一种硅片超声清洗机水循环系统技术方案
Water circulation system for silicon wafer ultrasonic cleaner
The utility model discloses a silicon ultrasonic cleaning machine water circulation system, the silicon ultrasonic cleaning machine is provided with a cleaning water tank is arranged in the order of multi-channel, multi-channel the cleaning water tank are respectively communicated with the overflow tank through the overflow, the overflow tank comprises at least two chambers is mutually isolated, is located at the rear of the number of road cleaning the same water tank communicated with the overflow tank chamber, the chamber is provided with a water pump through the pipe cleaning the sink in front of. The utility model collects the waste water discharged from a plurality of cleaning water tanks at the back for cleaning the water tank at the front of the lower cleanness requirement, effectively reduces water consumption, saves resources and reduces the production cost of the silicon wafer.
【技术实现步骤摘要】
一种硅片超声清洗机水循环系统
本技术涉及硅片超声清洗机领域，具体涉及一种硅片超声清洗机水循环系统。
技术介绍
硅片是太阳能电池板的重要部件，其制备过程是将硅棒粘接在晶托上，经线切、脱胶、插片、清洗、干燥后，随着插片盒一同放入硅片分选仪筛选出不良片；其中清洗过程是在硅片超声清洗机中进行的，硅片超声清洗机设置有十道顺序排列的清洗水槽，插入插片盒的硅片在传送机构上依次穿过多道清洗水槽，每个清洗水槽中不断注入清洁热水，废水通过溢流口排入溢流水槽集中排放，每天要消耗大量的热水；分析清洗过程，第1道清洗水槽排出的杂质最多，往后逐渐减少，到第5道清洗水槽排出的杂质已经较少，第6道清洗水槽排出的废水已经比较干净，第9、10道清洗水槽排出的废水中几乎没有杂质，但是仍然与前部几道清洗水槽的废水一同排放，是一种严重的资源浪费，而且增加了硅片的制作成本。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种硅片超声清洗机水循环系统，可以解决现有硅片超声清洗机将全部清洗水槽的废水集中排放，导致浪费资源，增加硅片制作成本的问题。本技术通过以下技术方案实现：一种硅片超声清洗机水循环系统，所述硅片超声清洗...
【技术保护点】
一种硅片超声清洗机水循环系统，所述硅片超声清洗机设置有多道顺序排列的清洗水槽（1），多道所述清洗水槽（1）分别通过溢流口连通有溢流水槽（2），其特征在于：所述溢流水槽（2）包括至少两个相互隔离的腔室，位于后部的数道清洗水槽（1）连通溢流水槽（2）的同一腔室，该腔室通过设置有水泵（5）的管道（3）连通位于前部的清洗水槽（1）。
【技术特征摘要】
1.一种硅片超声清洗机水循环系统，所述硅片超声清洗机设置有多道顺序排列的清洗水槽（1），多道所述清洗水槽（1）分别通过溢流口连通有溢流水槽（2），其特征在于：所述溢流水槽（2）包括至少两个相互隔离的腔室，位于后部的数道清洗水槽（1）连通溢流水槽（2）的同一腔室，该腔室通过设置有水泵（5）的管道（3）连通位于前部...
【专利技术属性】
技术研发人员：严徇成，张亚超，何迎辉，
申请(专利权)人：淮安金太阳电力有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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