一种直写式光刻机设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种直写式光刻机设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型专利技术的直写式光刻机设备采用光路覆盖1/n个整板面积的方式来完成超大板和普通板的兼顾生产，使其在生产超大板时能够有与现有超大板LDI同等的生产产能和效果，生产普通板时能与普通板LDI拥有同等的生产产能和效果，提高设备的利用率和适用性。

【技术实现步骤摘要】
一种直写式光刻机设备
本技术涉及一种直写式光刻机设备，属于直写曝光

技术介绍
直写式光刻机设备又称影像直接转移设备(LDI)，在半导体及PCB生产领域是一个关键设备。随着PCB市场发展的需求，对于PCB基板的尺寸要求越来越大。这就需要有一种能够生产超大板能力的直写曝光设备。同时由于一些PCB板生产商的发展受限，以及超大基板的需求量有时不能满足PCB生产商的产能能力，因此在PCB直写曝光市场领域，急需一款能够兼顾普通板与超大板同时生产的设备，并且在生产普通板时能有与普通LDI同样的产能表现。目前在LDI市场上，还没有能够兼顾普通板与超大板生产产能的设备。现有采用DMD方式进行曝光的LDI超大板设备中，都为多光路、多条带的扫描曝光方式。传统的设计方案为多光路覆盖整板的方式，往复扫描多个条带后曝光完成一块超大板。但无论基板多大，基本都要扫描固定的条带数量，这样就不利于产能的动态分配。当现有超大板LDI设备直接用于生产普通板时，也需要整板的扫描曝光，也要花费同等的时间进行曝光生产，达不到普通板LDI的生产产能，增加了设备使用成本与人力，设备的利用率和适用性大打折扣。
技术实现思路
为了解决本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种直写式光刻机设备，包括吸盘和多个光路组件；其特征在于，所述光路组件单个与单个之间相对位置固定；所述多个光路组件是覆盖1/n个吸盘的光路组件，且n大于1。

【技术特征摘要】
1.一种直写式光刻机设备，包括吸盘和多个光路组件；其特征在于，所述光路组件单个与单个之间相对位置固定；所述多个光路组件是覆盖1/n个吸盘的光路组件，且n大于1。2.根据权利要求1所述的直写式光刻机设备，其特征在于，所述n为整数。3.根据权利要求1或2所述的直写式光刻机设备，其特征在于，所述n为2～4。4.根据权利要求1或2所述的直写式光刻机设备，其特征在于，所述多个光路组件是指含有2个以上的光路组件。5.根据权利要求1或2所述的直...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈海巍，
申请(专利权)人：无锡影速半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32