在OLED上形成无机薄层的方法技术

本发明专利技术涉及一种在OLED上形成无机薄层的方法，尤其是以原子层沉积方法在有机发光二极管衬底上形成氧化铝薄膜的方法，所述方法包括以下步骤：1)在排出线路上安装湿气移除捕集器，所述排出线路用于排出真空腔室中的气体，所述真空腔室设有工艺气体供应单元和工艺气体排出单元；2)准备有机发光二极管被形成于其上的衬底；3)将所述衬底运载至所述真空腔室的内部；4)通过打开在所述湿气移除捕集器的前面安装的闸门阀来移除所述真空腔室中的湿气；5)以使用H2O作为工艺气体的原子沉积方法在所述衬底上形成氧化铝薄膜；以及6)通过打开在所述湿气移除捕集器的前面安装的闸门阀来移除其中完成了薄膜沉积工艺的所述真空腔室中的湿气。

A method of forming an inorganic thin layer on OLED

The invention relates to a method for forming an inorganic layer on OLED, especially the method using atomic layer deposition method for forming aluminum oxide film in organic light emitting diode substrate, wherein the method comprises the following steps: 1) installed in the discharge line to remove moisture on the collector, the discharge circuit for discharging gas in a vacuum chamber the process of the vacuum chamber is provided with a gas supply unit and gas discharge unit; 2) substrate prepared organic light-emitting diode is formed thereon; 3) inside the substrate carrier to the vacuum chamber; 4) through a gate valve open the front collector in the installation of moisture removal to remove the moisture of the vacuum chamber; 5) to use H2O as a process gas atom deposition aluminum oxide film formed on the substrate; and 6) through the opening in the trap to remove moisture The gate valve installed at the front of the device removes the moisture in the vacuum chamber that has completed the film deposition process.

【技术实现步骤摘要】
在OLED上形成无机薄层的方法
本专利技术涉及一种在有机发光二极管衬底上形成氧化铝薄膜的方法，并且更特别地涉及一种以原子层沉积方法在有机发光二极管衬底上形成氧化铝薄膜的方法，所述方法可以通过完美的湿气移除工艺来防止有机发光二极管的损伤，而同时以使用水的原子层沉积方法在有机发光二极管衬底上有效地形成氧化铝薄膜。
技术介绍
近期，将各种信息实施成屏幕的图像显示装置向着将所述装置实施成具有高性能而同时更薄、更轻且易于运载的方向发展，这归功于信息通信时代的核心技术。对于图像显示装置的要求导致了诸如液晶显示器(LCD)、等离子显示面板(PDP)、电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)、有机发光显示器(OLED)等的各种平板显示装置的技术的研究和发展。特别地，研究和发展近期集中在能够实施图像显示装置的柔性特征的OLED上。OLED是通过控制从有机发光层发出的光的量来显示图像的显示装置，所述有机发光层是用于将来自电子注入电极(阴极)和空穴注入电极(阳极)的电子和空穴注入发光层中并且当将所注入的电子与空穴结合的激子从受激状态跌落至基态时发光的装置。OLED之中的有源矩阵OLED(AMOLE本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种形成氧化铝薄膜的方法，所述形成氧化铝薄膜的方法以原子层沉积方法在有机发光二极管衬底上形成氧化铝薄膜，所述形成氧化铝薄膜的方法包括以下步骤：1)在排出线路上安装湿气移除捕集器，所述排出线路用于排出真空腔室中的气体，所述真空腔室设有工艺气体供应单元和工艺气体排出单元；2)准备有机发光二极管被形成于其上的衬底；3)将所述衬底运载至所述真空腔室的内部；4)通过打开所述湿气移除捕集器的前面的闸门阀来移除所述真空腔室中的湿气；5)以使用H2O作为工艺气体的原子沉积方法在所述衬底上形成氧化铝薄膜；以及6)通过打开在所述湿气移除捕集器的前面安装的闸门阀来移除其中完成了薄膜沉积工艺的所述真空腔室中的湿气。

【技术特征摘要】
1.一种形成氧化铝薄膜的方法，所述形成氧化铝薄膜的方法以原子层沉积方法在有机发光二极管衬底上形成氧化铝薄膜，所述形成氧化铝薄膜的方法包括以下步骤：1)在排出线路上安装湿气移除捕集器，所述排出线路用于排出真空腔室中的气体，所述真空腔室设有工艺气体供应单元和工艺气体排出单元；2)准备有机发光二极管被形成于其上的衬底；3)将所述衬底运载至所述真空腔室的内部；4)通过打开所述湿气移除捕集器的前面的闸门阀来移除所述真空腔室中的湿气；5)以使用H2O作为工艺气...

【专利技术属性】
技术研发人员：申雄澈，崔圭政，白敏，
申请(专利权)人：NCD有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR