一种化学机械抛光液制造技术
A kind of chemical mechanical polishing liquid
The present invention provides a chemical mechanical polishing liquid, which belongs to the field of chemical mechanical polishing technology for sapphire substrate. The chemical mechanical polishing liquid comprises nanometer abrasive, catechol and water bearing carrier. The chemical mechanical polishing solution is especially suitable for chemical mechanical polishing of superhard material sapphire.
【技术实现步骤摘要】
一种化学机械抛光液
本专利技术涉及一种化学机械抛光液，属于蓝宝石衬底的化学机械抛光
技术介绍
蓝宝石，又称白宝石，组成为α-A12O3，透明，与天然宝石具有相同的光学特性和力学性能，有很好的热特性，极好的电气特性和介电特性，并且防化学腐蚀，对红外线透过率高，耐磨性好，硬度仅次于金刚石，达莫氏9级，在高温下仍具有较好的稳定性，熔点为2030℃，广泛应用于工业、国防、科研、民用等领域，越来越多地用作固体激光、红外窗口、半导体芯片的衬底片、发光二极管衬底片、精密耐磨轴承等高
中零件的制造材料，越来越广泛地应用于智能终端设备(手机、平板电脑、手表、手环等)以及物联网设备的屏幕材料等。以上各种应用，对蓝宝石的加工质量尤其是表面质量提出了较高的要求。蓝宝石由于其硬度高、脆性大，机械加工困难。且由于其化学惰性，常规湿法化学方法也难以加工。目前主流采用的是化学机械抛光，即通过抛光垫和抛光液的化学机械协同作用对其进行加工处理。其中，胶体二氧化硅基精抛液对最终的蓝宝石表面质量以及成品率，有着决定性的影响。为提高硬度大、呈化学惰性蓝宝石的抛光速率，目前国内外对精抛液配方...
【技术保护点】
一种化学机械抛光液，此抛光液包含：⑴纳米磨料；⑵邻苯二酚；⑶含水载体；其中，所述的纳米磨料选自胶体二氧化硅、烧结二氧化硅以及α‑氧化铝。
【技术特征摘要】
2017.04.14 CN 201710241698X1.一种化学机械抛光液，此抛光液包含：⑴纳米磨料；⑵邻苯二酚；⑶含水载体；其中，所述的纳米磨料选自胶体二氧化硅、烧结二氧化硅以及α-氧化铝。2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液，其特征在于，所述纳...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐志国，王良咏，李彦军，徐宇恒，
申请(专利权)人：浙江晶圣美纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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