The invention discloses a method for producing TFT LCD glass substrate, which comprises the following steps: (1) providing a glass substrate, polishing process on the glass substrate; (2) the polished glass substrate at room temperature to 12 degrees from the start / min speed heating, will maintain the set temperature for 10 hours at 450 DEG C, and then to 10 DEG C / min speed of cooling, heat shrinkage rate is less than or equal to 30ppm, the average surface roughness Ra is less than or equal to 0.3nm; (3) the surface spray etching liquid by both sides of the glass substrate after heat treatment, on the glass substrate the etching process.
【技术实现步骤摘要】
一种TFT-LCD玻璃基板的制作方法
本专利技术涉及TFT-LCD
,具体涉及一种TFT-LCD玻璃基板的制作方法。
技术介绍
在显示
,液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)与有机发光二极管显示器(OrganicLightEmittingDiode,OLED)等平板显示技术已经逐步取代阴极射线管(CathodeRayTube,CRT)显示器。基于平面光源技术的平面显示器已经接近市场化量产水平。在这些平面显示器中,一般将玻璃基板作为衬底基板并在其表面形成各种膜层结构。随着显示技术的发展,显示装置的轻薄化是当今的发展趋势,其中一个方向就是使用超薄玻璃基板作为显示面板的衬底基板。因此,玻璃基板的薄型化是平面显示器产品实现薄型化的核心技术。
技术实现思路
本专利技术旨在提供了一种TFT-LCD玻璃基板的制作方法。本专利技术提供如下技术方案:一种TFT-LCD玻璃基板的制作方法,包括以下步骤:(1)提供玻璃基板,对所述玻璃基板进行抛光制程;(2)将上述经抛光处理的玻璃基板从常温开始以12℃/分钟的速度进行升温、将保持温度设定为在450℃下保 ...
【技术保护点】
一种TFT‑LCD玻璃基板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)提供玻璃基板,对所述玻璃基板进行抛光制程;(2)将上述经抛光处理的玻璃基板从常温开始以12℃/分钟的速度进行升温、将保持温度设定为在450℃下保持10小时、然后以10℃/分钟的速度进行降温时,热收缩率小于或等于30ppm,平均表面粗糙度Ra小于或等于0.3nm;(3)将上述经热处理后的玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液,对所述玻璃基板进行蚀刻处理。
【技术特征摘要】
1.一种TFT-LCD玻璃基板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)提供玻璃基板,对所述玻璃基板进行抛光制程;(2)将上述经抛光处理的玻璃基板从常温开始以12℃/分钟的速度进行升温、将保持温度设定为在450℃下保持10小时、然后以10℃/分钟的速度进行降温时,热收缩率小于或等于30ppm,平均表面粗糙度Ra小于或等于0.3nm;(3)将上述经热处理后的玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液,对所述玻璃基板进行蚀刻处理。2.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD玻璃基板的制作方法,其特征在于:...
【专利技术属性】
技术研发人员:白航空,
申请(专利权)人:合肥市惠科精密模具有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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