透镜移动装置以及包括该装置的相机模块和光学设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种透镜移动装置，该透镜移动装置包括：线圈架，该线圈架包括布置在线圈架的外周表面上的第一线圈；壳体，该壳体设置有用于通过与第一线圈相互作用而移动线圈架的第一磁体和第二磁体；上弹性构件和下弹性构件，上弹性构件和下弹性构件各自联接至线圈架和壳体两者；以及第一位置传感器，该第一位置传感器用于检测第一磁体和第二磁体的磁场强度之和，其中，当线圈架布置在初始位置处时，第一位置传感器布置在位于第一磁体与第二磁体之间的空间中。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求分别于2015年4月30日和2015年6月29日在韩国提交的韩国专利申请No.10-2015-0061040和No.10-2015-0091810的优选权，以上申请的全部内容通过参引并入本文，就像在本文中完全陈述一样。
实施方式涉及透镜移动装置，并且涉及分别包括该透镜移动装置的相机模块和光学设备。
技术介绍
在现有的普通相机模块中使用的音圈马达(VCM)技术难以应用于微型的低功耗相机模块，因此已经积极展开了与上述情况相关的研究。在相机模块构造成安装在小型电子产品比如智能电话中的情况下，相机模块在使用时可能频繁地接收震动，并且可能经受由于例如使用者的手的抖动而产生的微小震动。考虑到这一事实，需要开发能够使用于防止手抖的设备另外安装至相机模块的技术。
技术实现思路
实施方式提供了一种透镜移动装置以及分别包括该透镜移动装置的相机模块和光学设备，该透镜移动装置以及相机模块和光学设备能够通过防止由于温度变化造成磁体的磁场强度偏差所产生的影响来改善自动对焦操作的可靠性，并且能够对由温度变化所引起的透镜焦距的变化进行自动地补偿。此外，实施方式提供了一种透镜移动装置以及分别包括该透镜移动装置的相机模块和光学设备，该透镜移动装置以及相机模块和光学设备能够抑制端子中的裂缝的产生，并且能够防止端子的破损。在一个实施方式中，透镜移动装置包括线圈架、壳体、上弹性构件和下弹性构件以及第一位置传感器，线圈架包括布置在其外周表面上的第一线圈，壳体设置有用于通过与第一线圈相互作用而使线圈架移动的第一磁体和第二磁体，上弹性构件和下弹性构件各自联接至线圈架和壳体两者，第一位置传感器用于检测第一磁体和第二磁体的磁场强度之和，其中，当线圈架处于初始位置时，第一位置传感器布置在位于第一磁体与第二磁体之间的空间中。第一位置传感器可以布置在线圈架的外周表面上并且布置成与第一线圈间隔开，使得当线圈架布置在初始位置处时，第一位置传感器布置在位于第一磁体与第二磁体之间的空间中。第一位磁体可以布置在壳体的上端处，并且第二磁体可以在壳体的下端处布置成与第一磁体间隔开。当线圈架布置在初始位置处时，第一位置传感器可以不与第一磁体或第二磁体在与光轴垂直的方向上重叠。第一位置传感器可以包括用于检测磁场强度的检测部，并且第一位置传感器的检测部可以布置在位于第一磁体与第二磁体之间的空间中，并且当线圈架布置在初始位置处时，第一位置传感器的检测部可以不与第一磁体或第二磁体在垂直于光轴的方向上重叠。第一位置传感器的检测部可以定位成面对线圈架的外周表面。第一位置传感器的检测部可以对其中磁力线从线圈架的内周表面指向外周表面的磁场强度进行检测。当线圈架布置在第一位置处时，第一位置传感器的检测部可以在垂直于光轴的方向上与第一磁体的上表面对准，并且第一位置可以是线圈架通过第一线圈与第一磁体和第二磁体之间的相互作用而移动到达的最高位置。当线圈架布置在第一位置处时，第一位置传感器的检测部可以在垂直于光轴的方向上与相对于第一磁体的上表面向上间隔开第一距
离的假想线或平面对准，并且第一位置可以是线圈架通过第一线圈与第一磁体和第二磁体之间的相互作用而移动到达的最高位置。第一距离可以是100μm或更小。当线圈架布置在第二位置处时，第一位置传感器的检测部可以在垂直于光轴的方向上与第二磁体的上表面对准，并且第二位置可以是线圈架通过第一线圈与第一磁体和第二磁体之间的相互作用而移动到达的最低位置。当线圈架布置在第二位置处时，第一位置传感器的检测部可以在垂直于光轴的方向上与相对于第二磁体的上表面向下间隔开第二距离的假想线或平面对准，并且第二位置可以是线圈架通过第一线圈与第一磁体和第二磁体之间的相互作用而移动到达的最低位置。第二距离可以是100μm或更小。壳体可以包括第一侧部、第二侧部、第一磁体座以及第二磁体座，第一磁体座形成在第一侧部的外部的上端处，第一磁体布置在第一磁体座中，并且第二磁体座形成在第二侧部的内部的下端处，第二磁体布置在第二磁体座中。在另一实施方式中，透镜移动装置包括线圈架、壳体、上弹性构件和下弹性构件以及第一位置传感器，线圈架包括布置在其外周表面上的第一线圈，壳体设置有用于通过与第一线圈相互作用而使线圈架移动的第一磁体和第二磁体，上弹性构件和下弹性构件各自联接至线圈架和壳体两者，第一位置传感器用于检测第一磁体和第二磁体的磁场强度之和，其中，当线圈架移动时，通过第一位置传感器检测到的磁场强度之和为零或更大。当线圈架布置在初始位置处时，第一位置传感器可以布置在位于第一磁体与第二磁体之间的空间中。当线圈架布置在第一位置处时，通过第一位置传感器检测到的第一磁体的磁场强度、第二磁体的磁场强度以及第一磁体和第二磁体的磁场强度之和可以具有正值，并且第一位置可以是线圈架通过第一线圈与第一磁体和第二磁体之间的相互作用而移动到达的最高位置。当线圈架布置在初始位置处时，通过第一位置传感器检测到的第
一磁体的磁场强度、第二磁体的磁场强度以及第一磁体和第二磁体的磁场强度之和可以具有正值，并且初始位置可以是在没有电力供给至第一线圈时的线圈架的位置。当线圈架布置在第二位置处时，通过第一位置传感器检测到的第一磁体的磁场强度、第二磁体的磁场强度以及第一磁体和第二磁体的磁场强度之和可以具有正值，并且第二位置可以是线圈架通过第一线圈与第一磁体和第二磁体之间的相互作用而移动到达的最低位置。在线圈架从第一位置经过初始位置移动至第二位置的同时，通过第一位置传感器检测到的第一磁体的磁场强度、第二磁体的磁场强度以及第一磁体和第二磁体的磁场强度之和可以具有正值，其中，第一位置是线圈架通过第一线圈与第一磁体和第二磁体之间的相互作用而移动到达的最高位置，初始位置是在没有电力供给至第一线圈时的线圈架的位置，并且第二位置是线圈架通过第一线圈与第一磁体和第二磁体之间的相互作用而移动到达的最低位置。基于由第一位置传感器检测到的磁场强度之和为零的点，线圈移动的范围可以是-0.15mm至0.52mm。透镜移动装置还可以包括布置成与第二磁体相对的第二线圈和布置在第二线圈的下方的电路板。在又一实施方式，相机模块包括透镜镜筒、根据第一实施方式的用于使透镜镜筒移动的透镜移动装置、以及用于将通过透镜移动装置引入的图像转换为电信号的图像传感器。在再一个实施方式中，光学装置包括显示模块、相机模块以及控制器，该显示模块包括响应于电信号而改变颜色的多个像素，根据第三实施方式的相机模块用于将通过透镜引入的图像转换为电信号，该控制器用于控制显示模块和相机模块的操作。附图说明可以参照以下附图对布局和实施方式进行详细描述，在附图中，相同的附图标记指代相同的元件，并且其中：图1是图示了根据实施方式的透镜移动装置的立体图；图2是图1中图示的透镜移动装置的分解立体图；图3是图示了图1中示出的透镜移动装置的组装好的立体图，其中的盖构件被移除；图4是图2中所图示的线圈架、第一线圈、第一磁体、第二磁体、第一位置传感器以及传感器板的分解立体图；图5A是图示了图4所中图示的线圈架和第二磁体的平面图；图5B是图示了图4中所图示的传感器板和第一位置传感器的分解立体图；图5C是图示了图4中所图示的传感器板的实施方式的后视立体图；图6是图1中所图示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透镜移动装置，包括：线圈架，所述线圈架包括布置在所述线圈架的外周表面上的第一线圈；壳体，所述壳体设置有用于通过与所述第一线圈相互作用而使所述线圈架移动的第一磁体和第二磁体；上弹性构件和下弹性构件，所述上弹性构件和所述下弹性构件各自联接至所述线圈架和所述壳体两者；以及第一位置传感器，所述第一位置传感器用于检测所述第一磁体的磁场强度和所述第二磁体的磁场强度之和，其中，当所述线圈架布置在初始位置处时，所述第一位置传感器布置在位于所述第一磁体与所述第二磁体之间的空间中。

【技术特征摘要】
2015.04.30 KR 10-2015-0061040;2015.06.29 KR 10-2011.一种透镜移动装置，包括：线圈架，所述线圈架包括布置在所述线圈架的外周表面上的第一线圈；壳体，所述壳体设置有用于通过与所述第一线圈相互作用而使所述线圈架移动的第一磁体和第二磁体；上弹性构件和下弹性构件，所述上弹性构件和所述下弹性构件各自联接至所述线圈架和所述壳体两者；以及第一位置传感器，所述第一位置传感器用于检测所述第一磁体的磁场强度和所述第二磁体的磁场强度之和，其中，当所述线圈架布置在初始位置处时，所述第一位置传感器布置在位于所述第一磁体与所述第二磁体之间的空间中。2.根据权利要求1所述的透镜移动装置，其中，所述第一位置传感器布置在所述线圈架的外周表面上并且布置成与所述第一线圈间隔开，以便使得当所述线圈架布置在所述初始位置处时，所述第一位置传感器布置在位于所述第一磁体与所述第二磁体之间的空间中。3.根据权利要求1所述的透镜移动装置，其中，所述第一磁体布置在所述壳体的上端处，并且所述第二磁体布置在所述壳体的下端处而与所述第一磁体间隔开。4.根据权利要求2所述的透镜移动装置，其中，当所述线圈架布置在所述初始位置处时，所述第一位置传感器在垂直于光轴的方向上不与所述第一磁体和所述第二磁体中的任一者重叠。5.根据权利要求1所述的透镜移动装置，其中，所述第一位置传感器包括用于检测磁场强度的检测部，并且，当所述线圈架布置在所述初始位置处时，所述第一位置传感器的检测部布置在位于所述第一磁体与
\t所述第二磁体之间的空间中并且在垂直于光轴的方向上不与所述第一磁体和所述第二磁体中的任一者重叠。6.根据权利要求5所述的透镜移动装置，其中，所述第一位置传感器的所述检测部定位成面对所述线圈架的外周表面。7.根据权利要求5所述的透镜移动装置，其中，所述第一位置传感器的检测部对其中磁力线从所述线圈架的内周表面指向所述线圈架的外周表面的磁场的强度进行检测。8.根据权利要求5所述的透镜移动装置，其中，当所述线圈架布置在第一位置处时，所述第一位置传感器的检测部在所述垂直于光轴的方向上与所述第一磁体的上表面对准，并且所述第一位置是所述线圈架通过所述第一线圈与所述第一磁体和所述第二磁体之间的相互作用而移动到达的最高位置。9.根据权利要求5所述的透镜移动装置，其中，当所述线圈架布置在第一位置处时，所述第一位置传感器的检测部在所述垂直于光轴的方向上与相对于所述第一磁体的上表面向上地间隔开第一距离的假想线或平面对准，并且所述第一位置是所述线圈架通过所述第一线圈与所述第一磁体和所述第二磁体之间的相互作用而移动到达的最高位置。10.根据权利要求9所述的透镜移动装置，其中，所述第一距离是100μm或更小。11.根据权利要求5所述的透镜移动装置，其中，当所述线圈架布置在第二位置处时，所述第一位置传感器的检测部在所述垂直于光轴的方向上与所述第二磁体的上表面对准，并且所述第二位置是所述线圈架通过所述第一线圈与所述第一磁体和所述第二磁体之间的相互作用而
\t移动到达的最低位置。12.根据权利要求5所述的透镜移动装置，其中，当所述线圈架布置在第二位置处时，所述第一位置传感器的检测部在所述垂直于光轴的方向上与相对于所述第二磁体的上表面向下地间隔开第二距离的假想线或平面对准，并且所述第二位置是所述线圈架通过所述第一线圈与所述第一磁体和所述第二磁体之间的相互作用而移动到达的最低位置。13.根据权利要求12所述的透镜移动装置，其中，所述第二距离是100μm或更小。14.根据权利要求1至13中的任一...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴相沃，李准泽，孙秉旭，闵相竣，刘庚皓，
申请(专利权)人：LG伊诺特有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR