吸附材料和使用方法技术

本文提供了吸附材料，其包括核，例如CHA，和至少一个涂层，例如DDR。本文还提供了使用所述吸附材料的吸附剂接触器和气体分离方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】吸附材料和使用方法
本专利技术涉及一种吸附材料，其包括核和至少一个涂层。所述核对气体污染物如CO2的吸附容量大于所述涂层，并且所述至少一个涂层对气体污染物如CO2的选择性大于所述核。
技术介绍
气体分离在许多行业中是重要的，用于从气流中除去不需要的污染物以及用于实现所需的气体组成。例如，来自许多气田的天然气可含有显著水平的H2O、SO2、H2S、CO2、N2、硫醇和/或重质烃，其必须在将气体输送到市场之前在各种程度上除去。优选从天然气中除去尽可能多的酸性气体H2S和CO2以留下甲烷作为回收组分。甲烷回收率的小幅增长可能导致工艺经济学方面的显著改善，以及用于防止不必要的资源损失。当除去有害杂质时，希望回收大于80体积％，特别是大于90体积％的甲烷。此外，合成气体(合成气)通常需要在将其用于燃料、化学和动力应用之前除去和分离各种组分，因为所有这些应用都具有工艺所需的确切合成气组成的规格要求。初生产时，合成气可以至少含有CO和H2。合成气中的其它分子组分可以是CH4、CO2、H2S、H2O、N2和其组合。气体中的少量(或痕量)组分可包括烃、NH3、NOx等，和其组合。在几乎所有的应用中，大本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吸附材料，其包括多孔的固体核，其中所述核的体积吸附容量小于所述吸附材料的体积的35％，和所述核上的至少一个涂层，其中所述至少一个涂层对于CO2相比于CH4的动力学选择性大于10。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.23 US 62/096,1231.一种吸附材料，其包括多孔的固体核，其中所述核的体积吸附容量小于所述吸附材料的体积的35％，和所述核上的至少一个涂层，其中所述至少一个涂层对于CO2相比于CH4的动力学选择性大于10。2.根据权利要求1所述的吸附材料，其中所述核包含沸石。3.根据权利要求2所述的吸附材料，其中所述沸石包括菱沸石(CHA)。4.根据权利要求3所述的吸附材料，其中CHA选自Si-CHA、SAPO-34、AlPO-34、SSZ-13和其组合。5.根据权利要求1所述的吸附材料，其中所述至少一个涂层包含沸石。6.根据权利要求5所述的吸附材料，其中所述沸石包括DDR。7.根据权利要求6所述的吸附材料，其中DDR选自Sigma-1、ZSM-58和其组合。8.根据权利要求1所述的吸附材料，其中所述核包含Si-CHA并且所述至少一个涂层包含Sigma-1。9.根据权利要求1所述的吸附材料，其中所述至少一个涂层和所述核以约6:1至约30:1的涂层:核重量比存在。10.根据权利要求1所述的吸附材料，其中所述至少一个涂层和所述核以约1:1的涂层:核重量比存在。11.根据权利要求1所述的吸附材料，其中所述吸附材料呈颗粒形式，其具有约2μm至约20μm的平均粒度。12.一种吸附材料，其包括包含CHA的核和所述核上的至少一个涂层，其中所述涂层包含DDR。13.根据权利要求12所述的吸附材料，其中所述核的体积吸附容量小于所述吸附材料的体积的35％。14.根据权利要求12所述的吸附材料，其中所述至少一个涂层对于CO2相比于CH4的动力学选择性大于50。15.根据权利要求12所述的吸附材料，其中CHA是Si-CHA并且DDR是Sigma-1。16.根据权利要求1所述的吸附材料，其中所述核是CHA并且所述涂层是Sigma-1。17.根据权利要求1所述的吸附材料，其中所述核是CHA并且所述涂层是SiO2二氧化硅。18.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：芭芭拉·卡斯滕森，丹尼尔·P·莱塔，普雷提·卡马科蒂，彼得·拉维科维奇，霍斯华·瓦龙，蒂尔曼·W·博伊特尔，卡尔·G·施特罗迈尔，艾维·D·约翰逊，哈里·W·德克曼，王正宇，查兰吉特·保尔，
申请(专利权)人：埃克森美孚研究工程公司，
类型：发明
国别省市：美国,US