准分子激光退火装置用基板支撑模块制造方法及图纸

本发明专利技术涉及准分子激光退火装置用基板支撑模块，本发明专利技术为准分子激光退火装置用基板支撑模块，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块包括：工作台，用于放置基板；支架，以向上下方向贯通上述工作台的方式设置，用于将基板装载于工作台上或从工作台上卸载基板；以及升降驱动部，用于使上述支架升降，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块的特征在于，上述工作台被划分为规定区域，各个区域形成相互独立的真空吸入区域，上述真空吸入区域从上述工作台的中央部分开始依次进行真空吸入，从而从上述基板的中心部开始依次与上述工作台相接触。

Substrate support module for excimer laser annealing device

The present invention relates to excimer laser annealing device support module substrate, the invention for excimer laser annealing device substrate supporting module, a substrate for supporting the excimer laser annealing device module comprises: a worktable for placing the substrate; support, set up to the direction through the work stations, for loading a substrate to work from the table or table unloading substrate; and a lifting driving part for the lifting bracket, the excimer laser annealing device substrate support module is characterized in that the table is divided into a specified area, each area formed independent vacuum suction area, the central part of the vacuum suction table in order to start the vacuum suction, are connected with the work table from the center portion of the substrate.

【技术实现步骤摘要】
准分子激光退火装置用基板支撑模块
本专利技术涉及准分子激光退火(ExcimerLaserAnnealing)装置用基板支撑模块，涉及如下的准分子激光退火装置用基板支撑模块：将用于放置基板的工作台划分成规定区域来形成独立的真空吸入区域，从而从工作台的中央部分开始依次进行真空吸入，由此防止在基板与工作台之间发生的气泡的生成，来使基板的弯曲(warp)现象最小化。
技术介绍
通常，作为用于基板或薄膜的结晶化的方法包括：使基板或薄膜形成在腔室内部的工作台上，在高温状态下进行退火，或者在高温下在基板上蒸镀薄膜的方法。在本专利技术中，将上述基板或薄膜的退火及高温状态下的薄膜蒸镀过程统称为“退火(annealing)”过程，为了方便，将基板或蒸镀于基板上的薄膜称为“基板”。但是，在上述高温下的退火存在如下的缺点：通过高温气氛下的热化学反应污染腔室内部，或者在腔室内部生成没必要的化合物，从而引起基板的污染。并且，存在如下的缺点：因不均匀的温度梯度，热处理均匀度并不恒定，从而在基板或薄膜上形成斑点(mura)，或者消耗很多用于调节高温气氛的时间，从而导致工序成本增加，且生产性低。最近，随着基板的大型化及薄板趋势，研究利用激光的退火方法，尤其，利用准分子激光的退火(ExcimerLaserAnnealing)方法是一种向基板或薄膜上照射准分子激光来依次对基板或薄膜进行瞬间加热并引导结晶化的方法。这种准分子激光退火方法对于基板或薄膜整体的退火均匀度优秀，从而易于适用于大面积基板，仅对照射激光束的局部性区域进行瞬间加热，因此，具有对薄膜或基板的适用性出色的优点，且生产性高，于是最近正在积极研究中。通常，用于准分子激光退火方法的装置包括：腔室；支撑模块，配置于腔室内部，用于放置基板；激光发生器，配置于腔室外部，用于产生激光束；窗口，形成于腔室的一侧，用于使激光束透过腔室内部；以及光学计，形成于腔室的外部的激光束的路径上，通过窗口向腔室内部引导激光束来向基板或薄膜上照射。其中，形成有上述基板的支撑模块包括：工作台，用于放置基板；支架，以向上下方向贯通工作台的方式设置，用于装载或卸载基板；以及升降驱动部，用于使支架升降。通过这种准分子激光退火装置，将需要进行退火的基板引入到腔室内部，并安装于上述工作台上，在安装于工作台上之前，利用升降驱动部使支架上升来使其向工作台的上侧突出，从而使基板安装于上述支架上。而且，若基板安装于支架上，则利用升降驱动部来使支架下降，支架完全收容于工作台的内部，基板安装于工作台上。接着，若基板完全装载于工作台上，则在向工序进行方向移动工作台的过程中，启动激光发生器来向基板上照射激光束，进行基板的退火过程。在以往的这种支撑模块中的工作台使形成于其上侧的基板的弯曲最小化，为了防止气泡(airpocket)，在工作台的上部形成如图1所示的规定图案。形成于上述工作台10的上部的图案实现为1.2mm宽度的凹槽以60mm的间隔呈格子形态的排气口通道11和形成于工作台10的中央部的真空吸入通道12。上述真空吸入通道12与在外部额外形成的真空泵相连接，从而使形成于工作台10的上侧的基板在工作台10上稳定地固定。但是，尤其在大面积基板的情况下，排气口通道11的图案的形成无法对应基板的大型化，从而间歇性地引起气泡现象，且这会导致基板的弯曲现象。上述基板的弯曲现象会导致基于景深(D.O.F，DepthofField)的高度差的斑点现象，从而导致基板的品质降低。并且，通过排气口通道11及真空吸入通道12，在基板的全区域同时进行真空吸入，因此，在大面积薄膜基板的情况下，因自重，中心部的下垂现象明显，由此在真空吸附的过程中发生时间差，从而导致气泡的发生。并且，以往的工作台的外围部处于不开放状态，即，排气口通道11及真空吸入通道12并未形成至工作台10的末端，在基板放置于工作台上之后，需要通过真空来去除残留的气泡。在此过程中，无法完全去除气泡的可能性高，这依然导致基板的质量降低。
技术实现思路
本专利技术用于解决上述问题，本专利技术的目的在于，提供准分子激光退火装置用基板支撑模块基板，即，将用于放置基板的工作台划分成规定区域来形成独立的真空吸入区域，从而从工作台的中央部分开始依次进行真空吸入，由此防止在基板与工作台之间发生的气泡的生成，来使基板的弯曲(warp)现象最小化。为了实现上述目的，本专利技术提供准分子激光退火装置用基板支撑模块，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块包括：工作台，用于放置基板；支架，以向上下方向贯通工作台的方式设置，用于将基板装载于工作台上或从工作台上卸载基板；以及升降驱动部，用于使上述支架升降，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块的特征在于，上述工作台被划分为规定区域，各个区域形成相互独立的真空吸入区域，上述真空吸入区域从上述工作台的中央部分开始依次进行真空吸入，从而从上述基板的中心部开始依次与上述工作台相接触。并且，优选地，上述真空吸入区域包括：第一区域，呈四角形状，形成于上述真空吸入区域的中央部分；第二区域，分别形成于上述第一区域的相向的边角的外侧；第三区域，分别形成于上述第二区域的外侧；第四区域，分别形成于上述第一区域的相向的另一边角的外侧；以及第五区域，分别形成于由上述第二区域、第三区域和第四区域包围的工作台的各个顶点部分，从第一区域至第五区域依次进行真空吸入。并且，优选地，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块包括真空控制部，上述真空控制部按各个区域控制真空吸入区域的工作，在通过按各个区域的压力检查来检查基板的弯曲现象之后，通过个别控制来校正压力。其中，优选地，在上述工作台的上部形成有格子形态的规定的图案，上述图案以按各个区域独立进行真空吸入的方式划分而成，上述图案是深度为0.2mm～0.4mm、宽度为2.5mm～3.5mm、间隔为4.5mm～5.0mm的凹槽，与上述图案的长度方向垂直地切割的剖面呈矩形形态。并且，优选地，上述图案延伸至上述工作台的边缘部，上述工作台的外围部处于开放状态。并且，优选地，相对于上述工作台的整个区域，上述支架配置有多个，为引导上述基板的弯曲，形成于上述工作台的中央部分的支架的高度小于设在工作台的外围部分的支架的高度。并且，优选地，上述支架为构成为下部由硬质材质形成且上部由具有弹性的材质形成的双重结构。本专利技术具有如下效果，将用于放置基板的工作台划分成规定区域来形成独立的真空吸入区域，从而从工作台的中央部分开始依次进行真空吸入，从而从上述基板的中心部开始依次与上述工作台相接触，由此防止在基板与工作台之间发生的气泡的生成，来使基板的弯曲现象最小化。并且，本专利技术具有如下效果，按上述真空吸入区域控制对于是否进行真空吸入的工作，在通过按各个区域的压力检查来检查基板的弯曲现象之后，调节对于存在问题的对应区域的压力，来使均匀的压力作用于基板整体，从而使基板的弯曲现象最小化。并且，本专利技术具有如下效果，在工作台的上部形成有格子形态的图案，使工作台和基板的接触面积最小化，并使空气的流动变得顺畅来使基板的温度梯度最小化，从而使在基板发生的斑点最小化，由此可获得高质量的基板。并且，本专利技术具有如下效果，形成于工作台的上部的格子形态的图案延伸至工作台的边缘部，向工作台的外围部去除自然残压，从而进一步使在基板与工作台本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种准分子激光退火装置用基板支撑模块，包括：工作台，用于放置基板；支架，以向上下方向贯通工作台的方式设置，用于将基板装载于工作台上或从工作台上卸载基板；以及升降驱动部，用于使上述支架升降，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块的特征在于，上述工作台被划分为规定区域，各个区域形成相互独立的真空吸入区域，上述真空吸入区域以从上述工作台的中央部分开始依次进行真空吸入的方式形成，从而从上述基板的中心部开始依次与上述工作台相接触。

【技术特征摘要】
2016.03.03 KR 10-2016-00258041.一种准分子激光退火装置用基板支撑模块，包括：工作台，用于放置基板；支架，以向上下方向贯通工作台的方式设置，用于将基板装载于工作台上或从工作台上卸载基板；以及升降驱动部，用于使上述支架升降，上述准分子激光退火装置用基板支撑模块的特征在于，上述工作台被划分为规定区域，各个区域形成相互独立的真空吸入区域，上述真空吸入区域以从上述工作台的中央部分开始依次进行真空吸入的方式形成，从而从上述基板的中心部开始依次与上述工作台相接触。2.根据权利要求1所述的准分子激光退火装置用基板支撑模块，其特征在于，上述真空吸入区域包括：第一区域，呈四角形状，形成于上述真空吸入区域的中央部分；第二区域，分别形成于上述第一区域的相向的边角的外侧；第三区域，分别形成于上述第二区域的外侧；第四区域，分别形成于上述第一区域的相向的另一边角的外侧；以及第五区域，分别形成于由上述第二区域、第三区域和第四区域包围的工作台的各个顶点部分，从第一区域至第五区域依次进行真空吸入。3.根据权利要求2所述的准分子激光退火装置用基板支撑模块，其特征在于，上述准分子激光...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈亨基，李基雄，金戊一，金利镐，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR