一种基于珀尔帖效应的液体保温装置制造方法及图纸

一种基于珀尔帖效应的液体保温装置，包括：半导体制冷片，半导体制冷片安装在装有液体的容器外壁上，之间涂有导热硅脂；测温装置，测温装置测量容器内液体的温度；单片机，单片机与半导体制冷片的电源和测温装置相连，单片机可以控制电源与半导体制冷片相连的正负极方向，电流方向的改变会导致半导体制冷片在吸热和放热两种状态间转换。单片机快速、准确控制以及半导体制冷片的快速响应能使该系统及时地对液体进行加热或吸热，提高了温度控制的速度和精度。

【技术实现步骤摘要】
一种基于珀尔帖效应的液体保温装置
本专利技术涉及保温技术，具体涉及一种基于珀尔帖效应的液体保温装置。
技术介绍
随着时代的发展，信息技术的飞速进步，芯片的集成度越来越高，半导体制造的条件也越来越苛刻。光刻工艺在半导体制造工艺中至关重要，其成本占了几乎三分之一。显影是光刻过程中的一个关键步骤，显影过程要控制显影液的温度使其在要求范围内。随着芯片特征尺寸的不断减小，使得人们对工艺各环节的条件要求更高，包括显影液的温度。传统的水保温系统占用体积较大，且温度控制速度有限。珀尔帖效应，即当有电流通过不同的导体组成的回路时，除产生不可逆的焦耳热外，在不同导体的接头处随着电流方向的不同会分别出现吸热、放热现象。基于珀尔帖效应的保温系统可以更快更准控制显影液温度，从而提高光刻工艺的质量。
技术实现思路
鉴于光刻工艺的显影步骤需要一个更快更准且体积较小的保温系统；本专利技术提供一种基于珀尔帖效应的液体保温方法，其通过单片机根据测得的温度信号对半导体制冷片的电流方向进行变换，使其放热或吸热来控制显影液温度。由于半导体制冷片响应快且体积小，该方法能改善显影液温度的控制效果。为了实现上述目的，本专利技术采用以下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于珀尔帖效应的液体保温装置，其特征在于，包括：一个或多个半导体制冷片(10)，该半导体制冷片与装有液体(70)的容器(60)外壁之间通过导热硅脂(20)接触；测温装置(30)，该测温装置(30)测量容器(60)内液体(70)的温度，并与单片机(40)相连，将温度信号发送给单片机(40)；单片机(40)，该单片机控制电源(50)与半导体制冷片(10)连接的正负极方向，根据测温装置(30)反馈的温度信号改变通过半导体制冷片(10)的电流方向，使半导体制冷片(10)在吸热与放热间转换，热量在半导体制冷片(10)、容器(60)和液体(70)间传导，实现对液体(70)的温度控制。

【技术特征摘要】
1.一种基于珀尔帖效应的液体保温装置，其特征在于，包括：一个或多个半导体制冷片(10)，该半导体制冷片与装有液体(70)的容器(60)外壁之间通过导热硅脂(20)接触；测温装置(30)，该测温装置(30)测量容器(60)内液体(70)的温度，并与单片机(40)相连，将温度信号发送给单片机(40)；单片机(40)，该单片机控制电源(50)与半导体制冷片(10)连接的正负极方向，根据测温装置(...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘学平，朱珂，
申请(专利权)人：清华大学深圳研究生院，
类型：发明
国别省市：广东,44