一种拼接式的干法刻蚀设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种拼接式的干法刻蚀设备，包括有设置于反应腔内的多个托盘单元、以及至少一个用于放置被刻蚀件的安装座，多个所述托盘单元组合拼接成固定托盘，其中，多个所述托盘单元组合成型有至少一个供安装座相配合安装的安装槽；所述多个托盘单元组合拼接以将安装座及放置于安装座顶面上的被刻蚀固定安装于安装槽中。

A spliced dry etching equipment

The utility model discloses a splicing type dry etching equipment, comprising a plurality of tray unit, is arranged in the reaction chamber and at least one seat is installed for placing a plurality of etching, the tray unit spliced into a fixed tray, wherein the plurality of tray unit is provided with at least one a mounting seat is matched with the mounting groove for installation; the plurality of tray unit combination to mounting seat and placed on the top surface of the mounting seat is fixed on the mounting groove etching.

【技术实现步骤摘要】
一种拼接式的干法刻蚀设备
本技术涉及刻蚀设备的
，尤其是指一种拼接式的干法刻蚀设备。
技术介绍
通常干法刻蚀是将刻蚀气体通入反应腔中与晶圆表面的物质发生化学变化，即在晶圆上使用非液体的方法刻蚀出合乎要求的微观图形，是生产平面光波导芯片产品的重要步骤之一。在现有刻蚀设备中，在刻蚀晶圆的同时，托盘也由于刻蚀作用而损耗，而托盘上放置晶圆处由于晶圆的遮挡，磨损速度远慢直接与刻蚀气体接触的位置，在使用一段时间后，就需要对整个托盘进行更换或进行维修，但托盘上放置晶圆处的磨损程度并未达到需要更换的要求，其次，由于托盘的造价高，从而造成了企业资源的浪费，加重了企业的生产负担。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种拼接式的干法刻蚀设备。为了实现上述的目的，本技术所提供的一种拼接式的干法刻蚀设备，包括有设置于反应腔内的多个托盘单元、以及至少一个用于放置被刻蚀件的安装座，多个所述托盘单元组合拼接成固定托盘，其中，多个所述托盘单元组合成型有至少一个供安装座相配合安装的安装槽；所述多个托盘单元组合拼接以将安装座及放置于安装座顶面上的被刻蚀固定安装于安装槽中。进一步，所述被刻蚀件为晶圆。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种拼接式的干法刻蚀设备，包括有设置于反应腔（1）内的多个托盘单元（21）、以及至少一个用于放置被刻蚀件的安装座（3），其特征在于：多个所述托盘单元（21）组合拼接成固定托盘（2），其中，多个所述托盘单元（21）组合成型有至少一个供安装座（3）相配合安装的安装槽；所述多个托盘单元（21）组合拼接以将安装座（3）及放置于安装座（3）顶面上的被刻蚀固定安装于安装槽中。

【技术特征摘要】
1.一种拼接式的干法刻蚀设备，包括有设置于反应腔（1）内的多个托盘单元（21）、以及至少一个用于放置被刻蚀件的安装座（3），其特征在于：多个所述托盘单元（21）组合拼接成固定托盘（2），其中，多个所述托盘单元（21）组合成型有至少一个供安装座（3）相配合安装的安装槽；所述多个托盘单元（21）组合拼接以将安装...

【专利技术属性】
技术研发人员：李东滨，黎培朝，
申请(专利权)人：广东瑞芯源技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44