因素,不能有效控制减薄厚度,减薄厚度不均匀的问题时有发生,无形中增加了裂片率和报废率。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。为此,本技术的一个目的在于提供一种限位研磨盘。本技术的另一个目的在于提供一种研磨设备。为实现上述目的,本技术第一方面的实施例提供了一种限位研磨盘,包括:磨盘主体;多个限位结构,安装于磨盘主体,多个限位结构以磨盘主体的中心圆周阵列,其中,每个限位结构相对于磨盘主体的端面做垂直运动。在该技术方案中,通过在磨盘主体安装多个限位结构,且多个限位结构以磨盘主体的中心圆周阵列,每个限位结构相对于磨盘主体的端面做垂直运动,增加了产品的可控性,通过调节多个限位结构的高度,首先能够将晶圆片平稳的固定在磨盘主体上,使晶圆片的待加工表面平行,然后确定加工厚度,依次调节多个限位结构,使晶圆片的待加工表面平稳上升对应的高度值,最后开始加工,增强了加工过程的可控性,减少了加工厚度不均匀的情况,进而减小了裂片率和报废率,同时,减少了人员操作时间,提高了加工效率。另外,本技术提供的上述实施例中的限位研磨盘还可以具有如下附加技术特征:在上述技术方案中,优 ...
【技术保护点】
一种限位研磨盘,其特征在于,包括:磨盘主体;多个限位结构,安装于所述磨盘主体,所述多个限位结构以所述磨盘主体的中心圆周阵列,其中,每个所述限位结构相对于所述磨盘主体的端面做垂直运动;多个安装孔,每个所述安装孔连通所述磨盘主体的端面和侧面,每个所述限位结构对应安装于每个所述安装孔;其中,所述限位结构包括:限位柱;固定套,盖设于所述磨盘主体的端面的所述安装孔上,且所述固定套的端面与所述磨盘主体的端面平齐,所述固定套的端面设有与所述限位柱配合的配合孔;调节销,设于所述安装孔,所述调节销一端设置在所述磨盘主体的侧面,所述调节销的另一端与所述限位柱配合设置,所述调节销调节所述限位柱的高度。
【技术特征摘要】
1.一种限位研磨盘,其特征在于,包括:磨盘主体;多个限位结构,安装于所述磨盘主体,所述多个限位结构以所述磨盘主体的中心圆周阵列,其中,每个所述限位结构相对于所述磨盘主体的端面做垂直运动;多个安装孔,每个所述安装孔连通所述磨盘主体的端面和侧面,每个所述限位结构对应安装于每个所述安装孔;其中,所述限位结构包括:限位柱;固定套,盖设于所述磨盘主体的端面的所述安装孔上,且所述固定套的端面与所述磨盘主体的端面平齐,所述固定套的端面设有与所述限位柱配合的配合孔;调节销,设于所述安装孔,所述调节销一端设置在所述磨盘主体的侧面,所述调节销的另一端与所述限位柱配合设置,所述调节销调节所述限位柱的高度。2.根据权利要求1所述的限位研磨盘,其特征在于,还包括:限位凸起,设于所述限位柱的周侧;弹簧,套设于所述限位柱上,所述弹簧位于所述限位凸起和所述固定套之间,在所述弹簧不受力的情况下,所述限位柱的伸出端的端面低于所述固定套的端面。3.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:曾建武,刘宏亮,刘格,徐虎,
申请(专利权)人:深圳市芯思杰智慧传感技术有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。