一种晶片清洗机水槽制造技术

本实用新型专利技术涉及一种晶片清洗机水槽，属于清洁设备技术领域。本实用新型专利技术包括不锈钢槽体和总水管，所述槽体内设有放置晶片的花篮，所述槽体顶部安装有若干喷淋管，喷淋管的一端与总水管通过分水管Ⅰ连接，分水管Ⅰ上设有气动阀Ⅰ，所述槽体底部设有不连续镂空底板，底板间隔内安装有滚轴，滚轴连接有驱动装置，所述槽体侧板上滚轴的下部还开有进水口，进水口与总水管之间通过分水管Ⅱ连接，分水管Ⅱ上设有气动阀Ⅱ，所述气动阀Ⅰ、气动阀Ⅱ、气动泵均与PLC控制器连接，所述槽体底板开有排水口，与现有技术相比，本实用新型专利技术实现了晶片洁净度高，洁净度一致性好的效果。

A wafer cleaning machine

The utility model relates to a water trough of a wafer cleaning machine, which belongs to the technical field of cleaning equipment. The utility model comprises a stainless steel tank and water mains, the basket is provided with a groove in the wafer is placed, the tank top is provided with a plurality of spray pipe, one end of the spray pipe and water mains connected by water pipes of water, I divided a pneumatic valve 1, the bottom of the tank is provided with a discontinuous hollow floor. Floor spacing is installed in the roller, roller is connected with a driving device, the lower part of the body side roller is provided with a water inlet, between the water inlet and the water mains water pipe through the connection pipe of Division II, a pneumatic valve of the pneumatic valve 1, pneumatic valve, pneumatic pump and 2 the PLC controller is connected to the tank bottom plate is provided with a water outlet, compared with the prior art, the utility model realizes the wafer of high purity, cleanliness and good consistency effect.

【技术实现步骤摘要】
一种晶片清洗机水槽
本技术涉及一种晶片清洗机水槽，属于清洗设备

技术介绍
超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。现有晶片清洗装置均为QDR水槽，使用超声波进行清洗，水槽作业时将晶片放于水槽底部，程序开始喷淋，但是晶片不旋转，存在清洗死角，比如与卡塞接触部位无法冲洗干净，晶片顶部冲洗洁净度更高；晶片表面洁净度不一致，部分位置脏污聚集，影响洁净良率。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有晶片清洗机水槽存在的上述缺陷，提出了一种晶片洁净度高，洁净度一致性好的晶片清洗机水槽。本技术是采用以下的技术方案实现的：一种晶片清洗机水槽，包括不锈钢槽体和总水管，所述槽体内设有放置晶片的花篮，所述槽体顶部安装有若干喷淋管，喷淋管的一端与总水管通过分水管Ⅰ连接，分水管Ⅰ上设有气动阀Ⅰ，所述槽体底部设有不连续镂空底板，底板间隔内安装有滚轴，滚轴连接有驱动装置，所述槽体侧板上滚轴的下部还开有进水口，进水口与总水管之间通过分水管Ⅱ连接，分水管Ⅱ上设有气动阀Ⅱ，所述气动阀Ⅰ、气动阀Ⅱ、气动泵、滚轴均与PLC控制器本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶片清洗机水槽，其特征在于：包括不锈钢槽体和总水管(9)，所述槽体内设有放置晶片的花篮，所述槽体顶部安装有若干喷淋管(2)，喷淋管(2)的一端与总水管(9)通过分水管Ⅰ连接，分水管Ⅰ上设有气动阀Ⅰ(7)，所述槽体底部设有不连续镂空底板(4)，底板间隔内安装有滚轴(3)，滚轴(3)连接有驱动装置，所述槽体侧板上滚轴(3)的下部还开有进水口(10)，进水口(10)与总水管(9)之间通过分水管Ⅱ连接，分水管Ⅱ上设有气动阀Ⅱ(8)，所述气动阀Ⅰ(7)、气动阀Ⅱ(8)、气动泵(12)、滚轴(3)均与PLC控制器连接，所述槽体底板开有排水口(11)。

【技术特征摘要】
1.一种晶片清洗机水槽，其特征在于：包括不锈钢槽体和总水管(9)，所述槽体内设有放置晶片的花篮，所述槽体顶部安装有若干喷淋管(2)，喷淋管(2)的一端与总水管(9)通过分水管Ⅰ连接，分水管Ⅰ上设有气动阀Ⅰ(7)，所述槽体底部设有不连续镂空底板(4)，底板间隔内安装有滚轴(3)，滚轴(3)连接有驱动装置，所述槽体侧板上滚轴(3)的下部还开有进水口(10)，进水口(10)与总水管(9)之间通过分水管Ⅱ连接，分水管Ⅱ上设有气动阀Ⅱ(8)，所述气动阀Ⅰ(7)、气动阀Ⅱ(8)、气动泵(12)、滚轴(3)均与PLC控制器连接，所述槽体底板开有排水口(11)。2.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：楚玉环，
申请(专利权)人：青岛嘉星晶电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：山东,37