基板显影装置制造方法及图纸

技术编号:16548333 阅读:30 留言:0更新日期:2017-11-11 12:37
本实用新型专利技术涉及平板显示器生产领域,公开了一种基板显影装置,该装置中包括显影单元,所述显影单元中包括显影槽;而且该装置中还包括与所述显影单元配合安装的消泡单元,所述消泡单元包括消泡槽、消泡槽外盖、抽风管以及液体喷淋组件,其中所述消泡槽和所述消泡槽外盖配合安装以形成消泡空间,所述消泡槽上形成有连通所述消泡空间和所述显影槽内腔的泡沫溢流口以及连通所述消泡空间和外部的废液流出口,所述泡沫溢流口位于高于所述显影槽中显影剂的液面的位置;所述抽风管连通所述消泡空间与外部抽风机;所述液体喷淋组件安装在所述消泡空间内高于所述废液流出口的位置。这种基板显影装置的使用能够提高产品稼动率、减少基板显影不良的风险。

Substrate developing device

The utility model relates to a flat panel display manufacturing field, discloses a substrate developing apparatus includes a developing unit of the device, including the developing groove of the developing unit; and the device also includes with the developing unit global unit installed in the fire, the defoaming unit comprises a defoaming tank, defoaming tank the outer cover, exhaust tube and liquid spray assembly, wherein the defoaming tank and the foam groove to form a foam cover with installation space, the elimination of bubble overflow is communicated with the defoaming space and the developing cavity bubble groove and connected the outflow of waste elimination global space and outside the mouth, the foam overflow is arranged above the liquid developer in the slot position; the ventilation pipe is communicated with the defoaming space and external exhaust fan; the liquid spray assembly is mounted on the defoaming The position in the space is higher than that of the effluent outlet. Using the substrate of the developing device can improve the product utilization rate, reduce the risk of developing adverse substrate.

【技术实现步骤摘要】
基板显影装置
本技术涉及平板显示器生产领域,具体地涉及一种基板显影装置。
技术介绍
随着平板显示技术的发展,液晶显示器已经广泛应用于电脑、电视、手机、车载屏幕等设备上。在目前TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)的生产过程中,彩膜及触控基板是不可或缺的关键零组件之一,而彩膜及触控基板的制备过程中不可避免的都需要用到光阻的显影技术来形成各种图案或进一步进行选择性蚀刻来形成各种功能层。现有的显影机作业流程主要先通过泵将显影液送至显影机喷管进行基板显影作业,再次过程中由于光阻乾膜溶解于显影液,实际上是一种皂化作用,因此在机械泵浦的搅拌下会产生泡沫,当大量的泡沫产生之后,不但会溢出显影槽,而且会降低显影液与基板面的冲击压力造成显影不良,需多次停机清洁。以上是现有装置的不足之处,为了提高生产良率和效率,降低生产停机清洁,所以需要对现有的显影机装置进行设计优化。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术存在的不足,提供一种基板显影装置,以在显影装置操作过程中去除所产生的泡沫,进而提高生产稼动率,减少停机维护时间。为了实现上述目的,本技术提供了一种基板显影装置,所述装置中包括显影单元,所述显影单元中包括显影槽;所述装置中还包括与所述显影单元配合安装的消泡单元,所述消泡单元包括消泡槽、消泡槽外盖、抽风管以及液体喷淋组件,其中所述消泡槽和所述消泡槽外盖配合安装以形成消泡空间,所述消泡槽上形成有连通所述消泡空间和所述显影槽内腔的泡沫溢流口以及连通所述消泡空间和外部的废液流出口,所述泡沫溢流口位于高于所述显影槽中显影剂的液面的位置;所述抽风管连通所述消泡空间与外部抽风机;所述液体喷淋组件安装在所述消泡空间内高于所述废液流出口的位置。优选地,所述消泡槽与所述显影槽共用第一侧壁,所述泡沫溢流口形成在所述第一侧壁上。优选地,所述泡沫溢流口具有长方形结构,且该长方形结构中长边平行于所述显影槽中显影液的液面。优选地,所述液体喷淋组件包括输液管和多个喷嘴,各所述喷嘴设置在所述输液管上、且其液体喷淋口朝向所述消泡槽的底壁方向设置。优选地,所述输液管的延伸方向平行于所述泡沫溢流口的长边方向。优选地,所述废液流出口形成在所述消泡槽的底壁上,所述液体喷淋组件的液体喷淋口位于所述泡沫溢流口与所述废液流出口之间。优选地,所述消泡单元中还包括导板,所述导板倾斜的安装在所述消泡槽的一侧侧壁和底壁之间;所述导板与底壁之间的夹角为a、且5°≤a≤30°,且所述导板的垂直投影具有方形结构,该方形结构和所述底壁中平行于所述一侧侧壁的边线长度相等,该方形结构和所述底壁中垂直于所述一侧侧壁的边线比值为R、且1/2≤R<1;所述废液流出口形成在所述底壁中未被所述导板垂直投影覆盖的部分。优选地,所述消泡槽包括相互相对设置的第一侧壁和第二侧壁,所述泡沫溢流口形成在所述第一侧壁上,与所述导板相接的所述一侧侧壁为所述第二侧壁。优选地,所述消泡槽的顶壁上形成有外盖安装口,所述消泡槽外盖与所述外盖安装口配合安装。优选地,所述排风管穿透所述顶壁不同于外盖安装口的部分与所述消泡空间相连通。本技术所提供的基板显影装置,通过设置与显影单元配合安装的消泡单元,藉由外部抽风机吸引显影槽内泡沫,使得显影槽中的泡沫通过泡沫溢流口流入到消泡槽的消泡空间中,同时通过液体喷淋组件对位于消泡空间内的泡沫进行喷洒,以将显影工艺所产生的高浓度泡沫稀释及击破。本技术所提供的基板显影装置,能够在不使用化学消泡剂的情况下排出在显影单元所产生泡沫,有利于减少动力端废水处理量,降低购买消泡剂的成本,提高产品稼动率、减少基板显影不良的风险,同时因无需停机清洁,有利于提高生产效率。附图说明图1是根据本技术一种实施方式的显影槽单元的主视结构示意图;图2是根据本技术一种实施方式的显影槽单元的侧视结构示意图;附图标记说明11为显影槽12为显影槽外盖13为显影液回流口21为消泡槽211为泡沫溢流口22为消泡槽外盖23为抽气管24为液体喷淋组件241为输液管242为喷嘴25为导板具体实施方式以下将结合附图对本技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术,并不用于限制本技术。正如
技术介绍
部分所描述的,现有的显影机在作业流程中不可避免的会产生泡沫,针对于这一问题,在本技术中提供了一种基板显影装置。如图1和图2所示,该装置中包括显影单元,所述显影单元中包括显影槽11,而且该装置中还包括与所述显影单元配合安装的消泡单元,所述消泡单元包括消泡槽21、消泡槽外盖22、抽风管23以及液体喷淋组件24,其中所述消泡槽21和所述消泡槽外盖22配合安装以形成消泡空间,所述消泡槽21上形成有连通所述消泡空间和所述显影槽11内腔的泡沫溢流口211以及连通所述消泡空间和外部的废液流出口,所述泡沫溢流口位于高于所述显影槽11中显影剂的液面的位置;所述抽风管23连通所述消泡空间与外部抽风机;所述液体喷淋组件24安装在所述消泡空间内高于所述废液流出口的位置。在本技术中所提供的这种基板显影装置的重点在于,在基板显影装置中配合显影单元的显影槽安装了配套的消泡单元,该消泡单元是以显影槽为基准设置的,因此在本技术中对于现有技术中显影机的结构不进行详细描述,只要在基板显影装置形成与显影槽配合安装的消泡单元就属于本技术所要求保护的范围。此外,为了便于了解该消泡单元与显影槽11的位置关系,如图1和2所示,在图中同时给出了与显影槽11配合使用的显影槽外盖12、以及形成在所述显影槽11侧壁上的显影液回流口13,其中显影槽外盖12与所述消泡槽22设置在相同的方向上,优选设置在显影槽11和消泡槽21的顶壁方向;其中显影液回流口13与消泡槽21设置在所述显影槽11的不同侧壁方向,即泡沫溢流口211与显影液回流口13不形成在所述显影槽的同一侧侧壁上。根据本技术所述的装置,其中泡沫溢流口的作用是使得在显影槽11中所产生的泡沫在外力抽风作用下能够被吸至消泡槽21中,因此其只要能够连通显影槽11内腔和消泡槽21的消泡空间即可。然而为了简化整个装置的结构,降低对于泡沫的抽吸力度的要求,优选情况下,所述消泡槽21与所述显影槽11共用第一侧壁,所述泡沫溢流口211形成在所述第一侧壁上。根据本技术所述的装置,对于泡沫溢流口211的形状可以没有特殊要求,然而为了降低泡沫运动过程中所受到的阻力,优选情况下,所述泡沫溢流口211具有长方形结构,且该长方形结构中长边平行于所述显影槽11中显影液的液面。根据本技术所述的装置,为了更好的实现液体喷洒,增加液体与泡沫的接触面积,进而更好的将显影工艺所产生的高浓度泡沫稀释及击破,优选情况下,所述液体喷淋组件24包括输液管241和多个喷嘴242,各所述喷嘴242设置在所述输液管241上、且其液体喷淋口朝向所述消泡槽21的底壁方向设置。更优选地,所述输液管241的延伸方向平行于所述泡沫溢流口211的长边方向。更优选地,各所述喷嘴242沿所述输液管241的延伸方向均布。根据本技术所述的装置,为了降低工艺成本,优选情况下,所述液体喷淋组件24中输液管241的进液端可以与基板显影装置清洗段废水出液端相连,该清洗段并非为本专利技术的重点保本文档来自技高网
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基板显影装置

【技术保护点】
一种基板显影装置,所述装置中包括显影单元,所述显影单元中包括显影槽(11),其特征在于,所述装置中还包括与所述显影单元配合安装的消泡单元,所述消泡单元包括消泡槽(21)、消泡槽外盖(22)、抽风管(23)以及液体喷淋组件(24),其中所述消泡槽(21)和所述消泡槽外盖(22)配合安装以形成消泡空间,所述消泡槽(21)上形成有连通所述消泡空间和所述显影槽(11)内腔的泡沫溢流口(211)以及连通所述消泡空间和外部的废液流出口,所述泡沫溢流口(211)位于高于所述显影槽(11)中显影剂的液面的位置;所述抽风管(23)连通所述消泡空间与外部抽风机;所述液体喷淋组件(24)安装在所述消泡空间内高于所述废液流出口的位置。

【技术特征摘要】
1.一种基板显影装置,所述装置中包括显影单元,所述显影单元中包括显影槽(11),其特征在于,所述装置中还包括与所述显影单元配合安装的消泡单元,所述消泡单元包括消泡槽(21)、消泡槽外盖(22)、抽风管(23)以及液体喷淋组件(24),其中所述消泡槽(21)和所述消泡槽外盖(22)配合安装以形成消泡空间,所述消泡槽(21)上形成有连通所述消泡空间和所述显影槽(11)内腔的泡沫溢流口(211)以及连通所述消泡空间和外部的废液流出口,所述泡沫溢流口(211)位于高于所述显影槽(11)中显影剂的液面的位置;所述抽风管(23)连通所述消泡空间与外部抽风机;所述液体喷淋组件(24)安装在所述消泡空间内高于所述废液流出口的位置。2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述消泡槽(21)与所述显影槽(11)共用第一侧壁,所述泡沫溢流口(211)形成在所述第一侧壁上。3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述泡沫溢流口(211)具有长方形结构,且该长方形结构中长边平行于所述显影槽(11)中显影液的液面。4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述液体喷淋组件(24)包括输液管(241)和多个喷嘴(242),各所述喷嘴(242)设置在所述输液管(241)上、且其液体喷淋口朝向所述消泡槽(21)的底壁方向设置。5.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述输液管(241...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖文晟
申请(专利权)人:东旭昆山显示材料有限公司东旭集团有限公司东旭科技集团有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

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