含有酞菁化合物的有色成像组合物、油墨、喷墨油墨、喷墨记录方法、和臭氧褪色耐性的提高方法技术

一种油墨，特征在于它含有选自通式（Ⅰ）、（Ⅱ）、（Ⅲ）和（Ⅳ）所代表的酞菁化合物的至少一种化合物，并具有作为三种主要色彩的染料的色彩再现性优异的吸收特性，并具有足够的耐环境中的光、热、湿度和活性气体的牢固性，因此可以得到具有优异色彩和牢固性的有色图像或有色材料。该油墨可用于各种着色组合物如喷墨打印用的油墨组合物、热转印成像材料的油墨片、电子照相调色剂、ＬＣＤ、ＰＤＰ和ＣＣＤ中滤色片用的着色组合物、以及用于各种纤维染色用的染色浴。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
含有酞菁化合物的有色成像组合物、油墨、喷墨油墨、喷墨记录方法、和臭氧褪色耐性的提高方法                     
本专利技术涉及一种新型酞菁化合物和含有这种化合物的有色成像组合物，具体地说，本专利技术涉及一种青色喷墨用的油溶性油墨、一种喷墨记录方法和一种利用该喷墨记录提高图像记录材料的臭氧气褪色耐性(本文后面有时称之为“臭氧气耐性”)的方法。                     
技术介绍
近年来，作为有色成像材料，主要流行的是尤其用于形成彩色图像的材料。具体地，是广泛利用喷墨模式的记录材料、热转印模式记录材料、电子照相模式记录材料、转印模式卤化银感光材料、印刷油墨、记录笔等。而且，将滤色片用于像素如拍照用仪器中的CCD、和显示器中的LCD和PDP中记录和再现彩色图像。在这些彩色图像记录材料和滤色片中，为了再现或记录全色图像，使用所谓加色混合法或减色混合法中三种主要颜色的染料(染料和颜料)。然而，目前的状况是不能获得具有能够实现优选彩色再现性的吸收特性并具有牢固性以便承受各种使用条件和环境条件的染料，对此迫切需要提高。由于材料成本便宜，可以高速记录，记录期间噪音低，并且容易彩色记录，因此喷墨记录方法快速普及并且得到进一步开发。这种喷墨记录方法包括连续飞小滴的连续模式和根据图像信息信号飞小滴的需求式模式。而且，排出模式包括通过压电元件施加压力排出小滴的模式、在油墨中受热产生气泡以排出小滴的模式、使用超声波的模式、和通过静电力吸出和排出小滴的模式。而且，作为喷墨油墨，常-->用含水油墨、油基油墨或固体(熔融型)油墨。用于这种喷墨油墨的染料必需满足如下要求：它们在溶剂中的溶解度或分散性良好；它们可以实现高速记录；它们具有良好的色彩；它们耐环境中的光、热和活性气体(氧化气体如NOx和臭氧以及SOx)；它们对水或化学物质具有优异的耐性；它们对接收图像的材料具有良好的固定性能并且几乎不渗出；它们作为油墨具有优异的保存性；它们无毒；它们具有高的纯度；和它们廉价。具体地说，迫切需要这些染料，以便它们是具有良好青色色彩并具有耐光、湿度和热性的染料，特别是它们在具有含多孔白色无机颜料颗粒的接收油墨层的接收图像的材料上印刷期间耐环境中的氧化气体，例如臭氧。在利用电子照相模式的彩色复印机或彩色激光打印机中，一般说来，广泛使用具有分散在树脂颗粒中的彩色材料的调色剂。作为这些彩色调色剂所需的性能，列举的有能够实现优选彩色再现区域的吸收特性；特别是在通过高架投影仪(本文后面称之为“OHP”)使用期间成为一个问题的高的透光率(透明性)；和在使用环境条件下不同的牢固性。具有作为分散在颗粒中的彩色材料的颜料的这种调色剂公开在JP-A-62-150751、JP-A-62-255956和JP-A-6-118715中。尽管这些调色剂具有优异的耐光性，但是它们不能溶解致使它们可能引起凝聚。因此，它们在降低有色层的透光率和改变透射颜色的色彩方面是成问题的。另一方面，使用染料作为着色材料的调色剂公开在JP-A-3-276161、JP-A-7-209912和JP-A-8-123085中。这些调色剂相反地具有高的透光率并且色彩没有改变，但是它们在耐光性方面存在问题。热转印记录具有如下优点：设备尺寸小并且可以降低成本；其容易存在和维护；并且运行成本便宜。作为用于热转印记录的染料所需的性能，列举的有能够实现优选彩色再现区域的吸收特性；传递之后-->热转印性能和定影性能的共存性；热稳定性；和所得图像的各种牢固性。然而，传统已知染料中没有一种能够满足所有这些性能。例如，从提高定影性能和耐光性的目的，JP-A-60-2398等中公开了一种热转印记录材料和成像方法，其中在预先加入热扩散性染料的图像接收材料中通过过渡金属离子形成螯合物。然而，形成的螯合物染料的吸收特性处于不令人满意的水平，并且使用过渡金属在环境方面存在问题。由于要求滤色片具有高的透光率，因此使用一种所谓使用染料染色的染色法的方法。例如，一种方法是将可染色的光致抗蚀剂经受图案曝光并显影形成一图案，然后用滤色片色彩的染料染色，根据所有滤色片色彩连续重复这种方法，由此可以生产一种滤色片。除了这种染色法之外，也可以通过如US4,808,501、JP-A-6-35182等中所述使用正性抗性的方法生产滤色片。按照这些方法，由于使用染料，因此透光率高，并且最终滤色片的光学特性优异。但是，在耐光性、耐热性等方面存在限制。因此，需要获得具有优异的各种耐性和高透光率的染料。另一方面，公知一种使用有机颜料的方法，该有机颜料代替所述染料具有优异的耐光性和耐热性。但是，使用颜料的滤色片难以获得以下光学特性。如上所述用于各种应用的染料必需通常具有以下性能。即，它们具有对于色彩再现性是优选的吸收特性；它们在使用的环境条件下具有良好的牢固性，例如耐光性、耐热性、对氧化气体如臭氧的耐性，和对其它化学物质如含硫气体的耐性；并且它们具有大的摩尔吸收系数。因此，作为花青染料，在几乎所有情况下都已使用具有优异色彩和耐光性的酞菁染料。然而，由于这些酞菁染料没有足够的耐氧化气体，特别是臭氧的性能，因此需要提高。作为用于喷墨油墨的染料骨架，代表性的有酞菁或三苯基甲烷结-->构。顺便说一下，本说明书种“Pc”代表酞菁骨架。作为最广泛报道和使用的代表性酞菁化合物，列举的有分类为以下组(1)-(6)的酞菁衍生物。(1)酞菁铜化合物[例如，Cu-Pc-(SO3Na)m的混合物，其中m是1-4]，例如直接蓝86和直接蓝87。(2)直接蓝199和如下文献中所述的酞菁化合物：JP-A-62-190273、JP-A-63-28690、JP-A-63-306075、JP-A-63-306076、JP-A-2-131983、JP-A-3-122171、JP-A-3-200883、JP-A-7-138511等。[例如，Cu-Pc-(SO3Na)m(SO2NH2)n的混合物，其中(m+n)是1-4(本文后面中Pc意思是酞菁骨架)]。(3)如下面文献中所述的酞菁染料：JP-A-63-210175、JP-A-63-37176、JP-A-63-304071、JP-A-5-171085、WO 00/08102等。[例如，Cu-Pc-(CO2H)m(CONR1R2)n，其中(m+n)是值0-4]。(4)如下面文献中所述的酞菁染料：JP-A-59-30874、JP-A-1-126381、JP-A-1-190770、JP-A-6-16982、JP-A-7-82499、JP-A-8-34942、JP-A-8-60053、JP-A-8-113745、JP-A-8-310116、JP-A-10-140063、JP-A-10-298463、JP-A-11-29729、JP-A-11-320921、EP173472A2、EP468649Al、EP559309A2、EP596383Al、DE3411476、US6086955、WO 99/13009、G2341868A等。[例如，Cu-Pc-(SO3H)-m(SO2NR1R2)n，其中(m+n)是值0-4，并且m不是0]。(5)如下面文献中所述的酞菁染料：JP-A-60-208365、JP-A-61-2772、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种油墨，特征在于它含有选自下面通式（Ⅰ）、（Ⅱ）、（Ⅲ）和（Ⅳ）所代表的酞菁化合物的至少一种化合物：通式（Ⅰ）＊＊＊在通式（Ⅰ）中，Ｘ↓［１］、Ｘ↓［２］、Ｘ↓［３］和Ｘ↓［４］各自独立地代表－ＳＯ－Ｚ和／或－ＳＯ↓［ ２］－Ｚ，其中Ｚ各自独立地代表取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的杂环基，Ｙ↓［１］、Ｙ↓［２］、Ｙ↓［３］和Ｙ↓［４］各自独立地代表氢原子、卤 原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基，并且每一基团可以进一步取代，条件是Ｘ↓［１］、Ｘ↓［２］、Ｘ↓［３］、Ｘ↓［４］、Ｙ↓［１］、Ｙ↓［２］、Ｙ↓［３］和Ｙ↓［４］中至少一个代表一个有２个或多 个碳原子的取代基，并且Ｘ↓［１］、Ｘ↓［２］、Ｘ↓［３］、Ｘ↓［４］、Ｙ↓［１］、Ｙ↓［２］、Ｙ↓［３］和Ｙ↓［４］所代表的这些取代基的碳原子总数是８个或更多，ａ１－ａ４、和ｂ１－ｂ４各自代表Ｘ↓［１］－Ｘ↓［４］和Ｙ↓［１］－Ｙ↓ ［４］的取代基的数量；ａ１－ａ４各自独立地代表０－４的整数，条件是它们所有不同时是０；并且ｂ１－ｂ４各自独立地代表０－４的整数，和Ｍ代表氢原子、金属元素、或其氧化物、氢氧化物或卤化物，通式（Ⅱ）＊＊＊在通式（Ⅱ） 中，Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］、Ｒ↓［４］、Ｒ↓［５］、Ｒ↓［６］、Ｒ↓［７］和Ｒ↓［８］各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、氨磺酰基团、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基；并且每一基团可以进一步取代，　　Ｒ↓［１１］、Ｒ↓［１２］、Ｒ↓［１３］、Ｒ↓［１４］、Ｒ↓［１５］、Ｒ↓［１６］、Ｒ↓［１７］和Ｒ↓［１８］各自独立地代表...

【技术特征摘要】
JP 2001-6-22 189982/2001;JP 2001-6-22 190214/2001;1、一种油墨，特征在于它含有选自下面通式(I)、(II)、(III)和(IV)所代表的酞菁化合物的至少一种化合物：通式(I)在通式(I)中，X1、X2、X3和X4各自独立地代表-SO-Z和/或-SO2-Z，其中Z各自独立地代表取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的杂环基，Y1、Y2、Y3和Y4各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基，并且每一基团可以进一步取代，条件是X1、X2、X3、X4、Y1、Y2、Y3和Y4中至少一个代表一个有2个或多个碳原子的取代基，并且X1、X2、X3、X4、Y1、Y2、Y3和Y4所代表的这些取代基的碳原子总数是8个或更多，a1-a4、和b1-b4各自代表X1-X4和Y1-Y4的取代基的数量；a1-a4各自独立地代表0-4的整数，条件是它们所有不同时是0；并且b1-b4各自独立地代表0-4的整数，和M代表氢原子、金属元素、或其氧化物、氢氧化物或卤化物，通式(II)在通式(II)中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、氨磺酰基团、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基；并且每一基团可以进一步取代，R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17和R18各自独立地代表氢原子、卤原子、或取代的氨磺酰基团，条件是，就R11和R12、R13和R14、R15和R16、以及R17和R18各自而言，至少一个代表取代的氨磺酰基团，并且这四个或多个取代的氨磺酰基团中至少一个代表一个有2个或多个碳原子的取代基，并且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17和R18所代表的这些取代基的碳原子总数是8个或更多，M代表氢原子、金属元素、金属氧化物、金属氢氧化物或金属卤化物，通式(III)在通式(III)中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、氨磺酰基团、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基；并且每一基团可以进一步取代，Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地代表取代或未取代的杂环基，Z1、Z2、Z3、Z4、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中至少一个具有一个有2个或多个碳原子的取代基，并且在Z1、Z2、Z3、Z4、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中取代的取代基的碳原子总数是8个或更多，l、m、n和p各自独立地代表1或2的整数，M代表氢原子、金属元素、金属氧化物、金属氢氧化物或金属卤化物，和通式(IV)在通式(IV)中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、氨磺酰基团、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基；并且每一基团可以进一步取代，W1、W2、W3和W4各自独立地代表形成含氮杂环或所述杂环与其它环的稠环所需的原子团，条件是由W1、W2、W3和W4形成的至少一个杂环具有一个有2个或多个碳原子的取代基，并且在由W1、W2、W3和W4所代表的基团中进一步取代的取代基的碳原子总数是8个或更多，l、m、n和p各自独立地代表1或2的整数，和M代表氢原子、金属元素、金属氧化物、金属氢氧化物或金属卤化物。2、如权利要求1的油墨，其中前述通式(I)、(II)、(III)和(IV)所代表的化合物分别是下面通式(V)、(VI)、(VII)和(VIII)所代表的化合物：通式(V)在通式(V)中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、氨磺酰基团、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基，并且每一基团可以进一步取代，Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地代表取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的杂环基，条件是Z1、Z2、Z3、Z4、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R...

【专利技术属性】
技术研发人员：立石桂一，野吕正树，矢吹嘉治，大松祯，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]