立体受阻胺和氧烷基胺光稳定剂制造技术

本发明专利技术公开了具有受阻胺和氧烷基胺光稳定剂的化合物，所述化合物可以减轻光化辐射如可见光和紫外光的不利影响，尤其是在诸如玻璃或陶瓷基材的基材上。还提供了衍生自此类化合物的聚合物。还提供了具有与之附连的此类化合物的纳米颗粒、基材如玻璃或陶瓷基材，或纳米颗粒和基材这两者。还提供了含有此类聚合物、纳米颗粒、基材或化合物中至少一者的制品。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】立体受阻胺和氧烷基胺光稳定剂相关申请的交叉引用本专利申请要求2014年12月22日提交的美国临时专利申请No.62/095437的权益，该专利申请的公开内容全文以引用方式并入本文。
本公开涉及立体受阻烷基胺和立体受阻氧烷基胺化合物。
技术介绍
含有立体受阻烷基胺或立体受阻氧烷基胺、特别是以下部分的化合物是本领域已知的：其中R1为烷基，R2为烷基，R3为H或烷基，R4为H或烷基，R5为H或烷基，R6为H或烷基，R7为烷基，并且R8为烷基。当A为烷基时，此类化合物被称为受阻胺光稳定剂或HALS；当A为氧烷基时，此类化合物被称为NORHALS。HALS和NORHALS作为自由基清除剂和聚合物稳定剂的实用性在本领域中受到高度认可，在例如JournalofMacromolecularSciencePartA,35:7,1327-36(1998)(《高分子科学杂志》，A部分，第35卷第7期第1327-1336页，1998年)和JournalofMacromolecularSciencePartA,38:2,137-58(2001)(《高分子科学杂志》，A部分，第38卷第2期第137-158卷，2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有式(I)结构的化合物：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.22 US 62/095,4371.一种具有式(I)结构的化合物：其中：X为R1为烷基；R2为烷基；R3为H或烷基；R4为H或烷基；R5为H或烷基；R6为H或烷基；R7为烷基；R8为烷基；A为烷基或氧烷基；L为O或NR′；R′为H或C1至C4烷基；x为0-5且y为1-6，条件是x+y不大于6；Ra为化合价为x+y+1的连接基团；Rb为式OC(O)C(Rd)＝CH2的(烷基)丙烯酰氧基官能团；每个Rd独立地选自烷基和H；Rc选自R9和-OC(O)CH(Rd)CH2N(R10R9)p(R11)q；R9为-Si(R12)3，并且R12选自氧烷基、羟基、OC(O)Rd和烷基，条件是至少一个R12为氧烷基、OC(O)Rd或羟基；R10为结合至R9和所述-OC(O)CH(Rd)CH2N部分的N原子的亚烷基；R11为结合至所述-OC(O)CH(Rd)CH2N部分的N原子的烷基或H；p表示R10R9基团数，其可为1或2；并且q表示R11基团数，其可为0或1，条件是p和q之和为2。2.根据权利要求1所述的化合物，其中Rc为R9。3.根据权利要求1所述的化合物，其中Rc为-O...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·P·科伦，M·A·勒里格，J·C·斯帕格诺拉，A·K·纳赫蒂加尔，C·J·霍伊，R·J·波科尔尼，W·J·亨特，J·T·彼得林，P·B·阿姆斯特朗，S·S·伊耶，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US