移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法及元件制造方法制造方法及图纸

技术编号:17031672 阅读:18 留言:0更新日期:2018-01-13 18:41
本发明专利技术的基板载台装置(20A),具备延伸于扫描方向(X轴方向)、能移动于扫描交叉方向(Y轴方向)的位置的第1步进导件(50),被第1步进导件(50)从下方支承、能沿第1步进导件(50)上面移动于沿扫描方向的位置且与第1步进导件(50)一起移动于沿扫描交叉方向的位置的微动载台(30),以及以第2步进导件(54)的上面为基准面并使用设于微动载台(30)的Z感测器(38z)求出微动载台(30)的Z倾斜位置信息的位置测量系。

【技术实现步骤摘要】
移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法及元件制造方法本申请是申请日为2013年04月03日,申请号为201380018913.X,专利技术名称为“移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法”的专利申请的分案申请。
本专利技术是关于移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法,详言之,是关于使移动体沿既定二维平面移动的移动体装置、具备前述移动体装置的曝光装置、及使用前述曝光装置的平面显示器的制造方法、以及使用前述曝光装置的元件制造方法。
技术介绍
一直以来,于制造液晶显示元件、半导体元件等电子元件的光刻工艺中,是使用将形成于掩膜(或标线片)的图案以能量束转印至玻璃基板(或晶圆)上的曝光装置。作为此种曝光装置,一种具有保持基板的微动载台被重量抵消装置从下方支承、且引导该重量抵消装置往扫描交叉(crossscan)方向的移动的导件,可与重量抵消装置一起移动于扫描方向的基板载台装置者广为人知(例如,参照专利文献1)。随着近年基板的大型化,基板载台装置亦有大型化而重量增加的倾向。先行技术文献专利文献专利文献1:美国专利申请公开第2010/0266961号说明书
技术实现思路
用以解决课题的手段本专利技术有鉴于上述情事而为,第1观点的一种移动体装置,具备:导件,延伸于既定二维平面内的第1方向,能在该二维平面内移动于沿与该第1方向正交的第2方向的位置;移动体,被该导件从下方支承,能沿以该导件规定的第1面移动于沿该第1方向的位置、且能与该导件一起移动于沿该第2方向的位置;以及位置测量系,将以和该导件不同的另一构件所规定的第2面作为基准面,求出该移动体在与该二维平面交叉的方向的位置信息。根据此专利技术,由于第2面是基准面,因此导件的第1面无需要求精度。因此,能使导件的构成简单,而能使移动体装置小型化、轻量化。本专利技术第2观点的移动体装置,具备:导件,延伸于既定二维平面内的第1方向,能在该二维平面内移动于沿与该第1方向正交的第2方向的位置;移动体,被该导件从下方支承,能沿以该导件规定的导引面移动于沿该第1方向的位置、且能与该导件一起移动于沿该第2方向的位置;以及驱动装置,设于该导件,将该移动体驱动于与该二维平面交叉的方向。根据此专利技术,由于导件是将移动体驱动于与二维平面交叉的方向,因此与另设置驱动装置将移动体驱动于与二维平面交叉的方向的情形相较,能使构成简单,而能使移动体装置小型化、轻量化。本专利技术第3观点的移动体装置,具备:第1移动构件,延伸于既定二维平面内的第1方向,能在该二维平面内移动于沿与该第1方向正交的第2方向的位置;第2移动构件,设于该第1移动构件,能沿该第1移动构件移动于沿该第1方向的位置、且能与该第1移动构件一起移动于该第2方向;以及移动体,被该第1移动构件从下方支承,被该第2移动构件诱导而沿该二维平面移动。根据此专利技术,由于沿二维平面诱导移动体的第2移动构件,可沿从下方支承移动体的第1移动构件移动于第1方向、且能与第1移动构件一起沿第2方向移动,因此装置构成简单。本专利技术第4观点的曝光装置,具备:于前述移动体保持既定物体的本专利技术第1~第3观点中任一的移动体装置、以及于前述移动体所保持的前述物体使用能量束形成既定图案的图案形成装置。本专利技术第5观点的平面显示器的制造方法,包含:使用本专利技术第4观点的曝光装置使前述物体曝光的动作,以及使曝光后的前述物体显影的动作。本专利技术第6观点的元件制造方法,包含:使用本专利技术第4观点的曝光装置使前述物体曝光的动作,以及使曝光后的前述物体显影的动作。附图说明图1为概略显示第1实施形态的液晶曝光装置的构成的图。图2为图1的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的侧视图。图3为图1的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的俯视图。图4中A部分为图3的基板载台装置的B-B线剖面图、图4中B部分为从图4中A部分的基板载台装置拿掉部分要素的图。图5为第1实施形态的变形例(之1)的基板载台装置的俯视图。图6中A部分为图5的C-C线剖面图、图6中B部分为从图6中A部分的基板载台装置拿掉部分要素的图。图7为显示第1实施形态的变形例(之2)的基板载台装置的图。图8为图7的基板载台装置的D-D线剖面图。图9为显示第1实施形态的变形例(之3)的基板载台装置的图。图10用以说明图9的基板载台装置的动作的图。图11为显示第1实施形态的变形例(之4)的基板载台装置的图。图12为显示第1实施形态的变形例(之5)的基板载台装置的图。图13为显示第2实施形态的基板载台装置的图。图14为图13的基板载台装置的E-E线剖面图。图15为图13的基板载台装置的俯视图。图16为图15的基板载台装置的F-F线剖面图。图17为显示图13的基板载台装置中的Z感测器的配置的图。图18为显示第2实施形态的变形例(之1)的基板载台装置的图。图19为图18的G-G线剖面图。图20为显示第2实施形态的变形例(之2)的基板载台装置的图。图21为显示第2实施形态的变形例(之3)的基板载台装置的图。图22为图21的H-H线剖面图。图23为显示第2实施形态的变形例(之4)的基板载台装置的图。图24为图23的I-I线剖面图。具体实施方式《第1实施形态》以下,依据图1~图4中B部分说明第1实施形态。图1中概略的了第1实施形态的液晶曝光装置10的构成。液晶曝光装置10例如以用于液晶显示装置(平面显示器)等的矩形(方形)玻璃基板P(以下,简称基板P)为曝光对象物的步进扫描(step&scan)方式的投影曝光装置、所谓的扫描机。液晶曝光装置10,具有照明系12、保持形成有电路图案(掩膜图案)的掩膜M的掩膜载台14、投影光学系16、装置本体18、保持表面(图1中朝向+Z侧的面)涂有光阻剂(感应剂)的基板P的基板载台装置20A、以及此等的控制系等。以下,将曝光时掩膜M与基板P相对投影光学系16分别被扫描的方向设为X轴方向、水平面内与X轴正交的方向为Y轴方向、与X轴及Y轴正交的方向为Z轴方向,并以绕X轴、Y轴及Z轴旋转的方向分别为θx、θy及θz方向来进行说明。照明系12,具有与例如美国专利第5,729,331号说明书等所揭示的照明系相同的构成。照明系12将曝光用的照明光IL照射于掩膜M。作为照明光IL,是使用例如i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或上述i线、g线、h线的合成光)。掩膜载台装置14具有由中央部形成有开口部的板状构件构成的掩膜载台14a。掩膜载台14a将插入上述开口部内的掩膜M的外周缘部以支承手14b加以吸附保持。掩膜载台14a搭载在固定于作为装置本体18一部分的镜筒平台18a的一对载台导件14c上,被例如以包含线性马达的掩膜载台驱动系(未图示)以既定长行程驱动于扫描方向(X轴方向)、并被适当地微驱动于Y轴方向及θz方向。掩膜载台14a的XY平面内的位置信息(含θz方向的旋转量信息)是通过固定于镜筒平台18a的掩膜干涉仪14d,使用固定于掩膜载台14a的棒状反射镜14e加以求出。于掩膜干涉仪14d,分别包含多个X掩膜干涉仪与Y掩膜干涉仪,于棒状反射镜14e分别包含与X掩膜干涉仪对应的X棒状反射镜及与Y掩膜干涉仪对应的Y棒状反射镜,但图1中仅代表性的显示Y掩膜干涉仪及Y棒状反射镜。投影光学系1本文档来自技高网...
移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法及元件制造方法

【技术保护点】
一种移动体装置,具备:导件,延伸于既定二维平面内的第1方向,能在所述二维平面内移动于沿与所述第1方向正交的第2方向的位置;移动体,被所述导件从下方支承,能沿以所述导件规定的第1面移动于沿所述第1方向的位置、且能与所述导件一起移动于沿所述第2方向的位置;以及位置测量系,将以和所述导件不同的另一构件所规定的第2面作为基准面,求出所述移动体在与所述二维平面交叉的方向的位置信息。

【技术特征摘要】
2012.04.04 JP 2012-0854551.一种移动体装置,具备:导件,延伸于既定二维平面内的第1方向,能在所述二维平面内移动于沿与所述第1方向正交的第2方向的位置;移动体,被所述导件从下方支承,能沿以所述导件规定的第1面移动于沿所述第1方向的位置、且能与所述导件一起移动于沿所述第2方向的位置;以及位置测量系,将以和所述导件不同的另一构件所规定的第2面作为基准面,求出所述移动体在与所述二维平面交叉的方向的位置信息。2.如权利要求1所述的移动体装置,其中,所述另一构件延伸于所述第1方向、能与所述移动体一起移动于沿所述第2方向的位置的可动构件。3.如权利要求2所述的移动体装置,其中,所述可动构件于所述第2方向、分别设在所述导件的一侧及另一侧。4.如权利要求1至3中任一项所述的移动体装置,其进一步具备被支承于所述可动构件,能在以所述可动构件规定的所述第2面上与所述移动体一起沿所述第1方向移动、且与所述可动构件一起沿所述第2方向移动的测量用移动构件;所述位置测量系是使用所述测量用移动构件求出所述位置信息。5.如权利要求4所述的移动体装置,其中,所述测量用移动构件以非接触方式被支承于所述可动构件。6.如权利要求4或5所述的移动体装置,其进一步具备沿所述二维平面诱导所述移动体的诱导装置;所述导件、所述可动构件及所述测量用移动构件通过被所述诱导装置诱导而一体的移动于沿所述第2方向的位置。7.如权利要求6所述的移动体装置,其中,所述测量用移动构件以所述诱导装置沿所述第1方向驱动。8.如权利要求1至3中任一项所述的移动体装置,其中,所述位置测量系使用所述可动构件的上面求出所述位置信息。9.如权利要求8所述的移动体装置,其进一步具备沿所述二维平面诱导所述移动体的诱导装置;所述导件及所述可动构件通过被所述诱导装置诱导而一体的移动于沿所述第2方向的位置。10.如权利要求6、7及9中任一项所述的移动体装置,其中,所述诱导装置设于第1基座构件上;所述导件设在与所述第1基座构件不同的第2基座构件上。11.如权利要求10所述的移动体装置,其中,所述可动构件设在与所述第2基座构件不同的第3基座构件上。12.如权利要求1所述的移动体装置,其中,所述另一构件设在所述导件下方、以涵盖所述移动体于所述二维平面内可移动范围的大小形成。13.如权利要求12所述的移动体装置,其中,所述导件设在与所述另一构件不同的基座构件上。14.如权利要求1至13中任一项所述的移动体装置,其中,所述导件在支承所述移动体的自重的状态下于所述第1面上与所述移动体一起沿所述第1方向移动,且通过与所述导件一起沿所述第2方向移动的支承装置从下方支承所述移动体。15.如权利要求14所述的移动体装置,其中,所述支承装置以非接触方式被支承于所述导件。16.如权利要求14或15所述的移动体装置,其中,所述支承装置通过将所述移动体支承为可相对所述二维平面倾动的倾动支承装置支承所述移动体。17.如权利要求1至16中任一项所述的移动体装置,其中,所述导件包含将所述移动体驱动于与所述二维平面交叉的方向的驱动装置。18.如权利要求17所述的移动体装置,其中,所述导件包含支承所述移动体的自重的自重支承装置。19.如权利要求17或18所述的移动体装置,其中,所述导件通过将所述移动体支承为可相对所述二维平面倾动的倾动支承装置支承所述移动体。20.如权利要求19所述的移动体装置,其中,所述倾动支承装置以非接触方式被支承于所述导件。21.如权利要求17或18所述的移动体装...

【专利技术属性】
技术研发人员:青木保夫
申请(专利权)人:株式会社尼康
类型:发明
国别省市:日本,JP

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