The invention relates to an automatic measurement of resistance equipment, transported to the area under the basket through the control part controls the feed zone will be filled with a silicon wafer, wafer carriers within the area under the unloading and conveying one by one to the first buffer cache will be delivered to the first wafer correction, correction area will be transported to the silicon wafer after correction the test area of resistance test, the wafer by square resistance testing was delivered to the second buffer, through the control part, and set the standard by contrast segment after, will exceed the standards set upper and lower limit is higher than the set standard wafer separation, only the resistance test results of silicon in the normal range the first delivery area, and will be placed in the basket on the wafer through the area, will eventually be filled with wafer basket transported out through the feeding zone; avoid the artificial to take tablets and test the pollution The problem of dyeing, breaking and scratching; testing the silicon square resistance automatically, greatly improving the test efficiency, and completing the batch test.
【技术实现步骤摘要】
自动测方阻设备
本专利技术涉及太阳能电池片
,尤其是涉及一种自动测方阻设备。
技术介绍
目前太阳能电池片领域中,制作P-N结,即扩散为太阳能电池技术的核心,扩散工艺在炉管内进行高温同磷源进行反应,在硅片表面生成磷单质,并通过高温与硅原子发生替换进入硅晶体内部,形成N型半导体,与之前P型硅片接触区域形成PN结。其中,判定扩散是否优良均是通过测试硅片表面方阻来体现。目前的测试设备均需要人工进行取片、测片和放片。不光效率低,期间不免有摩擦、破损和污染等不良现象;并且目前测试均是抽检硅片,对于未检测到的硅片,存在方阻异常流入下道工序的可能。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是:为了克服现有技术中的测试设备均需要人工进行取片、测片和放片。不光效率低,期间不免有摩擦、破损和污染等不良现象;并且目前测试均是抽检硅片,对于未检测到的硅片,存在方阻异常流入下道工序的问题,提供一种自动测方阻设备。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种自动测方阻设备,包括:包括上料部分、测试部分、下料部分和控制部分,所述上料部分包括上料区、下片区、第一缓存区和校正区,所述测试部分包括测试区,所述下料部分包括第二缓存区、分片区、上片区和下料区,所述上料区、下片区、第一缓存区、校正区、测试区、第二缓存区、分片区、上片区和下料区呈流水线依次设置,所述控制部分分别控制上料区、下片区、第一缓存区、校正区、测试区、第二缓存区、分片区、上片区和下料区。本专利技术的自动测方阻设备,通过控制部分控制上料区将装满硅片的花篮输送至下片区,下片区将花篮内的硅片逐一卸下并输送至第一缓存区,第一缓存区 ...
【技术保护点】
一种自动测方阻设备,其特征在于:包括上料部分、测试部分、下料部分和控制部分,所述上料部分包括上料区(1)、下片区(2)、第一缓存区(3)和校正区(4),所述测试部分包括测试区(5),所述下料部分包括第二缓存区(6)、分片区(7)、上片区(8)和下料区(9),所述上料区(1)、下片区(2)、第一缓存区(3)、校正区(4)、测试区(5)、第二缓存区(6)、分片区(7)、上片区(8)和下料区(9)呈流水线依次设置,所述控制部分分别控制上料区(1)、下片区(2)、第一缓存区(3)、校正区(4)、测试区(5)、第二缓存区(6)、分片区(7)、上片区(8)和下料区(9)。
【技术特征摘要】
1.一种自动测方阻设备,其特征在于:包括上料部分、测试部分、下料部分和控制部分,所述上料部分包括上料区(1)、下片区(2)、第一缓存区(3)和校正区(4),所述测试部分包括测试区(5),所述下料部分包括第二缓存区(6)、分片区(7)、上片区(8)和下料区(9),所述上料区(1)、下片区(2)、第一缓存区(3)、校正区(4)、测试区(5)、第二缓存区(6)、分片区(7)、上片区(8)和下料区(9)呈流水线依次设置,所述控制部分分别控制上料区(1)、下片区(2)、第一缓存区(3)、校正区(4)、测试区(5)、第二缓存区(6)、分片区(7)、上片区(8)和下料区(9)。2.如权利要求1所述的自动测方阻设备,其特征在于:所述上料区(1)包括传输装置,两组所述传输装置上下间隔设置,所述传输装置的右侧固定安装有光传感器,所述光传感器与所述控制部分电连接。3.如权利要求1所述的自动测方阻设备,其特征在于:所述下片区(2)包括下片装置、夹紧装置和输送装置,所述下片装置包括联动装置和固定台(2-1),所述联动装置驱动所述固定台(2-1)实现升降,所述夹紧装置固定安装在所述固定台(2-1)的上方,所述输送装置包括传输装置和活动运输装置,所述传输装置固定安装在所述固定台(2-1)上,并位于所述夹紧装置的正下方,所述活动运输装置位于夹紧装置与传输装置之间。4.如权利要求1所述的自动测方阻设备,其特征在于:所述第一缓存区(3)和第二缓存区(6)均包括联动装置、传输装置和储物篮,所述储物篮罩设所述传输装置,所述联动装置驱动所述储物篮实现升降。5.如权利要求4所述的自动测方阻设备,其特征在于:所述储物篮包括卡板(3-1),两个所述卡板(3-1)平行且间隔设置,所述传输装置位于两个所述卡板(3-1)之间,所述卡板(3-1)上开设有若干缓存槽(3-2),两个所述卡板(3-1)上的缓存槽(3-2)一一对应设置,所述卡板(3-1)上固定安装有左、右光电传感器,所述左、右光电传感器分别位于缓存槽(3-2)的两端。6.如权利要求1所述的自动测方阻设备,其特征在于:所述校正区(4)包括传输装置、左、右光电传感器和校准装置,所述校准装置包括呈排排列的滑轮组(4-1)和驱动装置,两组所述滑轮组(4-1)分别位于传输装置的两侧,并与所述传输装置平行设置,所述滑轮组(4-1)由驱动装置驱动靠近或远离传输装置,所述左、右光电传感器分别位于传输装置的两端。7.如权利要求1所述的自动测方阻设备,其特征在于:所述测试区(5)包括传输装置、测试平台(5-1)、测试四探针面板和升降装置,所述测试四探针面板固定安装在所述测试平台(5-1)上,所述测试平台(5-1)位于所述所述传输装置的正上方,所述升降装置位于所述传输装置的正下方,所述升降装置上固定安装有用于放置硅片的载物台(5-2),所述升降装置驱动载物台(5-2)上的硅片靠近或远离测试平台(5-1),所述左、右两侧均固定安装有光传感器有光传感器,所述光电传感器与所述控制部分电连接。8.如权利要求1所述的自动测方阻设备,...
【专利技术属性】
技术研发人员:袁华斌,
申请(专利权)人:常州亿晶光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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