彩膜基板的制作方法技术

本发明专利技术提出了一种彩膜基板的制作方法，包括步骤：提供一基板；在所述基板表面形成RGB色阻，所述RGB色阻的上表面为出光区域；在所述RGB色阻表面形成黑色矩阵，所述黑色矩阵覆盖于所述RGB光阻表面且未完全覆盖所述RGB色阻的出光区域；在所述RGB色阻之间空白区域的黑色矩阵表面形成支撑柱；在所述基板的上方形成保护层。本发明专利技术通过改善对黑色矩阵和支撑柱的设计，即缩小了彩膜基板的厚度，也改善了光线透过彩膜基板发生的混色问题，进而提高了显示器件的显示质量。

Making method of color film substrate

The invention provides a method for manufacturing a color film substrate, comprising the steps of: providing a substrate; forming RGB color resistance on the substrate surface, on the surface of the RGB color is light resistance in the region; a black matrix formed by the RGB color block surface, the black matrix covers the RGB light the surface resistance and not completely covered by the RGB color light resistance region; a blank area of the surface of the black matrix is formed between the RGB color resistance support column; protective layer formed over the substrate. By improving the design of the black matrix and the supporting post, the invention reduces the thickness of the color film substrate, and improves the color mixing problem of the light passing through the color film substrate, thereby improving the display quality of the display device.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板的制作方法
本专利技术涉及显示领域，具体涉及一种彩膜基板的制作方法。
技术介绍
有机电致发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)以其良好的自发光特性、优越的对比度、快速响应以及柔性显示等优势，得到了广泛的应用。OLED实现全才的方式有以下集中：a、采用红绿蓝三种有机发光材料直接发光；b、白色有机发光器件(whiteorganiclight-emittingdiode,WOLED)+彩膜(Colourfilter，CF)；c、光色转换法+蓝色发光层加光色转换层。目前OLED中彩膜的涉及需要参照液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)彩膜设计；LCD中需要采用彩膜实现全彩显示，彩膜基板1一般包括黑色矩阵12(BlackMatrix，BM)，RGB色阻13以及保护层14、支撑柱15(Photospacer，PS)，具体结构如图1所示。现有OLED结构中支撑柱15位于保护层14之上，这样容易使得WOLED与彩膜基板1的间距增大，造成混色风险，并且支撑柱15一般为有机光阻，呈现淡黄色，有一定的透光性。专利技术内容本专利技术提供了本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤：步骤S10、提供一基板；步骤S20、在所述基板表面形成RGB色阻，所述RGB色阻包括至少四个阵列分布的色阻区，每个色阻区包括依次分布的第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述RGB色阻的上表面包括出光区域；步骤S30、在所述RGB色阻表面形成黑色矩阵，所述黑色矩阵覆盖于所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分；步骤S40、在所述RGB色阻之间空白区域的黑色矩阵表面形成支撑柱，所述支撑柱每隔一个色阻区设置一个；步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻；其中，采用所...

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤：步骤S10、提供一基板；步骤S20、在所述基板表面形成RGB色阻，所述RGB色阻包括至少四个阵列分布的色阻区，每个色阻区包括依次分布的第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述RGB色阻的上表面包括出光区域；步骤S30、在所述RGB色阻表面形成黑色矩阵，所述黑色矩阵覆盖于所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分；步骤S40、在所述RGB色阻之间空白区域的黑色矩阵表面形成支撑柱，所述支撑柱每隔一个色阻区设置一个；步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻；其中，采用所述支撑柱与所述黑色矩阵结合互补的设置用以防止所述RGB色阻出射光线相互混色。2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一色阻块为红色色阻块，所述第二色阻块为绿色色阻块，所述第三色阻块为蓝色色阻块。3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述基板为刚性衬底或柔性衬底。4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵的制备材料为有机光阻、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者。5.根据权利要求4...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文杰，井口真介，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44