彩膜基板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种彩膜基板的制造方法，所述彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵层和多个彩色像素单元，所述彩色像素单元包括至少三种颜色的亚像素单元，其中，所述彩膜基板的制造方法包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成黑矩阵层和所述多个彩色像素单元，其中形成所述多个彩色像素单元的步骤包括：在所述衬底基板上沉积不可逆温变材料；对所述不可逆温变材料进行加热，以形成所述彩色像素单元中的至少两种颜色的亚像素单元。本发明专利技术提供的彩膜基板的制造方法，选择不可逆温变材料形成彩色像素单元中部分颜色的亚像素单元，对该部分颜色的亚像素单元进行加热得到其他颜色的亚像素单元，节约了所用掩膜的次数，减小了工艺复杂度。

Manufacturing method of color film substrate

The present invention provides a method for manufacturing a color film substrate, wherein the color film substrate comprises a substrate, a black matrix layer and a plurality of color pixels, the color pixel unit includes a pixel unit, at least three colors which comprises a manufacturing method of color film substrate: providing a substrate; black the matrix layer and the plurality of color pixel unit is formed on the substrate, the formation of the plurality of color pixel unit comprises the following steps: depositing not inversion change material on the substrate on the substrate; the irreversible temperature material is heated, with sub pixel unit is formed at least two colors the color of the pixel unit. Method for manufacturing color film substrate provided by the invention, the sub-pixel unit selection of irreversible temperature material forming part of the color in the pixel unit, the sub-pixel unit of the color of the heating sub pixel unit of other colors, save for the number of mask and reduce process complexity.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板的制造方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板的制造方法。
技术介绍
彩膜基板作为显示器件的重要组成部分，其制备需要繁杂的工艺。彩膜基板的制备过程中，主要的工艺集中于对像素的制备，对于传统的RGB三原色组成的像素，每形成一个颜色的像素都需要一道单独的掩膜工艺，包括清洗、涂胶、曝光、显影等工序，三原色组成的像素则需要三道掩膜工艺。目前具有RGBY四色像素的显示器件也得到了广泛的发展。RGBY四色像素是在传统的RGB三原色组成像素的基础上，再增加一个黄色的子像素形成RGBY四色像素，通过四色技术，无须多耗费电力，就能实现更广阔的色域。但是这也意味着又需要增加形成黄色像素的掩膜，工艺复杂度加大。无论是传统的RGB三原色像素结构还是现在新兴的RGBY四色像素结构，都需要尽量减少掩膜的使用，每减少一道掩膜就能减少清洗、涂胶、曝光、显影等一系列的工序，能很大程度上减少工艺复杂度。
技术实现思路
鉴于相关技术中的上述问题，本专利技术的目的在于提供一种彩膜基板的制造方法。本专利技术提供一种彩膜基板的制造方法，所述彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵层和多个彩色像素单元，所述彩色像素单元包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制造方法，所述彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵层和多个彩色像素单元，所述彩色像素单元包括至少三种颜色的亚像素单元，其中，所述彩膜基板的制造方法包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成黑矩阵层和所述多个彩色像素单元，其中形成所述多个彩色像素单元的步骤包括：在所述衬底基板上沉积不可逆温变材料；对所述不可逆温变材料进行加热，以形成所述彩色像素单元中的至少两种颜色的亚像素单元。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制造方法，所述彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵层和多个彩色像素单元，所述彩色像素单元包括至少三种颜色的亚像素单元，其中，所述彩膜基板的制造方法包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成黑矩阵层和所述多个彩色像素单元，其中形成所述多个彩色像素单元的步骤包括：在所述衬底基板上沉积不可逆温变材料；对所述不可逆温变材料进行加热，以形成所述彩色像素单元中的至少两种颜色的亚像素单元。2.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其中所述不可逆温变材料包括铅、镍、钴、铁、镉、锶、锌、猛、钼、镁等的硫酸盐、硝酸盐、磷酸盐、硫化物、氧化物以及偶氮颜料、酞菁颜料、芳基甲烷燃料中的任意一种或其组合。3.如权利要求1或2中任一项所述彩膜基板的制造方法，所述彩色像素单元包括红色亚像素单元、绿色亚像素单元、蓝色亚像素单元和黄色亚像素单元，所述彩膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏雄周，黎敏，熊强，庞家齐，刘超，万彬，孙红雨，毕瑞琳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11