用于彩膜基板的色阻材料及彩膜基板色阻图案的制备方法技术

本发明专利技术提供一种用于彩膜基板的色阻材料及彩膜基板色阻图案的制备方法，该用于彩膜基板的色阻材料包括：多官能团单体，所述多官能团单体包括二乙烯基苯单体。本发明专利技术提供的用于彩膜基板的色阻材料及彩膜基板的色阻图案的制备方法，能够降低色阻图案在电场中的节点损失率，提高色阻材料的电学稳定性，不影响透光率，并且不改变现有工艺流程与参数，工艺简单。

【技术实现步骤摘要】
用于彩膜基板的色阻材料及彩膜基板色阻图案的制备方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种用于彩膜基板的色阻材料及色阻图案的制备方法。
技术介绍
彩膜基板(ColorFilter)是TFT-LCD(薄膜晶体管-液晶显示器)面板中的过滤背光(白光)形成红(R)、绿(G)、蓝(B)三原色的重要组成部分。其中色阻是彩膜基板上用以过滤白光的主要膜层。当白光照射时，色阻会反射单色光(RGB)，色阻材料会吸收其余波段的光，形成所需颜色。在实际生产及应用中，色阻材料的电学特性会受到光照(紫外光、可见光)的影响。现有的色阻材料的电学稳定性不高，例如绿色色阻材料中的颜料成分包含Zn等金属离子，使其具有半导体特性，光照下容易诱发电子迁移，从而导致介质损失率增加。当彩膜侧黑矩阵(BM)感应带电与TFT侧公共电极(Vcom)形成电压差时，绿色色阻材料中的电子迁移会引起液晶(LC)电场的增强，导致周边LC偏转过度，造成像素(pixel)周边发绿变重现象，形成光照绿光不均匀(mura)的不良。现有可用绿(G)色阻的结构类型较少，色彩浓度较高的色阻结构中均含有金属Zn，是受光照产生电子迁移的主要结构单元，影响色阻材料的电学稳定性。为降低光照后的介质损失率，一般选择色彩浓度更高的G色阻代替原始色阻，从而降低G色阻含量。但该方法存在以下不足：(1)色阻含量降低，存在色彩透过率降低风险；(2)材料本质特性未改变，恶化条件下，仍存在电子迁移导致的介质损耗率增加风险。因此目前亟需一种电学稳定性高的色阻材料。
技术实现思路
鉴于现有技术中的上述问题，本专利技术的目的在于提供一种用于彩膜基板的色阻材料及彩膜基板的色阻图案的制备方法。本专利技术实施例提供的一种用于彩膜基板的色阻材料，包括：多官能团单体，所述多官能团单体包括二乙烯基苯单体。其中，所述色阻材料还包括树脂、光引发剂、颜料、颜料分散剂、溶剂和添加剂。其中，所述多官能团单体还包括丙烯酸酯。其中，所述丙烯酸酯包括季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETA)、聚二季戊四醇五丙烯酸酯(DPEPA)和六丙烯酸酯(DPHA)中的任意一种或多种。其中，所述二乙烯基苯单体与所述丙烯酸酯的质量比为1:0至1:1。其中，在所述色阻材料中，所述树脂的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述多官能团单体的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述光引发剂的质量占色阻材料总质量的比重为0.2-0.6％，所述颜料的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述颜料分散剂的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述溶剂的质量占色阻材料总质量的比重为67-78％；所述添加剂的质量占色阻材料总质量的比重为0.1-0.4％。其中，所述树脂包括甲基丙烯酸甲酯(MMA)剂甲基丙烯酸丁酯(BMA)中的一种或组合，和/或所述溶剂包括丙二醇甲醚。其中，所述光引发剂包括Benzophenone或S-triazine，和/或所述添加剂包括硅烷偶联剂。。其中，所述颜料包括绿色颜料，和/或所述颜料分散剂包括高分子分散剂。本专利技术还提供一种彩膜基板的色阻图案的制备方法，包括：制备包括多官能团单体的色阻材料溶液，所述多官能团单体包括二乙烯基苯单体；以及将制备的所述色阻材料溶液固定在所述彩膜基板上得到色阻图案。其中，制备包括多官能团单体的色阻材料溶液包括将多官能团单体、树脂、光引发剂、颜料、颜料分散剂、溶剂和添加剂混合。其中，将制备的所述色阻材料溶液固定在所述彩膜基板上得到色阻图案包括固化、曝光、显影和后烘步骤，所述固化包括在80-100℃的温度下固化80-120秒然后在20-30℃的温度下固化30-80秒；所述曝光的光照强度为60-200mJ/cm2、时间为10-60秒，光源距离所述色阻图案为200-350μm；所述显影的显影液为0.04％-0.05％KOH溶液，时间为50-100秒；所述后烘的温度为80-250℃，时间为5-30分钟。其中，所述多官能团单体还包括丙烯酸酯，所述丙烯酸酯包括季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETA)、聚二季戊四醇五丙烯酸酯(DPEPA)和六丙烯酸酯(DPHA)中的任意一种或多种。其中，所述二乙烯基苯单体与所述丙烯酸酯的质量比为1:0至1:1。其中，在所述色阻材料中，所述树脂的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述多官能团单体的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述光引发剂的质量占色阻材料总质量的比重为0.2-0.6％，所述颜料的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述颜料分散剂的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述溶剂的质量占色阻材料总质量的比重为67-78％；所述添加剂的质量占色阻材料总质量的比重为0.1-0.4％。本专利技术提供的用于彩膜基板的色阻材料及彩膜基板的色阻图案的制备方法，能够降低色阻图案在电场中的节点损失率，提高色阻材料的电学稳定性，不影响透光率，并且不改变现有工艺流程与参数，工艺简单。附图说明图1为现有色阻材料固化的结构示意图。图2为本公开实施例提供的色阻材料固化的结构示意图。图3为本公开实施例中的二乙烯基苯的结构示意图。图4a至图4d为本公开实施例中的其他多官能团单体的结构示意图。图5a至图5b为本公开实施例中的二乙烯基苯的相关主要交联反应式。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。本专利技术提供一种用于彩膜基板的色阻材料，多官能团单体，所述多官能团单体包括二乙烯基苯单体。图1为现有色阻材料固化的结构示意图。图2为本公开实施例提供的色阻材料固化的结构示意图。如图2所示，相比现有技术的色阻材料，在本公开实施例提供的色阻材料固化后，引入了苯环的大π键结构。色阻材料中掺杂有二乙烯基苯，引入苯环的大π键结构，降低色阻在电场中节点损失率，提高色阻的电学稳定性；二乙烯基苯具有两个乙烯基，不会明显降低色阻材料的交联度及结构稳定性；苯环结构具有较高的耐光耐热等性能；二乙烯基苯聚合条件低，可在紫外光、可见光及高温环境中由引发剂加速材料聚合，不改变现有工艺流程与参数；引入的二乙烯基苯是非极性基团；聚合后的二乙烯基苯具有聚苯乙烯的高透光性质，不会影响透过率。采用本专利技术提供用于彩膜基板的色阻材料可以制备彩膜基板的色阻图案，提高色阻图案的电学稳定性，减少光照不均匀(mura)的不良，尤其是绿光光照不均匀的不良。下面结合具体的实施例说明本专利技术提供的用于彩膜基板的色阻材料和彩膜基板的色阻图案的制备方法。实施例一本实施例提供一种用于彩膜基板的色阻材料，包括以下成分。(1)树脂基体，所述树脂基体包括甲基丙烯酸甲酯(MMA)剂甲基丙烯酸丁酯(BMA)中的一种或组合，树脂基体的质量占色阻材料的总质量的5-8％；(2)多官能团单体，所述多官能团单体包括二乙烯基苯(DVB)，其结构示意图如图3所示，多官能团单体的质量占色阻材料的总质量的5-8％。只采用二乙烯基苯(DVB)为多官能团单体：所得产品的电荷捕获能力最大，即介电损耗率最低，但由于DVB的支链比丙烯酸酯少，整体的交联度有所下降。在另一种实施方式中，所述多官能团单体包本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于彩膜基板的色阻材料，包括：多官能团单体，所述多官能团单体包括二乙烯基苯单体。

【技术特征摘要】
1.一种用于彩膜基板的色阻材料，包括：多官能团单体，所述多官能团单体包括二乙烯基苯单体。2.如权利要求1所述的用于彩膜基板的色阻材料，还包括树脂、光引发剂、颜料、颜料分散剂、溶剂和添加剂。3.如权利要求2所述的用于彩膜基板的色阻材料，其中所述多官能团单体还包括丙烯酸酯。4.如权利要求3所述的用于彩膜基板的色阻材料，其中，所述丙烯酸酯包括季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETA)、聚二季戊四醇五丙烯酸酯(DPEPA)和六丙烯酸酯(DPHA)中的任意一种或多种。5.如权利要求4所述的用于彩膜基板的色阻材料，其中所述二乙烯基苯单体与所述丙烯酸酯的质量比为1:0至1:1。6.如权利要求2-5中任一所述的用于彩膜基板的色阻材料，其中在所述色阻材料中，所述树脂的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述多官能团单体的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述光引发剂的质量占色阻材料总质量的比重为0.2-0.6％，所述颜料的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述颜料分散剂的质量占色阻材料总质量的比重为5-8％，所述溶剂的质量占色阻材料总质量的比重为67-78％；所述添加剂的质量占色阻材料总质量的比重为0.1-0.4％。7.如权利要求2所述的用于彩膜基板的色阻材料，其中所述树脂包括甲基丙烯酸甲酯(MMA)剂甲基丙烯酸丁酯(BMA)中的一种或组合，和/或所述溶剂包括丙二醇甲醚。8.如权利要求2所述的用于彩膜基板的色阻材料，其中所述光引发剂包括Benzophenone或S-triazine，和/或所述添加剂包括硅烷偶联剂。9.如权利要求2所述的用于彩膜基板的色阻材料，其中所述颜料包括绿色颜料，和/或所述颜料分散剂包括高分子分散剂。10.一种彩膜基板的色阻图案的制备方法，包括：制备包括多官能团单体的色阻材料溶液，所述多官能团单体包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：牟广营，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11