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本实用新型公开了一种直写式光刻机设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的直写式光刻机设备采用光路覆盖1/n个整板面积的方式来完成超大板和普通板的兼顾生产，使其在生产超大板时能够有与现有超大板LDI同等的生产产能和效果，生产普通板时能与普通板...
该专利属于无锡影速半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡影速半导体科技有限公司授权不得商用。

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