阴极旋转机构制造技术

本发明专利技术公开了阴极旋转机构，包括：阴极源总成，安装在真空溅射腔室内壁上；阴极靶筒，一端连接至所述阴极源总成并可沿所述阴极源总成旋转；穿设在所述阴极靶筒内的循环水回水管，其连接至设置在所述阴极源总成上的供水管，且连通至所述循环水回水管与所述阴极靶筒之间的密闭空间，所述密闭空间连通至设置在所述阴极源总成上的出水管；设置在所述循环水回水管外壁上的多个磁铁；及设置在所述阴极靶筒另一端的驱动装置，以用于驱动所述阴极靶筒旋转。本发明专利技术提供的阴极旋转机构，结构简单，安全性能好，便于维护。

Cathode rotating mechanism

The invention discloses a cathode rotating mechanism comprises a cathode source assembly installed in the vacuum sputtering chamber wall; the cathode tube, one end connected to the cathode source assembly and along the cathode source assembly to rotate; penetrated in the circulating water, the cathode tube return pipe, even the to set on the cathode source assembly on the water supply pipe, the confined space between and connected to the circulating water return pipe and the cathode tube, connected to the closed space is arranged on the cathode source assembly is disposed in the outlet pipe; the circulating water pipe back to a plurality of magnets on the outer wall; and arranged on the cathode tube at the other end of the driving device, which is used for driving the rotating cylinder cathode. The cathode rotating mechanism provided by the invention has the advantages of simple structure, good safety performance and easy maintenance.

【技术实现步骤摘要】
阴极旋转机构
本专利技术涉及磁控溅射
，特别涉及一种阴极旋转机构。
技术介绍
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高，但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念，即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极，两极磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片。区域的等离子体密度和气体电离率，不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般本文档来自技高网...

【技术保护点】
阴极旋转机构，其特征在于包括：阴极源总成(1)，安装在真空溅射腔室内壁上；阴极靶筒(2)，一端连接至所述阴极源总成(1)并可沿所述阴极源总成(1)旋转；穿设在所述阴极靶筒(2)内的循环水回水管(4)，其连接至设置在所述阴极源总成(1)上的供水管(7)，且连通至所述循环水回水管(4)与所述阴极靶筒(2)之间的密闭空间(6)，所述密闭空间(6)连通至设置在所述阴极源总成(1)上的出水管(8)；设置在所述循环水回水管(4)外壁上的多个磁铁(5)；及设置在所述阴极靶筒(2)另一端的驱动装置(3)，以用于驱动所述阴极靶筒(2)旋转。

【技术特征摘要】
1.阴极旋转机构，其特征在于包括：阴极源总成(1)，安装在真空溅射腔室内壁上；阴极靶筒(2)，一端连接至所述阴极源总成(1)并可沿所述阴极源总成(1)旋转；穿设在所述阴极靶筒(2)内的循环水回水管(4)，其连接至设置在所述阴极源总成(1)上的供水管(7)，且连通至所述循环水回水管(4)与所述阴极靶筒(2)之间的密闭空间(6)，所述密闭空间(6)连通至设置在所述阴极源总成(1)上的出水管(8)；设置在所述循环水回水管(4)外壁上的多个磁铁(5)；及设置在所述阴极靶筒(2)另一端的驱动装置(3)，以用于驱动所述阴极靶筒(2)旋转。2.根据权利要求1所述的阴极旋转机构，其特征在于：所述阴极源总成(1)包括进出水管安装部(1-1)、套设在进出水管安装部(1-1)的内旋转机构安装部(1-2)、及套设在所述内旋转机构安装部(1-2)的外旋转机构安装部(1-3)，所述进出水管安装部(1-1)与所述内旋转机构安装部(1-2)之间设有第一球轴承(1-4)，所述内旋转机构安装部(1-2)与所述外旋转机构安装部(1-3)之间设有第二球轴承(1-5)；所述供水管(7)穿设在所述进出水管安装部(1-1)内并与所述循环水回水管(4)连接，所述供水管(7)与所述进出水管安装部(1-1)之间设有间隙形成出水腔(1-1a)，所述循环水回水管(4)与所述阴极靶筒(2)之间的密封空间(6)连通至所述出水腔(1-1a)，所述出水腔(1-1a)连通至所述出水管(8)；所述内旋转机构安装部(1-2)一端连接至所述阴极靶筒(2)且另一端固定有表面绝缘板(1-6)，所述表面绝缘板(1-6)周向上设有中频电源进电柱(1-7)；所述外旋转机构安装部(1-3)周向上设有外旋转机...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱安秋，
申请(专利权)人：苏州胜利精密制造科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32