用于光学纤维连接的方法和设备技术

一种系统，包括：第一部件，包括透镜琢面；和第二部件，被光学耦合至第一部件，第二部件包括锥形琢面，锥形琢面和透镜琢面彼此间隔开以便在第一部件与第二部件之间建立倏逝波耦合。

Methods and equipment for optical fiber connections

A system comprises: a first member including a lens and second components are faced; optically coupled to the first part, second parts including taper facets, tapered lens facet faceting and spaced from each other in order to establish the evanescent wave coupling between the first and second parts.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光学纤维连接的方法和设备相关申请的交叉引用本申请要求2015年4月16日提交的美国申请No.62/148,607和2015年4月17日提交的美国申请No.62/149,328的优先权，这些申请通过整体引用并入本文。
本说明书涉及连接光学纤维的方法和设备。
技术介绍
无论是在光刻还是其他工艺中，都期望使用光学检测测量技术来进行检查或测量。此外，期望在诸如表面的辐照的其他工艺中、在电信中等使用辐射。为了至少便于辐射的传送，可以使用光学纤维。光学纤维是沿其轴线传输辐射的波导(典型地为柱状)。光纤典型地包括由“包覆”层包围的芯(通常在中部)。光纤可以整体上由诸如玻璃等的固体透明材料制成；芯和“包覆”层典型地由电介质材料制成。光纤的横截面的一个部分(通常是中部)中的透明材料具有与其余部分相比不同的光学结构、例如较高的折射率，并且形成了辐射在其内通过例如全内反射被引导的芯。芯与“包覆”层之间的边界可能是突变的、例如在阶跃折射率光纤中，或者是渐变的、例如在渐变折射率光纤中。光学纤维可以是单模或多模的，其中多模与单模光学纤维之间的主要差异在于前者具有显著更大的芯横向尺寸(例如，宽度或直径)、例如典型地为50μm至100μm，而后者典型地具有比所传播的辐射的波长的十倍小的芯横向尺寸、例如8μm和10.5μm。光子晶体光纤(PCF)是特殊形式的光学纤维。PCF可以以各种各样的形式出现，并且基于光子晶体的属性(但是光纤本身不需要具有晶体材料)。PCF的示例包括单个固体的且基本透明的材料，诸如熔融石英玻璃，在其内嵌入有平行于光纤轴线走向的开口孔的周期性阵列。规则阵列内的呈单个缺失的孔形式的“缺陷”形成升高了的折射率的区域，该区域充当波导光纤芯，辐射在波导光纤芯内以类似于在标准光纤中引导的全内反射的方式被引导。用于引导辐射的另一机制是基于光子带隙效应。光子带隙引导可以通过孔的阵列的合适设计来获得。
技术实现思路
可能期望提供一种连接，通过该连接将光学纤维的一部分至少光学地彼此耦合，或者通过该连接将光学纤维至少光学地耦合至另一部件。特别地，期望提供一种提供高的耦合效率、稳定性和/或不要求特殊对准的连接。在一个实施例中，可能期望使得能够实现用于将PCF光学耦合至PCF的连接。在一个实施例中，提供了一种系统，包括：第一部件，包括透镜琢面；和第二部件，被光学耦合至第一部件，第二部件包括锥形琢面，锥形琢面和透镜琢面彼此间隔开以便在第一部件与第二部件之间建立倏逝波耦合。在一个实施例中，提供了一种对光学部件进行光学耦合的方法，方法包括：横跨第一光学部件的透镜琢面与第二光学部件的锥形琢面之间的间隙，传播辐射的倏逝波。在一个实施例中，提供了一种光谱加宽的辐射设备，包括：激光器，被配置成通过激光器的输出发出辐射；光学纤维，被光学耦合至激光器的输出，光学纤维具有输入以接收来自激光器的辐射并且具有输出以提供光谱加宽的输出辐射，光学纤维被配置成将来自激光器的辐射光谱加宽至在标称波长周围至少0.5nm的光谱宽度；和如本文中所描述的系统。在一个实施例中，提供了一种检查设备，包括：辐射设备，被配置成提供辐射；输出，用于将来自辐射设备的辐射提供到衍射目标上；检测器，被配置成接收来自目标的衍射辐射；和如本文中所描述的系统。在一个实施例中，检测器被配置成响应于接收到的衍射辐射来确定两个或更多物体的对准。在一个实施例中，提供了一种对准传感器，包括：输出，用于将来自辐射设备的辐射提供到目标上；检测器，被配置成接收来自目标的辐射；控制系统，被配置成响应于接收到的辐射来确定两个或更多物体的对准；和如本文中所描述的系统。附图说明现在将通过仅示例的方式参照附图来描述实施例，其中：图1示意性地描绘了光刻设备的实施例；图2示意性地描绘了光刻单元或簇的实施例；图3示意性地描绘了检查设备的实施例；图4示意性地描绘了检查设备的另一实施例；图5示意性地描绘了对准传感器设备；图6示意性地描绘了电磁光谱的可见区域中的短相干长度辐射系统的实施例；图7示意性地描绘了可调谐宽光谱宽度辐射系统；图8示意性地描绘了源与光学模块之间的示例连接；图9示意性地描绘了连接的实施例；图10(A)示意性地描绘了连接的实施例的详细部分；图10(B)示意性地描绘了连接的实施例的详细部分；和图11示意性地描绘了连接的另一实施例。具体实施方式在详细描述实施例之前，呈现出可以在其中实施实施例的示例环境是有指导意义的。光刻设备是将期望的图案施加到衬底上(通常到衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以例如用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，备选地称为掩模或掩模版的图案形成装置可以用来生成要形成在IC的单独层上的电路图案。该图案可以被转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括裸片的部分、一个或若干裸片)上。图案的转移典型地凭借成像到设置于衬底上的一层辐射敏感材料(抗蚀剂)上。一般来说，单个衬底将包含相继地被图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过使整个图案一次性曝光到目标部分上来辐照各目标部分，和所谓的扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案、而同时同步地平行于或反向平行于该方向扫描衬底来辐照各目标部分。也可以通过将图案压印到衬底上而使图案从图案形成装置转移至衬底。图1示意性地描绘了光刻设备LA。设备包括：-照射系统(照射器)IL，被配置成调节辐射束B(例如，DUV辐射或EUV辐射)；-支撑结构(例如，掩模台)MT，被构造成支撑图案形成装置(例如，掩模)MA，并被连接至配置成根据某些参数准确地定位图案形成装置的第一定位器PM；-衬底台(例如，晶片台)WTa，被构造成保持衬底(例如，涂有抗蚀剂的晶片)W，并被连接至配置成根据某些参数准确地定位衬底的第二定位器PW；和-投影系统(例如，折射投影透镜系统)PS，其被配置成将通过图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如，包括一个或多个裸片)上。照射系统可以包括各种类型的光学部件，诸如折射、反射、磁性、电磁、静电或其他类型的光学部件或其任何组合，用于定向、成形或控制辐射。图案形成装置支撑结构以取决于图案形成装置的取向、光刻设备的设计和诸如例如图案形成装置是否被保持在真空环境中等的其他条件的方式保持图案形成装置。图案形成装置支撑结构可以使用机械、真空、静电或其他夹持技术来保持图案形成装置。图案形成装置支撑结构可以是例如框架或台，其可以根据需要是固定的或可移动的。图案形成装置支撑结构可以确保图案形成装置例如相对于投影系统处于期望的位置。本文中的术语“掩模版”或“掩模”的任何使用都可以被视为与更上位的术语“图案形成装置”同义。本文中所使用的术语“图案形成装置”应当被广泛地解释为是指可以用来在辐射束的横截面中的赋予辐射束以图案、以便在衬底的目标部分中创建图案的任何装置。应当注意的是，赋予辐射束的图案可能不是确切地对应于衬底的目标部分中的期望的图案，例如如果图案包括相移特征或所谓的辅助特征的话。一般地，赋予辐射束的图案将对应于诸如集成电路等的正在目标部分中创建的器件中的特定功能层。图案形成装置可以是透射的或反射的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列和可编程LCD面板。掩模在光刻中是众所周本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种系统，包括：第一部件，包括透镜琢面；和第二部件，被光学耦合至所述第一部件，所述第二部件包括锥形琢面，所述锥形琢面和所述透镜琢面彼此间隔开，以便在所述第一部件与所述第二部件之间建立倏逝波耦合。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.16 US 62/148,607;2015.04.17 US 62/149,3281.一种系统，包括：第一部件，包括透镜琢面；和第二部件，被光学耦合至所述第一部件，所述第二部件包括锥形琢面，所述锥形琢面和所述透镜琢面彼此间隔开，以便在所述第一部件与所述第二部件之间建立倏逝波耦合。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一光学部件和/或所述第二光学部件包括光学纤维。3.根据权利要求2所述的系统，其中所述第一光学部件和/或所述第二光学部件包括光子晶体光纤。4.根据权利要求3所述的系统，其中所述第一光学部件和所述第二光学部件包括光子晶体光纤。5.根据权利要求2至4中的任一项所述的系统，其中所述透镜琢面的透镜半径小于或等于从所述光纤的芯的中心到所述芯的外周缘的距离。6.根据权利要求2至4中的任一项所述的系统，其中所述透镜琢面的透镜半径大于从所述光纤的芯的中心到所述芯的外周缘的距离。7.根据权利要求2至6中的任一项所述的系统，其中所述光纤是单模光纤。8.根据权利要求1至7中的任一项所述的系统，其中所述锥形琢面的前琢面位于所述透镜琢面的大约焦点位置处。9.根据权利要求1至8中的任一项所述的系统，其中所述锥形琢面的前琢面尺寸大于或等于0，且小于或等于大约100nm。10.根据权利要求1至9中的任一项所述的系统，其中所述透镜琢面是附接至所述第一光学部件的、相对于所述第一光学部件的单独的结构。11.根据权利要求1至9中的任一项所述的系统，其中所述透镜琢面与所述第一光学部件是一体的。12.根据权利要求1至11中的任一项所述的系统，其中所述锥形琢面是附接至所述第二光学部件的、相对于所述第二光学部件的单独的结构。13.根据权利要求1至11中的任一项所述的系统，其中所述锥形琢面与所述第二光学部件是一体的。14.根据权利要求1至13中的任一项所述的系统，其中通过连接的辐射的光谱宽度是大约400nm或更大。15.根据权利要求1至14中的任一项所述的系统，其中通过连接的辐射在大约500nm至900nm的范围内。16.根据权利要求1至15中的任一项所述的系统，其中在所述锥形琢面内的波传播通过全内反射被约束在锥内。17.根据权利要求1至16中的任一项所述的系统，其中在所述透镜琢面与所述锥形琢面之间的间隙大于0，且小于或等于大约100μm。18.根据权利要求1至17中的任一项所述的系统，其中所述锥形琢面的长度大于0，且小于或等于大约100μm。19.根据权利要求1至18中的任一项所述的系统，其中所述透镜琢面的周缘和所述锥形琢面的周缘是圆形的。20.一种光谱加宽的辐射设备，包括：激光器，被配置成通过所述激光器的输出发出辐射；光学纤维，被光学耦合至所述激光器的所述输出，所述光学纤维具有输入以接收来自所述激光器的所述辐射并且具有输...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕中良，陈涛，F·J·贝里奥斯，张家宗，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL