用于柴油排气处理液配料装置的自动性能调节制造方法及图纸

一种自动校准控制器，被配置为自动调节后处理系统的配料装置。自动校准控制器被配置为基于配料命令表的配料命令值来命令配料装置在第一输入压力值下以第一配料命令速率对还原剂进行配给。自动校准控制器还被配置为解释指示由配料装置配给的还原剂的实际量的参数，并将指示配给的还原剂的实际量与配给的还原剂的预计量进行比较。自动校准控制器还被配置为响应于配给的还原剂的实际量与配给的还原剂的预计量的比较来更新后处理系统的控制模块的配料命令表的配料命令值。

Automatic performance regulation for diesel exhaust treatment liquid proportioning device

An automatic calibration controller is configured to automatically adjust the proportioning device of the post processing system. The automatic calibration controller is configured to order the batching device according to the batching command table's batching command value, and the dispensing device is allocated at the first input pressure value to the reducing agent at the first batching command rate. The automatic calibration controller is also configured to interpret the parameters indicating the actual amount of the reducing agent dispensed by the batching device, and compare the actual amount of the reducing agent indicating the dispensing with the predicted amount of the dispensing reductant. The automatic calibration controller is also configured to update the batching command value of the batching command table of the control module of the post-processing system in response to the comparison between the actual amount of the reductant and the predicted amount of the dispensing reducing agent.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于柴油排气处理液配料装置的自动性能调节
本申请总体涉及内燃机的后处理系统领域。
技术介绍
对于内燃机诸如柴油发动机，可能在排气中排放氮氧化物(NOx)化合物。为了减少NOx排放，可以借助于催化剂和还原剂来实施选择性催化还原(SCR)方法以将NOx化合物转化成更中性的化合物，例如双原子氮、水或二氧化碳。催化剂可以被包括在诸如车辆或发电装置的排气系统的催化剂室中。在催化剂室之前，通常将还原剂例如无水氨、氨水或尿素引入排气流中。为了将还原剂引入排气流中以用于SCR方法，SCR系统可以通过配料装置(dosingunit)配给或以其它方式引入还原剂，配料装置将还原剂蒸发或喷射到催化剂室上游的排气系统的排气管中。SCR系统可以包括一个或多个传感器来监测排气系统内的状况。
技术实现思路
本文所述的各实施方式涉及用于配料装置的自动调节配料命令。发动机控制模块和/或配料控制模块可以包括一个或多个配料表(dosingtables)，其包括基于命令配料速率和将还原剂输送到配料装置的压力来查找的配料命令。对配料装置的配料命令的自动调节可以通过在从发动机控制模块发送特定命令时测量配给的还原剂的量、确定实际配给量与预计配给量是否相同或基本上相同以及在实际配给量与预计配给量不相同或不基本上相同时修改一个或多个参数以更新配料命令表的配料命令，来确定和/或修改配料命令表的配料命令。一个实施方式涉及一种系统，所述系统包括后处理系统、压力传感器、第二传感器和自动校准控制器。所述后处理系统包括配料装置、与配料装置流体连通的还原剂罐和控制模块。控制模块可操作以基于配料命令表控制配料装置对还原剂的配给。压力传感器被配置成检测从还原剂罐至配料装置的还原剂的输入压力。第二传感器被配置为测量由配料装置配给的还原剂的实际量。自动校准控制器被配置为解释指示实质上等于第一输入压力值的至配料装置的还原剂的输入压力的第一参数。自动校准控制器还被配置为命令后处理系统的控制模块基于配料命令表的配料命令值来命令配料装置在第一输入压力值下以第一配料命令速率来配给还原剂。自动校准控制器还被配置为解释指示由配料装置配给的还原剂的实际量的第二参数，并将解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和基于第一配料命令速率的配给的还原剂的预计量进行比较。自动校准控制器还被配置为响应于解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和配给的还原剂的预计量的比较，更新后处理系统的控制模块的配料命令表的配料命令值。另一个实施方式涉及用于自动调节后处理系统的配料模块的自动校准控制器。后处理系统包括配料模块、与配料装置流体连通的还原剂罐和控制模块。控制模块可操作以基于配料命令表控制配料装置对还原剂的配给。自动校准控制器包括校准模块，所述校准模块被配置为解释指示实质上等于配料命令表的输入压力值的至配料装置的还原剂的输入压力的第一参数。所述校准模块还被配置为基于配料命令表的配料命令值来命令配料装置在上述输入压力值下以配料命令速率来配给还原剂。所述校准模块还被配置为解释指示由所述配料装置配给的还原剂的实际量的第二参数，并且将解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和基于配料命令速率的配给的还原剂的预计量进行比较。所述校准模块还被配置为响应于解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和配给的还原剂的预计量的比较，更新后处理系统的控制模块的配料命令表的配料命令值。另外的实施方式涉及一种系统，所述系统包括后处理系统和自动校准控制器。后处理系统包括配料装置、与配料装置流体连通的还原剂罐以及控制模块。所述控制模块可操作以基于配料命令表控制配料装置对还原剂的配给。所述自动校准控制器被配置为解释指示实质上等于输入压力值的至配料装置的还原剂的输入压力的第一参数。所述自动校准控制器还被配置为基于配料命令表的配料命令值来命令配料装置在上述输入压力值下以配料命令速率来配给还原剂。所述自动校准控制器还被配置为解释指示由所述配料装置配给还原剂的实际量的第二参数，并且将解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和基于配料命令速率的配给的还原剂的预计量进行比较。所述自动校准控制器还被配置为响应于解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和配给的还原剂的预计量的比较，更新后处理系统的控制模块的配料命令表的配料命令值。再另外的实施方式涉及一种后处理系统，所述后处理系统包括配料装置、与配料装置流体连通的还原剂罐和控制模块。所述控制模块可操作以基于配料命令表控制配料装置对还原剂的配给。所述控制模块还包括自动校准控制模块，所述自动校准控制模块被配置为解释指示实质上等于输入压力值的至配料装置的还原剂的输入压力的第一参数。所述自动校准控制模块还被配置为基于配料命令表的配料命令值来命令配料装置在输入压力值下以配料命令速率来配给还原剂。所述自动校准控制模块还被配置为解释指示由所述配料装置配给还原剂的实际量的第二参数，并且将解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和基于配料命令速率的配给的还原剂的预计量进行比较。所述自动校准控制模块还被配置为响应于解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和配给的还原剂的预计量的比较，更新后处理系统的控制模块的配料命令表的配料命令值。还有一个实施方式涉及一种使用自动校准控制器对配料装置进行自动性能调节的方法。该方法包括解释指示实质上等于输入压力值的来自压力传感器的至配料装置的还原剂的输入压力的第一参数。所述方法还包括基于配料命令表的配料命令值来命令配料装置在输入压力值下以配料命令速率来配给还原剂，所述配料命令表存储在控制模块的计算机可读存储介质中，所述控制模块可操作以基于配料命令表控制配料装置对还原剂的配给。所述方法还包括解释指示来自第二传感器的由所述配料装置配给还原剂的实际量的第二参数，并且将解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和基于配料命令速率的配给的还原剂的预计量进行比较。所述方法还包括响应于解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和配给的还原剂的预计量的比较，更新后处理系统的控制模块的配料命令表的配料命令值至更新的配料命令值。附图说明在附图和以下描述中阐述了一个或多个实施方式的细节。本公开的其他特征、方面和优点将由说明书、附图和权利要求书而变得显而易见，其中：图1是示例选择性催化还原系统的方框示意图，所述示例选择性催化还原系统具有用于排气系统的示例还原剂输送系统；图2是示例配料命令表的概览，所述示例配料命令表具有基于相应的压力和命令配料速率的几个配料命令；图3是自动调节对配料装置的配料命令的示例系统的方框示意图；图4是描绘用于自动调节对配料装置的配料命令的示例方法的过程图；以及图5是用于实施图4的方法的示例算法的过程图。将认识到，为了说明的目的，一些或所有附图是示意图。提供附图是为了说明一个或多个实施方式，明确理解它们将不被用于限制权利要求书的范围或含义。具体实施方式以下是涉及用于自动调节对配料装置的配料命令的方法、装置和系统的各种概念和用于自动调节对配料装置的配料命令的方法、装置和系统的各实施方式的更详细描述。上面已介绍并在下面更详细讨论的各种概念可以以许多方式中的任何一种来实现，所描述的概念不限于任何特定的实现方式。主要出于说明目的而提供具体实施方式和应用的示例。Ⅰ.概述对于具有后处理系统的车辆，配料装本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种系统，其特征在于，所述系统包括：后处理系统，所述后处理系统包括：配料装置，还原剂罐，所述还原剂罐与所述配料装置流体连通；以及控制模块，所述控制模块可操作以基于配料命令表来控制所述配料装置对还原剂的配给；压力传感器，所述压力传感器被配置为检测从所述还原剂罐至所述配料装置的还原剂的输入压力；第二传感器，所述第二传感器被配置为测量由所述配料装置配给的还原剂的实际量；以及自动校准控制器，所述自动校准控制器被配置为：解释指示实质上等于第一输入压力值的至所述配料装置的还原剂的所述输入压力的第一参数，命令所述后处理系统的所述控制模块基于所述配料命令表的配料命令值来命令所述配料装置在所述第一输入压力值下以第一配料命令速率来配给还原剂，解释指示由所述配料装置配给的还原剂的所述实际量的第二参数，将所解释的指示配给的还原剂的所述实际量的第二参数和基于所述第一配料命令速率配给的还原剂的预计量进行比较，以及响应于所解释的指示配给的还原剂的所述实际量的第二参数和配给的还原剂的所述预计量的比较，更新所述后处理系统的所述控制模块的所述配料命令表的所述配料命令值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种系统，其特征在于，所述系统包括：后处理系统，所述后处理系统包括：配料装置，还原剂罐，所述还原剂罐与所述配料装置流体连通；以及控制模块，所述控制模块可操作以基于配料命令表来控制所述配料装置对还原剂的配给；压力传感器，所述压力传感器被配置为检测从所述还原剂罐至所述配料装置的还原剂的输入压力；第二传感器，所述第二传感器被配置为测量由所述配料装置配给的还原剂的实际量；以及自动校准控制器，所述自动校准控制器被配置为：解释指示实质上等于第一输入压力值的至所述配料装置的还原剂的所述输入压力的第一参数，命令所述后处理系统的所述控制模块基于所述配料命令表的配料命令值来命令所述配料装置在所述第一输入压力值下以第一配料命令速率来配给还原剂，解释指示由所述配料装置配给的还原剂的所述实际量的第二参数，将所解释的指示配给的还原剂的所述实际量的第二参数和基于所述第一配料命令速率配给的还原剂的预计量进行比较，以及响应于所解释的指示配给的还原剂的所述实际量的第二参数和配给的还原剂的所述预计量的比较，更新所述后处理系统的所述控制模块的所述配料命令表的所述配料命令值。2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述自动校准控制器还被配置为：命令所述后处理系统的所述控制模块基于所述配料命令表的第二配料命令值来命令所述配料装置在所述第一输入压力值下以第二配料命令速率来配给还原剂，解释指示由所述配料装置配给的还原剂的第二实际量的第三参数，将所解释的指示配给的还原剂的所述第二实际量的第二参数和基于所述第二配料命令速率配给的还原剂的第二预计量进行比较，以及响应于所解释的指示配给的还原剂的所述第二实际量的第三参数和配给的还原剂的所述第二预计量的比较，更新所述后处理系统的所述控制模块的所述配料命令表的所述第二配料命令值。3.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第二传感器为称重天平。4.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第二传感器基于所述还原剂罐的重量来测量由所述配料装置配给的还原剂的所述实际量。5.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第二传感器基于接收罐的重量来测量由所述配料装置配给的还原剂的所述实际量，还原剂从所述配料装置被配给到所述接收罐中。6.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括：外部压力供应，所述外部压力供应与所述还原剂罐流体连通；其中所述自动校准控制器被配置为选择性地控制从所述外部压力供应供给到所述还原剂罐的空气的压力，以控制至所述配料装置的还原剂的输入压力。7.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述自动校准控制器被配置为响应于所解释的指示配给的还原剂的所述实际量的第二参数和配给的还原剂的所述预计量之间的差异超过预定误差阈值，更新所述配料命令值。8.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述自动校准控制器还被配置为：命令所述后处理系统的所述控制模块基于更新的配料命令值来命令所述配料装置在所述第一输入压力值下以所述第一配料命令速率来配给还原剂。9.如权利要求1所述的系统，其特征在于，基于所述配料命令表的所述配料命令值来命令所述配料装置以所述第一配料命令速率来配给还原剂包括基于所述配料命令值在预定时间段内以所述第一配料命令速率来配给还原剂。10.如权利要求1所述的系统，其特征在于，基于所述配料命令表的所述配料命令值来命令所述配料装置以所述第一配料命令速率来配给还原剂包括基于所述配料命令值以所述第一配料命令速率来配给预定容积的还原剂。11.一种用于自动调节后处理系统的配料模块的自动校准控制器，其特征在于，所述后处理系统包括所述配料模块、与所述配料装置流体连通的还原剂罐，以及可操作以基于配料命令表来控制所述配料装置对还原剂的配给的控制模块，所述自动校准控制器包括：校准模块，所述校准模块被配置为：解释指示实质上等于所述配料命令表的输入压力值的至所述配料装置的还原剂的输入压力的第一参数，基于所述配料命令表的配料命令值来命令所述配料装置在所述输入压力值下以配料命令速率来配给还原剂，解释指示由所述配料装置配给的还原剂的实际量的第二参数，将所解释的指示配给的还原剂的实际量的第二参数和基于所述配料命令速率配给的还原剂的预计量进行比较，以及响应于所解释的指示配给的还原剂的所述实际量的第二参数和配给的还原剂的所述预计量的比较，更新所述后处理系统的所述控制模块的所述配料命令表的所述配料命令值。12.如权利要求11所述的自动校准控制器，其特征在于，所述校准模块还被配置为：基于更新的配料命令值来命令所述配料装置在所述输入压力值下以所述配料命令速率来配给还原剂。13.如权利要求12所述的自动校准控制器，其特征在于，由所述配料装置配给的还原剂的实际量基于重量传感器的输出，所述重量传感器测量所述还原剂罐或接收罐中一个的重量，还原剂从所述配料装置被配给到所述接收罐中。14.如权利要求13所...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·C·汉德森，N·卡勒德，
申请(专利权)人：康明斯排放处理公司，
类型：发明
国别省市：美国,US