立体受阻胺和氧烷基胺光稳定剂制造技术

本发明专利技术公开了具有受阻胺和氧烷基胺光稳定剂的化合物，所述化合物可以减轻光化辐射如可见光和紫外光的不利影响，尤其是在诸如玻璃或陶瓷基材的基材上。还提供了衍生自此类化合物的聚合物。还提供了具有与之附连的此类化合物的纳米颗粒、基材如玻璃或陶瓷基材，或纳米颗粒和基材这两者。还提供了含有此类聚合物、纳米颗粒、基材或化合物中至少一者的制品。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】立体受阻胺和氧烷基胺光稳定剂相关申请的交叉引用本专利申请要求2014年12月22日提交的美国临时专利申请No.62/095437的权益，该专利申请的公开内容全文以引用方式并入本文。
本公开涉及立体受阻烷基胺和立体受阻氧烷基胺化合物。
技术介绍
含有立体受阻烷基胺或立体受阻氧烷基胺、特别是以下部分的化合物是本领域已知的：其中R1为烷基，R2为烷基，R3为H或烷基，R4为H或烷基，R5为H或烷基，R6为H或烷基，R7为烷基，并且R8为烷基。当A为烷基时，此类化合物被称为受阻胺光稳定剂或HALS；当A为氧烷基时，此类化合物被称为NORHALS。HALS和NORHALS作为自由基清除剂和聚合物稳定剂的实用性在本领域中受到高度认可，在例如JournalofMacromolecularSciencePartA,35:7,1327-36(1998)(《高分子科学杂志》，A部分，第35卷第7期第1327-1336页，1998年)和JournalofMacromolecularSciencePartA,38:2,137-58(2001)(《高分子科学杂志》，A部分，第38卷第2期第137-158卷，2001年)以及JP2001270859、US4983737(Grant)和US5442071(Grant)中有所描述。已知此类化合物能够减轻光化辐射例如可见光和紫外光的不利影响。
技术实现思路
本专利技术提供了一种具有式(I)结构的化合物其中：X为R1为烷基；R2为烷基；R3为H或烷基；R4为H或烷基；R5为H或烷基；R6为H或烷基；R7为烷基；R8为烷基；A为烷基或氧烷基；L为O或NR′；R′为H或C1至C4烷基；x为0-5且y为1-6，条件是x+y不大于6；Ra为化合价为x+y+1的连接基团；Rb为式OC(O)C(Rd)＝CH2的(烷基)丙烯酰氧基官能团，其中每个Rd独立地选自烷基和H；Rc选自R9和-OC(O)CH(Rd)CH2N(R10R9)p(R11)q，R9为-Si(R12)3；R12选自氧烷基、羟基、OC(O)Rd和烷基，条件是至少一个R12为氧烷基、OC(O)Rd或羟基；R10为结合至R9和-OC(O)CH(Rd)CH2N部分的N原子的亚烷基；R11为结合至-OC(O)CH(Rd)CH2N部分的N原子的烷基或H；p表示R10R9基团数，其可为1或2；并且q表示R11基团数，其可为0或1，条件是p和q之和为2。具体实施方式在本公开中，为方便起见，通常使用诸如“一”、“一个”和“该”等单数形式；然而，应当理解，除非上下文明确指出或清楚指明仅为单数，否则所用单数形式意指包括复数。本申请中使用的一些术语具有如本文所定义的特殊含义。所有其它术语将是技术人员已知的，并且具有本领域的技术人员在本专利技术申请时赋予它们的含义。参考一个或多个可变元素的特征使用时，“独立地”意指任何可变元素的每次出现可能具有指定限制内的相同或不同特征，而不论参考元素在任何其它出现时的特征为何。因此，如果元素“X”出现两次并且元素X可独立地选自特征Y或Z，则X的两次出现中的每一次可为任何组合的Y或Z(例如，YY、YZ、ZY或ZZ)。“烷基”是指脂族烃基。许多烷基基团为C1至C30。一些烷基基团可为C1或更大，诸如C2或更大、C4或更大、C6或更大、或C8或更大。一些烷基基团可为C22或更小、C16或更小、C12或更小、C8或更小、或C4或更小。除非另外指明，否则任何烷基基团可独立地为直链、支链、环状或它们的组合(例如，环状烷基也可具有直链或支链部分。)示例性烷基基团包括甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、仲丁基、异丁基、2-乙基己基、异辛基、正辛基、十二烷基、十六烷基、二十二烷基等等。“氧烷基”是指具有式O-烷基的一价基团，其可被称为烷氧基基团。氧烷基的烷基部分可为任何烷基，诸如上文参考术语“烷基”的定义所讨论的那些。可使用标准前缀书写氧烷基，以指示氧烷基的烷基部分中的碳原子数。例如，氧甲基是其中烷基部分具有一个碳的氧烷基，氧乙基是其中烷基部分具有两个碳原子的氧烷基等等。氧辛基是常用于本文所述化合物的示例性氧烷基。“亚烷基”是指双自由基(即二价基团)脂族烃。许多亚烃二基为C1至C30。亚烃二基可为C1或更大、C2或更大、C3或更大、C4或更大、C6或更大、或C8或更大。亚烃二基可为C22或更小、C16或更小、C12或更小、C10或更小、或C8或更小。除非另外指明，否则任何亚烷基可为直链、支链或环状或它们的组合(例如，同时具有环状部分和直链部分)。示例性亚烷基基团包括亚甲基、亚乙基、丙基、亚异丙基、亚正丁基、亚叔丁基、亚仲丁基、亚异丁基、2-亚乙基己基、亚异辛基、亚十二烷基、亚十六烷基、亚二十二烷基等等。“异氰酸酯”是指包含至少一个异氰酸根基团(其为-NCO基团)的分子。当聚合物或共聚物的主链包含聚合形式的参考化合物(独自地或与其它聚合单体结合)时，则称该聚合物或共聚物“衍生自”该参考化合物。本文所用的“烃聚合基”是化合价为至少三并且仅包含碳原子和氢原子的脂族多价基团。烃聚合基可为C1至C30。许多烃聚合基为C1或更大、C2或更大、C3或更大、C4或更大、C6或更大、或C8或更大。烃聚合基可为C30或更小、C22或更小、C16或更小、C12或更小、C10或更小、或C8或更小。在许多实施方案中，聚合基为二价或三价。“羟基”为单价基团-OH。式(I)的化合物可具有L，其为O或NR′，其中R'为H或C1至C4烷基。当L为O时，式(I)的化合物为式(II)的化合物。当L为NR′时，式(I)的化合物为式(IIa)的化合物。式(I)的化合物可由式(III)的化合物合成。在式(III)的化合物中，R1至R8以及A与式(I)化合物中的含义相同，并且E为OH或NHR′，其中R′与式(I)化合物中的含义相同。在式(III)的任何化合物中，R1、R2、R7和R8可独立地为任何合适的烷基。R1、R2、R7和R8可以相同或不同。R1、R2、R7和R8中任一个的典型烷基包括C1或更大、C2或更大、C3或更大、C4或更大、C6或更大、C8或更大、或C12或更大。可用作R1、R2、R7和R8中一个或多个的其它典型烷基包括C16或更小、C12或更小、C8或更小、C6或更小、C4或更小、C3或更小、或C2或更小。在许多情况下，R1、R2、R7和R8中的每一个为甲基。R3、R4、R5和R6可以独立地为H或烷基。当R3、R4、R5和R6中的一个或多个为烷基时，烷基通常为C1或更大、C2或更大、C3或更大、C4或更大、C6或更大、C8或更大、或C12或更大。此类烷基通常为C16或更小、C12或更小、C8或更小、C6或更小、C4或更小、C3或更小、或C2或更小。在许多情况下，R3、R4、R5和R6中的一个或多个为H。在最常见的情况下，R3、R4、R5和R6中的每一个为H。在式(III)的化合物中，R1至R8中每一个的特征被转移到由式(III)化合物合成的式(I)化合物中。因此，在式(I)的任何化合物中，R1至R8中每一个的特征将取决于用作起始物质的式(III)化合物中的R1至R8的特征并与其相同。在一些情况下，式(III)的化合物中的E为羟基。当此类化合物被用作起始物质时，所得式(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有式(I)结构的化合物：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.22 US 62/095,4371.一种具有式(I)结构的化合物：其中：X为R1为烷基；R2为烷基；R3为H或烷基；R4为H或烷基；R5为H或烷基；R6为H或烷基；R7为烷基；R8为烷基；A为烷基或氧烷基；L为O或NR′；R′为H或C1至C4烷基；x为0-5且y为1-6，条件是x+y不大于6；Ra为化合价为x+y+1的连接基团；Rb为式OC(O)C(Rd)＝CH2的(烷基)丙烯酰氧基官能团；每个Rd独立地选自烷基和H；Rc选自R9和-OC(O)CH(Rd)CH2N(R10R9)p(R11)q；R9为-Si(R12)3，并且R12选自氧烷基、羟基、OC(O)Rd和烷基，条件是至少一个R12为氧烷基、OC(O)Rd或羟基；R10为结合至R9和所述-OC(O)CH(Rd)CH2N部分的N原子的亚烷基；R11为结合至所述-OC(O)CH(Rd)CH2N部分的N原子的烷基或H；p表示R10R9基团数，其可为1或2；并且q表示R11基团数，其可为0或1，条件是p和q之和为2。2.根据权利要求1所述的化合物，其中Rc为R9。3.根据权利要求1所述的化合物，其中Rc为-O...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·P·科伦，M·A·勒里格，J·C·斯帕格诺拉，A·K·纳赫蒂加尔，C·J·霍伊，R·J·波科尔尼，W·J·亨特，J·T·彼得林，P·B·阿姆斯特朗，S·S·伊耶，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US