受阻胺系光稳定剂及复合材制造技术

一种受阻胺系光稳定剂，由式(I)所示：X1、Z1、T1、Y、T3、Z2、T2及n为如说明书与权利要求书中所表述的内容。本发明专利技术受阻胺系光稳定剂具有耐酸性，且加入至聚合物中，可形成具有光稳定性及耐酸性的复合材。

Hindered amine light stabilizer and composite material

A hindered amine light stabilizer, as shown in the formula (I): X1, Z1, T1, Y, T3, Z2, T2, and N as described in the specification and claims. The hindered amine light stabilizer of the invention has acid resistance, and can be added into the polymer to form a composite material with light stability and acid resistance.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光稳定剂，特别是涉及一种具有耐酸性的受阻胺系光稳定剂。
技术介绍
在高分子材料中，聚烯烃因具有较佳的耐化性及机械性质，而成为广泛被利用的高分子材料。然而，聚烯烃于加工的过程中或由其制成的成品于使用的过程中，易受光影响，导致有黄化、老化或脆化等变质的问题产生。为避免聚烯烃受光影响导致变质，一般会加入受阻胺系光稳定剂(hinderedaminelightstabilizers，简称HALS)，以提升聚烯烃的光稳定性。该受阻胺系光稳定剂例如但不限于聚[[6-[(1，1，3，3-四甲基丁基)胺基]-1，3，5-三嗪-2，4-二基][(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚胺基]-1，6-己二基[(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚胺]](以下简称光稳定剂944)、癸二酸双(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)酯(以下简称光稳定剂770)、癸二酸双(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)酯(简称光稳定剂292)、聚丁二酸(4-羟基-2，2，6，6-四甲基-1-哌啶乙醇)酯(以下简称光稳定剂622)、1，5，8，12-四[4，6-二(N-丁基-N-1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基胺基)-1，3，5-三嗪-2-基]-1，5，8，12-四氮杂十二烷(以下简称光稳定剂119)，或商品名NOR371[巴斯夫公司制(BadischeAnilin-und-Soda-Fabrik)，以下简称光稳定剂371]等。虽所述受阻胺系光稳定剂可提升聚烯烃对光的稳定性，但是所述受阻胺光稳定剂遇酸容易变质，使得添加有所述受阻胺光稳定剂的聚烯烃的应用受限，同时，也影响整体的光稳定性。有鉴于上述，提供一种具有耐酸性且能提升聚合物对光的稳定性的受阻胺系光稳定剂，是此
相关技术人员可再突破的课题。
技术实现思路
本专利技术的第一目的在于提供一种避免聚合物经光照后变质，且具有耐酸性的受阻胺系光稳定剂。本专利技术受阻胺系光稳定剂，由式(I)所示：X1、X2、X3及X4各自为氢、C1至C20的烷基、条件是X1、X2、X3及X4中至少一者为或M1至M16各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基、条件是M1至M4中至少一者为M5至M8中至少一者为M9至M12中至少一者为或M13至M16中至少一者为R1及R8各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基，或苄基；R2至R5及R9至R12各自为C1至C8的烷基、苄基、或R2及R3同形成C5至C10的环烷基，或R4及R5同形成C5至C10的环烷基，或R9及R10同形成C5至C10的环烷基，或R11及R12同形成C5至C10的环烷基；R6为氢、C1至C8的烷基，或苄基；R7为氢、C1至C8的烷基、苄基、或C5至C10的环烷基；Z1及Z2各自为C2至C20的直链伸烷基、C2至C20的支链伸烷基、至少一个-CH2-被氧取代的C2至C20的直链伸烷基、至少一个-CH2-被硫取代的C2至C20的直链伸烷基、至少一个氢被硝基取代的C2至C20的直链伸烷基、至少一个-CH2-被氧取代的C2至C20的支链伸烷基、至少一个-CH2-被硫取代的C2至C20的支链伸烷基，或至少一个氢被硝基取代的C2至C20的支链伸烷基；Y为C1至C8的伸烷基、经取代的C5至C20的伸环烷基、未经取代的C5至C20的伸环烷基、n表示1以上；当n为2以上时，复数个Z1为相同或不同，复数个T1为相同或不同，复数个X2为相同或不同，复数个Y为相同或不同，复数个T3为相同或不同，复数个X3为相同或不同。较佳地，该X1、X2、X3及X4各自为较佳地，该X1、X2、X3及X4为较佳地，该M13至M16中至少两者为较佳地，Z1及Z2各自为C2至C20的直链伸烷基。较佳地，Y为较佳地，R1为C4至C7的环烷基。较佳地，R2至R5各自为C1至C8的烷基。较佳地，n为1至50。该受阻胺系光稳定剂的制备方法例如但不限于将具有反应官能基的受阻胺系组分(A)与具有多异氰酸酯基的组分(B)进行加成反应。该加成反应的温度范围为50℃至200C。该加成反应的时间范围为5分钟至24小时。本专利技术受阻胺系光稳定剂的平均分子量范围为1,000至5,000。以下将逐一对各个成份进行详细说明。[具有反应官能基的受阻胺系组分(A)]该具有反应官能基的受阻胺系组分(A)包括式(1)至式(2)所示的具有反应官能基的受阻胺系化合物中至少一者。<式(1)所示的具有反应官能基的受阻胺系化合物>X10及X20各自为氢、C1至C20的烷基、条件是X10及X20中至少一者为M1至M16各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基、条件是M1至M4中至少一者为M5至M8中至少一者为M9至M12中至少一者为或M13至M16中至少一者为R1及R8各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基，或苄基；R2至R5及R9至R12各自为C1至C8的烷基、苄基(benzyl)、或R2及R3同形成C5至C10的环烷基，或R4及R5同形成C5至C10的环烷基，或R9及R10同形成C5至C10的环烷基，或R11及R12同形成C5至C10的环烷基；R6为氢、C1至C8的烷基，或苄基；R7为氢、C1至C8的烷基、苄基、或C5至C10的环烷基；Z10为C2至C20的直链(straight)伸烷基(alkylene)、C2至C20的支链(branched)伸烷基、至少一个-CH2-被氧(-O-)取代的C2至C20的直链伸烷基、至少一个-CH2-被硫(-S-)取代的C2至C20的直链伸烷基、至少一个氢被硝基(nitro，-NO2)取代的C2至C20的直链伸烷基、至少一个-CH2-被氧取代的C2至C20的支链伸烷基、至少一个-CH2-被硫取代的C2至C20的支链伸烷基，或至少一个氢被硝基取代的C2至C20的支链伸烷基。较佳地，X10及X20为较佳地，该M13至M16中至少两者为较佳地，R1为C4至C7的环烷基。较佳地，R2至R5各自为C1至C8的烷基。较佳地，Z10为C2至C20的直链伸烷基。该式(1)所示的具有反应官能基的受阻胺系化合物可单独一种或混合多种使用，且该式(1)所示的具有反应官能基的受阻胺系化合物例如但不限于或等。<式(2)所示的具有反应官能基的受阻胺系化合物>X30为或M1至M16各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基、条件是M1至M4中至少一者为M5至M8中至少一者为M9至M12中至少一者为或M13至M16中至少一者为R1及R8各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基，或苄基；R2至R5及R9至R12各自为C1至C8的烷基、苄基、或R2及R3同形成C5至C10的环烷基，或R4及R5同形成C5至C10的环烷基，或R9及R10同形成C5至C10的环烷基，或R11及R12同形成C5至C10的环烷基；R6为氢、C1至C8的烷基，或苄基；R7为氢、C1至C8的烷基、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种受阻胺系光稳定剂，其特征在于由式(I)所示：T1为‑O‑或T2为‑OH或T3为‑O‑或X1、X2、X3及X4各自为氢、C1至C20的烷基、条件是X1、X2、X3及X4中至少一者为或M1至M16各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基、条件是M1至M4中至少一者为M5至M8中至少一者为M9至M12中至少一者为或M13至M16中至少一者为R1及R8各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基，或苄基；R2至R5及R9至R12各自为C1至C8的烷基、苄基、或R2及R3同形成C5至C10的环烷基，或R4及R5同形成C5至C10的环烷基，或R9及R10同形成C5至C10的环烷基，或R11及R12同形成C5至C10的环烷基；R6为氢、C1至C8的烷基，或苄基；R7为氢、C1至C8的烷基、苄基、或C5至C10的环烷基；Z1及Z2各自为C2至C20的直链伸烷基、C2至C20的支链伸烷基、至少一个‑CH2‑被氧取代的C2至C20的直链伸烷基、至少一个‑CH2‑被硫取代的C2至C20的直链伸烷基、至少一个氢被硝基取代的C2至C20的直链伸烷基、至少一个‑CH2‑被氧取代的C2至C20的支链伸烷基、至少一个‑CH2‑被硫取代的C2至C20的支链伸烷基，或至少一个氢被硝基取代的C2至C20的支链伸烷基；Y为C1至C8的伸烷基、经取代的C5至C20的伸环烷基、未经取代的C5至C20的伸环烷基、n表示1以上；当n为2以上时，复数个Z1为相同或不同，复数个T1为相同或不同，复数个X2为相同或不同，复数个Y为相同或不同，复数个T3为相同或不同，复数个X3为相同或不同。...

【技术特征摘要】
1.一种受阻胺系光稳定剂，其特征在于由式(I)所示：T1为-O-或T2为-OH或T3为-O-或X1、X2、X3及X4各自为氢、C1至C20的烷基、条件是X1、X2、X3及X4中至少一者为或M1至M16各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基、条件是M1至M4
\t中至少一者为M5至M8中至少一者为M9至M12中至少一者为或M13至M16中至少一者为R1及R8各自为氢、苯基、C1至C20的直链烷基、C3至C20的支链烷基、C4至C7的环烷基，或苄基；R2至R5及R9至R12各自为C1至C8的烷基、苄基、或R2及R3同形成C5至C10的环烷基，或R4及R5同形成C5至C10的环烷基，或R9及R10同形成C5至C10的环烷基，或R11及R12同形成C5至C10的环烷基；R6为氢、C1至C8的烷基，或苄基；R7为氢、C1至C8的烷基、苄基、或C5至C10的环烷基；Z1及Z2各自为C2至C20的直链伸烷基、C2至C20的支链伸烷基、至少一个-CH2...

【专利技术属性】
技术研发人员：王仁甫，陈桢凯，李昆昌，
申请(专利权)人：奕益实业有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71