旋转装置制造方法及图纸

提供旋转装置，其具有：保持机构，其使3个保持爪(311)与晶片外周接触并对晶片进行保持；自旋旋转机构(4)，其具有使保持机构(3)以旋转轴(40a)为轴而旋转的旋转驱动部；和判断单元(5)，其对晶片中心是否与旋转轴的轴心一致进行判断，保持机构具有输出部(36a～36c)，它们进行根据保持爪的位置的输出，判断单元具有：存储部(50a～50c)，它们对当3个保持爪所保持的晶片的中心与旋转轴的轴心一致时的来自与各个保持爪对应的输出部的各个输出值进行存储；和判断部(51)，其根据旋转轴以规定的角度进行了旋转时的各个输出值是否与存储部所存储的3个保持爪的输出值(50a～50c)一致来判断晶片的偏移。

【技术实现步骤摘要】
旋转装置
本专利技术涉及旋转装置，该旋转装置在保持着晶片的状态下使晶片旋转并进行清洗/干燥。
技术介绍
在半导体制造工艺中，在对晶片进行清洗的清洗单元中，例如存在1张1张地对晶片进行处理的单张自旋式清洗单元。在该清洗单元中，例如，存在如下的旋转装置：利用多个保持爪将晶片的外周夹住而进行保持，并使该夹住的部分以自旋旋转轴为轴而公转，由此，使晶片旋转并进行清洗/干燥(例如，参照专利文献1、2)。在该旋转装置中，使对晶片的外周进行保持的保持爪转动而打开，将搬送到旋转工作台上方的晶片夹紧并保持。即，在上述的例子中的旋转装置中，在旋转工作台的外周部上至少具有3个与保持爪转动轴连结的保持爪，在对晶片进行保持时，使连结该至少3个保持爪的设想的三角形的外心与作为旋转工作台的旋转中心的自旋旋转轴一致。使该至少3个保持爪转动的各突出部上升而使旋转工作台自旋旋转，由此，与各保持爪连接的保持爪转动轴通过各突出部而转动，与此相伴，至少3个保持爪在从作为旋转工作台的旋转中心的自旋旋转轴分离的方向上转动而成为打开的状态。并且，在晶片以使连结3个保持爪的设想的三角形的外心与晶片的中心一致的方式被搬送到旋转工作台上方之后，使旋转工作台自旋反转，由此，通过弹簧的力来使3个保持爪在接近自旋旋转轴的方向上转动并关闭。然后，通过使至少3个保持爪与晶片的外周接触，而在除了保持爪以外不与晶片接触的状态下，使晶片成为由保持爪保持的状态。在利用至少3个保持爪保持了晶片之后，使旋转工作台自旋反转直到各突出部进一步从各保持爪转动轴远离，之后，使突出部下降。然后，在突出部下降的状态下，使旋转工作台自旋旋转并使各保持爪以自旋旋转轴为轴而公转，由此，使由至少3个保持爪保持的晶片W自旋旋转。接着，对于由各保持爪保持的晶片W的上表面和下表面，一边从清洗水提供单元提供清洗水，一边进行自旋旋转清洗。之后，使清洗水的提供停止，并将晶片的旋转切换为高速旋转，通过离心力将清洗水朝向外周方向吹飞而使晶片干燥。在进行该干燥时，有时也例如通过吹送干燥空气而使晶片进一步高速地干燥。专利文献1：日本特许第3909915号公报专利文献2：日本特开2015-122400号公报这里，在旋转装置的制造中，理想化的是将至少3个保持爪以自旋旋转轴为中心在旋转工作台上在周向上准确地等间隔地配设，并且，与各保持爪对应的至少3个突出部也以自旋旋转轴为中心准确地等间隔地配设。在该情况下，当使至少3个保持爪与晶片的外周接触时，各保持爪能够以相同的转动角度对晶片进行保持。因此，对保持爪已保持了晶片的情况进行检测的至少3个传感器也以自旋旋转轴为中心在周向上等间隔地配设。然而，将3个保持爪、3个突出部和3个传感器准确地等间隔地配置是很困难的。进而，在将晶片搬送到旋转工作台上方并利用保持爪来夹紧保持时，很难使晶片的中心与自旋旋转轴的轴心准确地一致而将晶片搬送到旋转工作台上方并进行定位，存在由保持爪保持的晶片的中心从自旋旋转轴的轴心偏移的情况。在该状态下，当晶片自旋旋转时，由于因自旋旋转而产生的离心力并不是均等地分布在各保持爪上，所以有时不能维持由保持爪进行的晶片的保持，晶片会被吹飞落下。因此，在旋转装置中，当在晶片的中心从自旋旋转轴的轴心偏移的状态下通过保持爪来保持晶片时，产生了对晶片的中心的偏移进行识别的课题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种旋转装置，在晶片中心从自旋旋转轴的轴心偏移的状态下对通过保持爪保持了晶片的情况进行识别。用于解决上述课题的本专利技术是一种旋转装置，该旋转装置具有保持机构以及自旋旋转机构，其中，该保持机构使至少3个保持爪与晶片的外周接触而对晶片进行保持，该自旋旋转机构具有旋转驱动部，该旋转驱动部使该保持机构以自旋旋转轴为轴而旋转，其中，该旋转装置具有判断单元，该判断单元对晶片的中心是否与该自旋旋转轴的轴心一致进行判断，该保持机构具有输出部，该输出部进行根据保持爪的位置的输出，该判断单元具有：存储部，其对当至少3个该保持爪所保持的晶片的中心与该自旋旋转轴的轴心一致时的来自与各个该保持爪对应的各个输出部的输出值进行存储；以及判断部，其根据该自旋旋转轴以规定的角度进行了旋转时的该输出部的输出值是否与该存储部所存储的保持爪的输出值一致来判断晶片的偏移。优选所述输出部具有：传感器，其对当使保持爪以保持爪转动轴为轴转动而对晶片进行保持时的该保持爪的位置进行检测；反应部，其与该保持爪一同以该保持爪转动轴为轴转动而使该传感器发生反应；以及放大器，其将借助该反应部使该传感器发生反应的量转换成电压。本专利技术的旋转装置具有保持机构以及自旋旋转机构，其中，该保持机构使至少3个保持爪与晶片的外周接触而对晶片进行保持，该自旋旋转机构具有旋转驱动部，该旋转驱动部使该保持机构以自旋旋转轴为轴而旋转，该旋转装置具有判断单元，该判断单元对晶片的中心是否与自旋旋转轴的轴心一致进行判断，保持机构具有输出部，该输出部进行根据保持爪的位置的输出，判断单元具有：存储部，其对当至少3个保持爪所保持的晶片的中心与自旋旋转轴的轴心一致时的来自与各个保持爪对应的各个输出部的输出值进行存储；以及判断部，其根据自旋旋转轴以规定的角度进行了旋转时的输出部的输出值是否与存储部所存储至少一个的保持爪的输出值一致来判断晶片的偏移，由此，在晶片自身自旋旋转之前，能够对晶片的中心相对于自旋旋转轴的偏移进行识别。因此，能够根据该识别来校正晶片的位置，并能够通过至少3个保持爪来可靠地保持晶片。附图说明图1示出了旋转装置的一例，其中(A)是俯视剖视图，(B)是侧视剖视图。图2示出了在处于能够搬入晶片的状态下的旋转装置中对晶片进行保持的状态，其中(A)是俯视剖视图，(B)是侧视剖视图。图3示出了在准确地进行了晶片的定心的状态下对晶片进行保持的旋转装置中晶片能够旋转的状态，其中(A)是俯视剖视图，(B)是侧视剖视图。标号说明1：旋转装置；11：基台；12：壳体；121：排水口；13：清洗水提供单元；130：清洗水提供源；131：供水管；3：保持机构；32：上板；321：轴承；34：下板；341：开口；342a～342c：突出部；35a、35b：升降部；351：缸体；352：活塞；319：保持爪转动轴；31a～31c：保持部；311：保持爪；312：臂(a)、314：臂(b)；316：弹簧；315、317：柱部；36a～36c：输出部；360：传感器；361：反应部；362：放大器；4：自旋旋转机构；40：旋转轴；40a：自旋旋转轴；40b：贯通孔；41：旋转驱动部；42：轴承；43：密封件；44：旋转接头；5：判断单元；50：存储部；W：晶片；Wd：晶片的外周。具体实施方式图1的(A)、(B)所示的旋转装置1具有：基台11；壳体12，其防止清洗水的飞散；保持机构3，其使至少3个保持爪311与晶片W的外周Wd接触并对晶片W进行保持；自旋旋转机构4，其具有旋转驱动部41，该旋转驱动部41使保持机构3以自旋旋转轴40a为轴而旋转；以及清洗水提供单元13，其向由保持机构3保持的晶片W提供清洗水，该旋转装置1例如搭载在磨削装置上，具有对晶片W进行清洗并使其干燥的功能。如图1的(B)所示，壳体12形成为有底圆筒状，并在底面具有排水口121，该壳体12被固定在圆筒状的基台1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种旋转装置，该旋转装置具有保持机构以及自旋旋转机构，其中，该保持机构使至少3个保持爪与晶片的外周接触而对晶片进行保持，该自旋旋转机构具有旋转驱动部，该旋转驱动部使该保持机构以自旋旋转轴为轴而旋转，其中，该旋转装置具有判断单元，该判断单元对晶片的中心是否与该自旋旋转轴的轴心一致进行判断，该保持机构具有输出部，该输出部进行根据保持爪的位置的输出，该判断单元具有：存储部，其对当至少3个保持爪所保持的晶片的中心与该自旋旋转轴的轴心一致时的来自与各个该保持爪对应的各个输出部的输出值进行存储；以及判断部，其根据该自旋旋转轴以规定的角度进行了旋转时的该输出部的输出值是否与该存储部所存储的保持爪的输出值一致来判断晶片的偏移。

【技术特征摘要】
2015.11.12 JP 2015-2219781.一种旋转装置，该旋转装置具有保持机构以及自旋旋转机构，其中，该保持机构使至少3个保持爪与晶片的外周接触而对晶片进行保持，该自旋旋转机构具有旋转驱动部，该旋转驱动部使该保持机构以自旋旋转轴为轴而旋转，其中，该旋转装置具有判断单元，该判断单元对晶片的中心是否与该自旋旋转轴的轴心一致进行判断，该保持机构具有输出部，该输出部进行根据保持爪的位置的输出，该判断单元具有：存储部，其对当至少3个保持爪所保持...

【专利技术属性】
技术研发人员：清原恒成，久保徹雄，
申请(专利权)人：株式会社迪思科，
类型：发明
国别省市：日本,JP