晶圆边缘量测模组制造技术

技术编号:15958006 阅读:81 留言:0更新日期:2017-08-08 09:56
一种晶圆边缘量测模组,包括:至少一线性扫描摄影机,架设在晶圆边缘的预定处;至少一凸透镜组,位于线性扫描摄影机的前方,使线性扫描摄影机透过凸透镜组后,再对晶圆边缘的中端边缘进行线性扫描;至少一反射镜组,接近晶圆边缘,且其由一第一及第二反射镜所构成,并使反射面朝前;至少三个光源元件组,其光源分别投射至所要线性扫描晶圆边缘的上斜面边缘、中端边缘及下斜面边缘上的像素,以分别形成不同暗场光源,令晶圆边缘的全部像素呈现低灰度值区域,当线性扫描摄影机线性扫描晶圆边缘的部分像素呈现高灰度值区域时,则量测出高灰度值区域为晶圆边缘的缺陷。本发明专利技术具有提升量测晶圆边缘速度及实时发现缺陷的功效。

【技术实现步骤摘要】
晶圆边缘量测模组
本专利技术是有关一种晶圆边缘量测模组,尤指一种整合线性扫描摄影机、凸透镜、反射镜及暗场光源,亦可提升量测晶圆边缘速度及实时发现缺陷。
技术介绍
以往对于大量生产的晶圆量测,大都是采用大量的人力,使用许许多多不同的量具,以人工的方式來作量测的工作。这种人工检测的方式,除了有人事成本费用过高的缺点之外,以人眼进行检测的工作,不仅有枯燥乏味、眼睛容易疲勞、及人员流动率过高等问题外,质量的稳定度也是值得探讨的问题,因此,逐渐以机器视觉取代人工视觉,在工业摄影机方面,以取像原理来区分,主要包括线扫描式与面线扫描式的技术,该线扫描式是图像元素呈一维线状排列,取像时每次只能获得一列的影像数据,当工业摄影机与被摄影物体间产生相对运动时,而得到二维的图像数据;该面线扫描式是指植入于工业摄影机的影像感测组件采用二维矩阵式。又机器视觉的光学几何学方面,其利用反射镜、凹透镜、凸透镜、聚焦镜、平凸透镜等不同镜体组合进行光学反射、折射,但组合并非通常知识的人所轻易完成的事,需经过相当程度的研究。再机器视觉的照明几何学方面,其照明光源可分成亮场光源及暗场光源,该亮场光源为光源反射直接进入镜头;该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶圆边缘量测模组,其特征在于,包括:至少一线性扫描摄影机,架设在晶圆边缘的预定处;至少一凸透镜组,位于该线性扫描摄影机的前方,使该线性扫描摄影机透过该凸透镜组后,再对该晶圆边缘的中端边缘进行线性扫描;至少一反射镜组,接近该晶圆边缘,且其由一第一及第二反射镜所构成,并使反射面朝前,又该第一及第二反射镜以该线性扫描摄影机为中央基准,呈对称状而使两侧向前倾斜,使该线性扫描摄影机透过该第一及第二反射镜的反射面后,再分别对该晶圆边缘的上斜面边缘及下斜面边缘进行线性扫描;以及至少三个光源元件组,其光源分别投射至所要线性扫描该晶圆边缘的上斜面边缘、中端边缘及下斜面边缘上的像素,以分别形成不同暗场光源,令...

【技术特征摘要】
1.一种晶圆边缘量测模组,其特征在于,包括:至少一线性扫描摄影机,架设在晶圆边缘的预定处;至少一凸透镜组,位于该线性扫描摄影机的前方,使该线性扫描摄影机透过该凸透镜组后,再对该晶圆边缘的中端边缘进行线性扫描;至少一反射镜组,接近该晶圆边缘,且其由一第一及第二反射镜所构成,并使反射面朝前,又该第一及第二反射镜以该线性扫描摄影机为中央基准,呈对称状而使两侧向前倾斜,使该线性扫描摄影机透过该第一及第二反射镜的反射面后,再分别对该晶圆边缘的上斜面边缘及下斜面边缘进行线性扫描;以及至少三个光源元件组,其光源分别投射至所要线性扫描该晶圆边缘的上斜面边缘、中端边缘及下斜面边缘上的像素,以分别形成不同暗场光源,令该晶圆边缘的全部像素呈现低灰度值区域,当该线性扫描摄影机线性扫描该晶圆边缘的部分像素呈现高灰度值区域...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡声鸿陈文淇杨倬昀李耀吉赵立文蔡明宏吴思聪
申请(专利权)人:易发精机股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾,71

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