The invention relates to a method of ultrasonic assisted grinding and polishing, which belongs to the field of material processing technology. The method of ultrasonic aided grinding and polishing is composed of ultrasonic assisted polishing and polishing machine and polishing machine. The pretreatment of the silicon carbide wafer material ultrasonic, can first remove some of the material surface modification layer, removing surface part of impurities, activation of the surface of the material, and then polishing on the material used for surface grinding machine, silicon carbide wafer material to achieve high precision purpose. The invention solves the problem of high precision surface polishing technology of silicon carbide used, using ultrasonic to liquid molecular pressure force characteristics, greatly improve the surface precision of silicon carbide wafer material, the surface roughness is reduced by 11%, is of great significance to promote the transformation of development mode, conventional grinding and polishing.
【技术实现步骤摘要】
一种超声波辅助研磨抛光的方法
本专利技术属于材料加工
更具体地,本专利技术涉及一种超声波辅助研磨抛光的方法。
技术介绍
纳米技术手段的应用使仪器对本身的精密程度做出了新的要求,而超精密仪器器件的加工变得越来越重要,这使得超精密仪器器件加工的方法也越来越多,超声波因为其特有的性质,可以让液体分子产生瞬间的高压和冲击力,让无数的液滴均匀的冲击被加工的工件,故能在超精密仪器器件工具的研磨抛光中得到利用。超声波辅助研磨抛光的特点就是利用超声波发生器的高频振动不断冲击被加工的工件表面,达到去除工件表面遗留的变质层的一种研磨方式,然后利用研磨抛光机对工件表面进行进一步的精细研磨抛光的过程,并对碳化硅材料表面的杂质进行脱落。通过两次粗研磨抛光和精细研磨抛光后,使基质表面达到平整光滑。然而,因为技术的原因,使得现有的研磨抛光都不能很好地做到超精细的研磨抛光,降低研磨的效率和质量。为了更好的解决现有技术的缺陷,本专利技术在总结现有的技术基础上,通过大量的实验和分析,本专利技术人研制出一种超声波辅助研磨抛光的方法,解决超精细研磨抛光的问题,提高研磨质量和效率。
技术实现思路
要解决的技术问题]本专利技术的目的是提供一种研磨抛光的方法。本专利技术的另一个目的是提供所述超声波辅助研磨抛光的方法。技术方案]本专利技术是通过下述技术方案实现的。本专利技术涉及一种超声波辅助研磨抛光的方法。所述的超声波辅助研磨抛光的方法步骤如下:A、超声波研抛将待研磨抛光的材料放置在超声波清洗槽内,并控制超声波清洗槽内液体的温度为50~70℃,控制超声波的频率为30~40KHz、功率为120~180 ...
【技术保护点】
一种超声波辅助研磨抛光的方法,其特征在于该方法的步骤如下:A、超声波研抛将待研磨抛光的材料放置在超声波清洗槽内,并控制超声波清洗槽内液体的温度为50~70℃,控制超声波的频率为30~40KHz、功率为120~180W、时间为10~30min后测量待研抛材料的表面参数,然后B、抛光机研抛打开抛光机开关,在2~4psi压力下和60~100r/min转速下使用金刚石研磨膏对超声波研抛处理好的待研抛材料进行研磨抛光,研磨抛光的时间为15~30S,然后C、研磨抛光结束后,测定待研抛材料的表面参数。
【技术特征摘要】
1.一种超声波辅助研磨抛光的方法,其特征在于该方法的步骤如下:A、超声波研抛将待研磨抛光的材料放置在超声波清洗槽内,并控制超声波清洗槽内液体的温度为50~70℃,控制超声波的频率为30~40KHz、功率为120~180W、时间为10~30min后测量待研抛材料的表面参数,然后B、抛光机研抛打开抛光机开关,在2~4psi压力下和60~100r/min转速下使用金刚石研磨膏对超声波研抛处理好的待研抛材料进行研磨抛光,研磨抛光的时间为15~30S,然后C、研磨抛光结束后,测定待研抛材料的表面参数。2.根据权利要求1所述的超声波辅助研磨抛光的方法,其特征在于步骤A中,所述的超声波清洗槽内含有可以对液体加热的热电阻。3.根据权利要求1所述的超声波辅助研磨抛光的方法,其特征在于步骤A中,所述的超声波清洗槽内的液体为蒸馏水、无水乙醇等。4.根据权利要求1所述的超声波辅助研磨抛光的...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈菓,李毅恒,冯康露,何奥希,彭金辉,
申请(专利权)人:云南民族大学,
类型:发明
国别省市:云南,53
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