一种彩膜基板及显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例提供一种彩膜基板及显示装置，涉及显示技术领域，相对现有技术，可避免对位标记图案占用较大的空间，且在曝光时检出系对同一对位标记图案只需检出一次，节省了对位工序的时间。该彩膜基板包括至少一个对位标记图案组；所述对位标记图案组包括：第一对位标记图案、第二对位标记图案以及第三对位标记图案，所述第一对位标记图案、所述第二对位标记图案、所述第三对位标记图案均不相同。用于彩膜基板的对位曝光。

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及显示装置
本技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及显示装置。
技术介绍
目前，在制作彩膜基板上的红色光阻(R)、绿色光阻(G)、蓝色光阻(B)以及隔垫物(PhotoSpacer，简称PS)的对位工序中，通过在彩膜基板和掩膜板(Mask)上分别设置对位标记图案，通过对位标记图案使彩膜基板和掩膜板对齐，之后在进行自动曝光。现有技术中的彩膜基板，由于制作红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的对位标记图案本体的形状和尺寸完全相同，为了区分制作红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的对位标记图案本体，因而如图1所示，在红色光阻对应的对位标记图案本体旁设有字母R、在绿色光阻对应的对位标记图案本体旁设有字母G、在蓝色光阻对应的对位标记图案本体旁设有字母B。然而，由于字母与对位标记图案本体之间有一定的间距，这样一方面导致对位标记图案本体和字母占用了彩膜基板较大的空间，限制了彩膜基板的利用率；另一方面导致曝光机的检出系既需要检出对位标记图案本体，还需要检出相应的字母，而移动检出系需要一定的时间，从而增加了对位工序的时间，降低了生产效率。
技术实现思路
本技术的实施例提供一种彩膜基板及显示装置，相对现有技术，可避免对位标记图案占用较大的空间，且在曝光时检出系对同一对位标记图案只需检出一次，节省了对位工序的时间。为达到上述目的，本技术的实施例采用如下技术方案：一方面，提供一种彩膜基板，包括至少一个对位标记图案组；所述对位标记图案组包括：第一对位标记图案、第二对位标记图案以及第三对位标记图案，所述第一对位标记图案、所述第二对位标记图案、所述第三对位标记图案均不相同。优选的，所述彩膜基板划分为多个像素单元，每个像素单元包括第一子像素、第二子像素和第三子像素；所述第一对位标记图案位于所述第一子像素内、所述第二对位标记图案位于所述第二子像素内、所述第三对位标记图案位于所述第三子像素内。优选的，所述彩膜基板具有用于限定子像素的像素限定区；所述彩膜基板还包括位于所述像素限定区内的遮光图案，所述对位标记图案与所述遮光图案同层同材料。优选的，位于子像素内的所述对位标记图案将该子像素分隔成至少两个透光区域。进一步优选的，一子像素中的所述对位标记图案包括：条形的第一子图案、以及凸出于所述第一子图案一侧边的第二子图案；所述第一子图案的两端分别与位于该子像素两长边位置处的遮光图案相连，以将所述子像素分隔成两个透光区域；同一所述对位标记图案组中的各第一子图案的形状相同，各第二子图案的形状不相同。进一步的，同一所述对位标记图案组的所述对位标记图案所在的子像素中，位于所述第一子图案背离所述第二子图案一侧的所述透光区域的大小形状相同；其中，同一所述对位标记图案组中的所述第二子图案位于所述第一子图案的同一侧。优选的，所述第一对位标记图案、所述第二对位标记图案和所述第三对位标记图案位于不同的像素单元中。优选的，所述彩膜基板划分为多个曝光单元；每个曝光单元的至少两个角的位置分布有所述对位标记图案组，所述至少两个角的位置包括位于同一对角线的两个角。优选的，所述第一子像素为蓝色子像素、所述第二子像素为绿色子像素、所述第三子像素为红色子像素；其中，所述第二子像素和所述第三子像素的形状大小相同；所述第一子像素的形状和所述第二子像素的形状不同，且所述第一子像素的面积小于所述第二子像素的面积。另一方面，提供一种显示装置，包括上述的彩膜基板。本技术实施例提供一种彩膜基板及显示装置，由于第一对位标记图案、第二对位标记图案以及第三对位标记图案均不相同，因而在对彩膜基板进行对位曝光时，可以根据对位标记图案的形状或大小快速判断出是彩膜基板上的哪一膜层对应的对位标记图案。相对现有技术，由于无需在每个对位标记图案旁设置字母，因而减小了占用彩膜基板的空间，提高了彩膜基板的利用率。此外，本技术实施例中，曝光机的检出系只需要对对位标记图案进行检查，由于节省了曝光机的检出系移动的时间以及检查字母的时间，因而减少了对位工序的时间，提高了生产效率。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术提供的一种彩膜基板包括对位标记图案的结构示意图；图2(a)为本技术实施例提供的一种彩膜基板包括对位标记图案的结构示意图一；图2(b)为本技术实施例提供的一种彩膜基板包括对位标记图案的结构示意图二；图3为本技术实施例提供的一种彩膜基板包括对位标记图案的结构示意图三；图4为本技术实施例提供的一种彩膜基板包括对位标记图案的结构示意图四；图5为本技术实施例提供的一种彩膜基板包括对位标记图案的结构示意图五；图6为本技术实施例提供的一种彩膜基板包括多个曝光单元的结构示意图；图7为本技术实施例提供的一种彩膜基板包括多个像素单元的结构示意图。附图标记：01-显示区；02-非显示区；10-对位标记图案组；101-第一对位标记图案；102-第二对位标记图案；103-第三对位标记图案；104-第一子图案；105-第二子图案；20-像素单元；201-第一子像素；202-第二子像素；203-第三子像素；30-遮光图案；40-曝光单元。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术实施例提供一种彩膜基板，如图2(a)和图2(b)所示，包括至少一个对位标记图案组10；对位标记图案组10包括：第一对位标记图案101、第二对位标记图案102以及第三对位标记图案103，第一对位标记图案101、第二对位标记图案102、第三对位标记图案103均不相同。需要说明的是，第一，对于对位标记图案组10的设置位置不进行限定，可以是如图2(a)所示，设置在彩膜基板的显示区01(即A-A＇区)，例如设置在子像素内，也可以是如图2(b)所示，设置在彩膜基板的非显示区02，例如设置在Dummy(虚拟)区。第二，对于第一对位标记图案101、第二对位标记图案102以及第三对位标记图案103具体是用于彩膜基板上哪一膜层的制作过程中的对位曝光，对此不进行限定。例如，可以是第一对位标记图案101为制作红色光阻时的对位标记图案，第二对位标记图案102为制作绿色光阻时的对位标记图案，第三对位标记图案103为制作蓝色光阻时的对位标记图案，第一对位标记图案101、第二对位标记图案102以及第三对位标记图案103中的任一个还可以用于彩膜基板上制作隔垫物时的对位标记图案。第三，第一对位标记图案101、第二对位标记图案102以及第三对位标记图案103均不相同，可以是第一对位标记图案101、第二对位标记图案102以及第三对位标记图案103的形状均不相同，也可以是大小均不相同。此处，无论是第一对位标记图案101、第二对位标记图案102以及第三对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，包括至少一个对位标记图案组；所述对位标记图案组包括：第一对位标记图案、第二对位标记图案以及第三对位标记图案，其特征在于，所述第一对位标记图案、所述第二对位标记图案、所述第三对位标记图案均不相同。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括至少一个对位标记图案组；所述对位标记图案组包括：第一对位标记图案、第二对位标记图案以及第三对位标记图案，其特征在于，所述第一对位标记图案、所述第二对位标记图案、所述第三对位标记图案均不相同。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板划分为多个像素单元，每个像素单元包括第一子像素、第二子像素和第三子像素；所述第一对位标记图案位于所述第一子像素内、所述第二对位标记图案位于所述第二子像素内、所述第三对位标记图案位于所述第三子像素内。3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板具有用于限定子像素的像素限定区；所述彩膜基板还包括位于所述像素限定区内的遮光图案，所述对位标记图案与所述遮光图案同层同材料。4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，位于子像素内的所述对位标记图案将该子像素分隔成至少两个透光区域。5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，一子像素中的所述对位标记图案包括：条形的第一子图案、以及凸出于所述第一子图案一侧边的第二子图案；所述第一子图案的两端分别与位于该子像素两长边位置处的遮光图案相连，以将所述子像素分隔成两个透光区...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭杨辰，汪栋，齐鹏煜，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11