一种蒸镀用掩模板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种蒸镀用掩模板，包括蒸镀用掩模板、掩模板孔部、缓冲用孔部和棱形缓冲用孔部，蒸镀用掩模板上设有第一开口部和第二开口部，第一开口部包括若干个掩模板孔部，第二开口部包括若干个缓冲用孔部，掩模板孔部均设置在若干个缓冲用孔部中间，通过在蒸镀用掩模板上设置多个缓冲用孔部，并将掩模板孔部设置在多个缓冲用孔部之间，使得当掩模板受到拉力作用时，外层的缓冲用孔部能够隔断掩模板孔部受到的拉力，从而避免了因拉力作用导致掩模板孔部的图形不良的情况发生；且缓冲用孔部可以设置成不同的形状，使缓冲用孔部不仅能够隔断垂直于掩模板孔部的长的一面，还可以隔断掩模板孔部短层面的竖直方向上受到的拉力。

Mask plate for evaporation

The utility model discloses a vapor deposition mask, including deposition mask, mask hole part, buffer holes and prismatic buffer holes, the evaporation mask is provided with a first opening and a second opening, the first opening portion comprises a plurality of mask holes, second opening the Department comprises a plurality of buffer holes, mask holes are arranged in a plurality of buffer holes, through plating mask is provided with a plurality of buffer holes in the steam, and mask holes arranged in a plurality of buffer holes, so that when the mask is used for tension when the outer layer of the buffer holes to partition mask hole by force, so as to avoid tension caused by mask hole pattern failure; and the buffer holes can be set into different shapes, so that the buffer holes not only The long side perpendicular to the hole of the mask template can be cut off, and the pulling force in the vertical direction of the short layer of the mask hole can be cut off.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀用掩模板
本技术涉及一种掩模板，具体涉及一种蒸镀用掩模板。
技术介绍
有机电致发光元件有玻璃基板上形成透明电极的阳极和铝过镁合金等金属电极的阴极之间还有包括发光层的有机层的叠加层结构。蒸镀中制作有机电致发光元件时，利用包含为实现赤、青、绿的三种颜色，对应各层要求的一定图形的开口部的蒸镀掩模板。蒸镀是真空腔内将基板(玻璃基板)面向蒸镀面下部放置，将蒸镀掩模板放在基板的蒸镀面和蒸发源之间后，加热蒸发源，蒸发蒸镀材料，通过掩模板的开口部附着在基板表面进行，这样的蒸镀掩模板现在普遍使用以镍做成的掩模板。量产用全彩掩模板很明显的变大，掩模板也更常放在下面。为完善前面现象，拉伸掩模板托盘使其和掩模板接触。这样的操作是为防止下降，不只是单纯的从掩模板的四面施加拉力，而是要考虑到使用的掩模板的非线性零率、泊松比、剪切弹性模数等的物理特性，张力的施加方法、托盘的物性、厚度、尺寸等。但是因考虑此类要素，将掩模板安装到掩模板托盘上，施加拉力的时候，根据拉力，掩模板孔的大小比开始时要大，有机物质也不会按照设计的图形蒸镀到基板上，会导致图形不良的情况发生。
技术实现思路
本技术提供一种蒸镀用掩模板，解决了现有的蒸镀掩膜板在工作时，因考虑到各种因素，而需要对掩模板施加一定的拉力，从而导致掩模板孔的大小发生改变，进而影响蒸镀到基板上的图形的问题。为了解决上述技术问题，本技术提供了如下的技术方案：本技术一种蒸镀用掩模板，包括蒸镀用掩模板、掩模板孔部、缓冲用孔部和棱形缓冲用孔部，所述蒸镀用掩模板上设有第一开口部和第二开口部，第一开口部包括若干个所述掩模板孔部，第二开口部包括若干个所述缓冲用孔部，所述掩模板孔部均设置在若干个所述缓冲用孔部中间。作为本技术的一种优选技术方案，所述掩模板孔部与缓冲用孔部之间的距离为5-30mm。作为本技术的一种优选技术方案，所述缓冲用孔部包括所述棱形缓冲用孔部，且所述棱形缓冲用孔部均设置在所述蒸镀用掩模板的四周。本技术所达到的有益效果是：通过在蒸镀用掩模板上设置多个缓冲用孔部，并将掩模板孔部设置在多个缓冲用孔部之间，使得当掩模板受到拉力作用时，外层的缓冲用孔部能够隔断掩模板孔部受到的拉力，从而避免了因拉力作用导致掩模板孔部的图形不良的情况发生；且缓冲用孔部可以设置成不同的形状，使缓冲用孔部不仅能够隔断垂直于掩模板孔部的长的一面，还可以隔断掩模板孔部短层面的竖直方向上受到的拉力。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：图1是本技术一种蒸镀用掩模板的结构图；图2是本技术的带有棱形缓冲用孔部的掩模板结构图；图中：1、蒸镀用掩模板；2、掩模板孔部；3、缓冲用孔部；4、棱形缓冲用孔部。具体实施方式以下结合附图对本技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本技术，并不用于限定本技术。实施例：如图1-2所示，本技术一种蒸镀用掩模板，包括蒸镀用掩模板1、掩模板孔部2、缓冲用孔部3和棱形缓冲用孔部4，所述蒸镀用掩模板1上设有第一开口部和第二开口部，第一开口部包括若干个所述掩模板孔部2，第二开口部包括若干个所述缓冲用孔部3，所述掩模板孔部2均设置在若干个所述缓冲用孔部3中间。所述掩模板孔部2与缓冲用孔部3之间的距离为5-30mm，该距离为掩模板孔部2与缓冲用孔部3之间的最佳距离值，便于使掩模板孔部2不受到拉力的作用。所述缓冲用孔部3包括所述棱形缓冲用孔部4，且所述棱形缓冲用孔部4均设置在所述蒸镀用掩模板1的四周，棱形缓冲用孔部4的设置，便于当掩模板的横向和纵向都受到拉力作用时，棱形缓冲用孔部4可以隔断掩模板孔部2横向和纵向上的拉力，确保掩模板孔部2不会变形。具体的，在使用时，掩模板孔部2是为使腔体内将升华的有机物质能够按照设计的图形蒸镀到对着蒸镀用掩模板1的基板上，按一定形态形成的开口部；缓冲用孔部3是为使施加在蒸镀用掩模板1的拉力对掩模板孔部2的影响最小，要在掩模板孔部2周围一定距离上形成的开口部，即缓冲用孔部3，是阻止因施加在蒸镀用掩模板1的拉力引起的冲击传到掩模板孔2上的缓冲作用；图1中因缓冲用孔部3隔离对应部位的拉力，实际上为防止掩模板孔部2的形状和原来成型的形状变得不一样，因留出了隔离传给掩模板孔部2周围的拉力的缓冲用孔部3，缓冲用孔部3可以在掩模板的机能不受影响的范围内随意变换形状和大小，但是，缓冲用孔部3的形成必须使掩模板孔部2不直接受影响；图2中为隔断不仅在垂直于掩模板孔部2的长的一面上施加的拉力，还隔断掩模板孔部2的短层面的竖直方向上施加的拉力，掩模板孔部2的外角部分上形成的缓冲用孔部3为角度呈直角形状的四个棱的缓冲用孔部3，即棱形缓冲用孔部4。该种蒸镀用掩模板，通过在蒸镀用掩模板1上设置多个缓冲用孔部3，并将掩模板孔部2设置在多个缓冲用孔部3之间，使得当掩模板受到拉力作用时，外层的缓冲用孔部3能够隔断掩模板孔部2受到的拉力，从而避免了因拉力作用导致掩模板孔部2的图形不良的情况发生；且缓冲用孔部3可以设置成不同的形状，使缓冲用孔部3不仅能够隔断垂直于掩模板孔部2的长的一面，还可以隔断掩模板孔部2短层面的竖直方向上受到的拉力。最后应说明的是：以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀用掩模板，包括蒸镀用掩模板（1）、掩模板孔部（2）、缓冲用孔部（3）和棱形缓冲用孔部（4），其特征在于，所述蒸镀用掩模板（1）上设有第一开口部和第二开口部，第一开口部包括若干个所述掩模板孔部（2），第二开口部包括若干个所述缓冲用孔部（3），所述掩模板孔部（2）均设置在若干个所述缓冲用孔部（3）中间。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀用掩模板，包括蒸镀用掩模板（1）、掩模板孔部（2）、缓冲用孔部（3）和棱形缓冲用孔部（4），其特征在于，所述蒸镀用掩模板（1）上设有第一开口部和第二开口部，第一开口部包括若干个所述掩模板孔部（2），第二开口部包括若干个所述缓冲用孔部（3），所述掩模板孔部（2）均设置在若干个所述缓冲用孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：张光浩，
申请(专利权)人：成都太锦显示技术有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51