The utility model discloses a low-E glass, which comprises a glass substrate, the surface from the glass substrate outside deposition forming a first dielectric layer, low radiation layer, second dielectric layer and protective layer between the first dielectric layer and low radiation layer is also provided with a stable dielectric layer, the dielectric layer is stable for the ZnO or NiCr film structure, the thickness of ZnO film is 7 11nm, NiCr film is 3 9nm; the low radiation layer is AgTi film structure, the thickness of AgTi film is 12 20nm. The utility model has the advantages of low radiation layer using the AgTi film deposited, and between the first dielectric layer and low radiation layer is also provided with a stable dielectric layer, the coated glass prepared not only has very low emissivity and high shading coefficient, to maximize the use of solar energy. In addition, the interior of the coated glass has excellent and stable physical characteristics, and the service life is prolonged greatly.
【技术实现步骤摘要】
一种低辐射镀膜玻璃
本技术涉及一种玻璃产品,具体涉及一种低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
镀膜玻璃(Reflectiveglass)也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜,以改变玻璃的光学性能来满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性,可分为热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。应提倡国家的节能环保及减排的要求,低辐射玻璃的使用最为普遍。低辐射玻璃也称Low-E玻璃,它是采用真空磁控溅射方法在玻璃表面上镀上含有一层或两层甚至三层银层的膜系,来降低能量吸收或控制室内外能量交换,保障生活、工作的舒适性,并以此达到环保节能的目的。在建筑应用中,Low-E玻璃的使用可以达到“冬暖夏凉”的效果,具有优异的隔热、保温性能效果。与普通单层玻璃相比,低辐射镀膜玻璃可以节能60%以上,可广泛应用于建筑门窗及车窗上。应消费者的需求,目前市场上各种功能结构的低辐射镀膜玻璃,如授权公告号为CN101585667B的中国专利技术专利公开了一种可烘弯低辐射镀膜玻璃,其膜层结构自玻璃基板向外依次为:玻璃基板、过渡层、第一电介质层、低辐射层、第二电介质层及保护层;所述第一电介质层为ZnSnOx/TiOy膜层结构,ZnSnOx膜层厚度为30-40nm,TiOy膜层厚度为1.5-3nm;所述第二层电介质层为TiOy/ZnSnOx膜层结构,TiOy膜层厚度为1.5-3nm,ZnSnOx膜层厚度为30-40nm。该结构的低辐射镀膜玻璃虽然具有较高的沉积效率和耐烘弯的特点,但其膜层的均匀性差、透光性不够高以及低辐射层(即银膜层)的稳定性较差,大大影响了 ...
【技术保护点】
一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片(1),自所述玻璃基片(1)的表面向外依次沉积形成第一电介质层(2)、低辐射层(4)、第二电介质层(5)及保护层(6),其特征在于:在第一电介质层(2)与低辐射层(4)之间还设有稳定电介质层(3),所述稳定电介质层(3)为ZnO或NiCr膜层结构,ZnO膜层厚度为7‑11nm,NiCr膜层为3‑9nm;所述低辐射层(4)为AgTi膜层结构,AgTi膜层厚度为12‑20nm。
【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片(1),自所述玻璃基片(1)的表面向外依次沉积形成第一电介质层(2)、低辐射层(4)、第二电介质层(5)及保护层(6),其特征在于:在第一电介质层(2)与低辐射层(4)之间还设有稳定电介质层(3),所述稳定电介质层(3)为ZnO或NiCr膜层结构,ZnO膜层厚度为7-11nm,NiCr膜层为3-9nm;所述低辐射层(4)为AgTi膜层结构,AgTi膜层厚度为12-20nm。2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一电介质层(2)为TiO2或SnO2膜层结构,TiO2膜层厚度为2-5nm,SnO2...
【专利技术属性】
技术研发人员:庞会军,
申请(专利权)人:钦州市中玻玻璃有限责任公司,
类型:新型
国别省市:广西,45
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