氮化镓高电子迁移率晶体管的漏极调制电路制造技术

技术编号:17394927 阅读:72 留言:0更新日期:2018-03-04 18:24
本公开涉及一种氮化镓高电子迁移率晶体管的漏极调制电路。本公开氮化镓高电子迁移率晶体管的漏极调制电路,包括:脉冲驱动电路、开关电路和过冲保护电路;所述脉冲驱动电路用于产生两路电平相反的脉冲信号;所述开关电路用于控制N型金属氧化物半导体NMOS的开通和关断;所述过冲保护电路用于控制所述氮化镓高电子迁移率晶体管GaN HEMT的漏极调制电路的输出电压。本公开采用NMOS作为电源与GaN HEMT的漏极之间的开关器件,其尺寸较小、价格相对便宜,降低了电路的整体成本与面积,并且解决了在电源电流剧烈变化时产生的巨大过冲,保护了GaN HEMT的漏极调制电路中的NMOS开关器件,提高了电路的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
氮化镓高电子迁移率晶体管的漏极调制电路
本公开涉及电路技术,具体地,涉及一种氮化镓高电子迁移率晶体管的漏极调制电路。
技术介绍
通常氮化镓高电子迁移率晶体管(GaNHighElectronMobilityTransistor,简称:GaNHEMT)的栅极电压需要为负电压,当栅极电压为0V时,GaNHEMT处于强导通状态,如果GaNHEMT的漏极电压仍在工作状态,则会产生大电流,使得GaNHEMT被烧毁。因此当GaNHEMT的栅极电压没有正确加载时,一定要确保GaNHEMT的漏极不会上电。基于此,为了保护GaNHEMT,需要在GaNHEMT的漏极与电源之间设置开关,当栅极电压没有正确加载时,可以通过关断开关保护GaNHEMT。更甚者,在脉冲应用中,除了在脉冲间隙也需要将电源关断,还需要在纳秒级别的时间内将GaNHEMT的漏极电压降至0V。相关技术中,常用的开关是P型金属氧化物半导体(PMetalOxideSemiconductor,简称:PMOS)开关器件。但是PMOS开关器件由于其载流子迁移率较低,为了实现相应的导通能力,PMOS开关器件会占用较大的印制电路板(PrintedCirc本文档来自技高网...
氮化镓高电子迁移率晶体管的漏极调制电路

【技术保护点】
一种氮化镓高电子迁移率晶体管GaNHEMT的漏极调制电路,其特征在于,包括:脉冲驱动电路、开关电路和过冲保护电路;所述脉冲驱动电路用于产生两路电平相反的脉冲信号;所述开关电路用于控制N型金属氧化物半导体NMOS的开通和关断;所述过冲保护电路用于控制所述GaNHEMT的漏极调制电路的输出电压。

【技术特征摘要】
1.一种氮化镓高电子迁移率晶体管GaNHEMT的漏极调制电路,其特征在于,包括:脉冲驱动电路、开关电路和过冲保护电路;所述脉冲驱动电路用于产生两路电平相反的脉冲信号;所述开关电路用于控制N型金属氧化物半导体NMOS的开通和关断;所述过冲保护电路用于控制所述GaNHEMT的漏极调制电路的输出电压。2.根据权利要求1所述的GaNHEMT的漏极调制电路,其特征在于,所述开关电路包括:第一输入端口、第二输入端口、第一放大器、第二放大器、第一NMOS及第二NMOS;其中,所述第一输入端口与所述第一放大器的一个引脚连接,所述第一放大器的另一个引脚与所述第一NMOS的栅极连接;所述第二输入端口与所述第二放大器的一个引脚连接,所述第二放大器的另一个引脚与所述第二NMOS的栅极连接;所述第一NMOS和所述第二NMOS串联,所述第一NMOS的漏极连接第一电源,所述第二NMOS的源极接地;所述第一NMOS和所述第二NMOS之间连接有所述GaNHEMT的漏极调制电路的输出端口;所述GaNHEMT的漏极调制电路的输出端口与所述GaNHEMT的漏极连接。3.根据权利要求2所述的GaNHEMT的漏极调...

【专利技术属性】
技术研发人员:多新中陈容传李宝国马勇
申请(专利权)人:北京华通芯电科技有限公司
类型:新型
国别省市:北京,11

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