基板缺陷检査装置和缺陷检査用灵敏度参数值调整方法制造方法及图纸

本发明专利技术能够自动对检査基板的缺陷时所使用的参数值进行调整，在检査基板的缺陷时实现减少疑似缺陷的检测。对于所选择的虚拟检査用的基板的各像素值，使用供调整后使用的基准像素数据，在各像素值偏离与其位置对应的允许范围时，将偏离量和调整前的灵敏度参数值进行比较。然后，在偏离量超过该灵敏度参数值并且上述偏离量与该灵敏度参数值的差在阈值以下时，将上述偏离量更新为新的灵敏度参数值。进而，对上述过去已检査过的多个基板的图像数据依次进行该操作，并且在作为偏离量的比较对象的灵敏度参数值发生了更新时使用更新后的灵敏度参数值，将最后更新了的灵敏度参数值作为调整后的灵敏度参数。

【技术实现步骤摘要】
基板缺陷检査装置和缺陷检査用灵敏度参数值调整方法
本专利技术涉及使用对基板进行拍摄而获得的图像数据判断基板的缺陷的缺陷检査装置、基板缺陷检査用的灵敏度参数值的调整方法和存储有缺陷检査装置所使用的计算机程序的存储介质。
技术介绍
在作为半导体装置的制造步骤之一的光刻步骤中，对作为基板的半导体晶片(以下，记为晶片)的表面依次进行利用抗蚀剂的涂敷的抗蚀剂膜的形成、该抗蚀剂膜的曝光、显影，形成抗蚀剂图案。在形成有该抗蚀剂图案的晶片表面内的各部分，有时进行对有无缺陷进行判断的缺陷检査。该缺陷检査基于对检査对象的晶片进行拍摄而取得的图像数据、预先准备的基准图像数据和多个参数而进行。将实际上不是缺陷但在上述检査中判断为缺陷作为疑似缺陷。要求以能够抑制该疑似缺陷的发生的方式设定上述参数。并且，在形成上述抗蚀剂膜时，出于制造新型的半导体装置或者提高成品率的目的，例如在进行所使用的抗蚀剂材料的变更等的各种处理条件的变更的情况下，或者在检査时所使用的照明光源的明亮度发生变化的情况下，有时需要重新设定该参数。然而，关于上述参数，由于存在多个，装置的操作人员多次重复参数的变更和确认该变更对检査的影响的作业，这本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板的缺陷检査装置，其对于拍摄作为检査对象的基板的整个表面而获得的图像数据的各像素值，使用将各位置与像素值的允许范围相关联的基准像素数据，在各像素值偏离与其位置对应的所述允许范围时，将偏离量与作为偏离允许量的灵敏度参数值进行比较，在偏离量超过灵敏度参数值时，判断该基板为缺陷基板，所述基板的缺陷检査装置的特征在于，包括：基准像素数据生成部，其在进行所述灵敏度参数值的调整时，生成供调整后使用的基准像素数据；用于调整所述灵敏度参数值的灵敏度参数值调整部；和虚拟检査用基板选择部，其从在进行所述灵敏度参数值的调整时以前已检査过的多个基板中选择用于调整所述灵敏度参数值的、用于与所述基准像素数据进行比较...

【技术特征摘要】
2016.06.30 JP 2016-1305931.一种基板的缺陷检査装置，其对于拍摄作为检査对象的基板的整个表面而获得的图像数据的各像素值，使用将各位置与像素值的允许范围相关联的基准像素数据，在各像素值偏离与其位置对应的所述允许范围时，将偏离量与作为偏离允许量的灵敏度参数值进行比较，在偏离量超过灵敏度参数值时，判断该基板为缺陷基板，所述基板的缺陷检査装置的特征在于，包括：基准像素数据生成部，其在进行所述灵敏度参数值的调整时，生成供调整后使用的基准像素数据；用于调整所述灵敏度参数值的灵敏度参数值调整部；和虚拟检査用基板选择部，其从在进行所述灵敏度参数值的调整时以前已检査过的多个基板中选择用于调整所述灵敏度参数值的、用于与所述基准像素数据进行比较而进行虚拟检査的虚拟检査用的多个基板，所述灵敏度参数值调整部实施：对于所选择的虚拟检査用的基板的各像素值，用所述供调整后使用的基准像素数据，在各像素值偏离与其位置对应的允许范围时，将偏离量和调整前的灵敏度参数值进行比较的步骤；在偏离量超过该灵敏度参数值并且所述偏离量与该灵敏度参数值的差在阈值以下时，将所述偏离量更新为新的灵敏度参数值的步骤；和对所述过去已检査过的多个基板的图像数据依次进行该操作，并且在作为偏离量的比较对象的灵敏度参数值发生了更新时使用更新后的灵敏度参数值，将最后更新了的灵敏度参数值作为调整后的灵敏度参数存储于存储部中的步骤。2.如权利要求1所述的基板的缺陷检査装置，其特征在于：对作为检査对象的基板的整个表面进行拍摄而获得的图像数据的各像素值是三原色R(红)、G(绿)、B(蓝)各自的像素值，基准像素数据是按R、G、B将各位置与像素值的允许范围相关联的数据。3.如权利要求1或2所述的基板的缺陷检査装置，其特征在于：所述基准像素数据生成部构成为：针对在进行所述灵敏度参数值的调整时以前已检査过的多个基板的每一个，利用泽尔尼克函数分解像素的平面分布而取得泽尔尼克系数，针对各基板的相同的泽尔尼克系数，选择与该多个基板的平均值之间的偏离小于预先设定的偏离度的基板组，基于所选择的基板组生成基准像素数据。4.如权利要求1～3中任一项所述的基板的缺陷检査装置，其特征在于：所述虚拟检査用基板选择部构成为：针对在进行所述灵敏度参数值的调整时以前已检査过的多个基板的每一个，利用泽尔尼克函数分解像素的平面分布而取得泽尔尼克系数，针对各基板的作为相同的泽尔尼克系数的特征点，选择与该多个基板的平均值之间的偏离大于预先设定的偏离度的基板组。5.如权利要求4所述的基板的缺陷检査装置，其特征在于，包括：监视部，其在进行了所述灵敏度参数值的调整后，针对实际被检査的检査对象的基板，利用泽尔尼克函数分解像素的平面分布而取得作为泽尔尼克系数的特征点，监视该特征点是否从阈值偏离，基于该监视结果，决定所述灵敏度参数...

【专利技术属性】
技术研发人员：北田泰裕，叶濑川泉，富田浩，中山浩介，西山直，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP