【技术实现步骤摘要】
磁存储装置
本专利技术构思的实施方式涉及半导体装置及其制造方法,更具体地,涉及包括磁隧道结图案的磁存储装置及其制造方法。
技术介绍
对于高速且低功耗的电子产品需要可快速读/写且低电压的存储装置。已经发展了磁存储装置来满足这些需求。由于其高的运行特性以及以非易失性的方式存储数据的能力,磁存储装置可以满足下一代存储装置的需求。磁存储装置采用磁隧道结(MTJ)图案来存储信息。磁隧道结图案可包括两个磁层和设置在这两个磁层之间的绝缘层。磁隧道结图案的电阻取决于这两个磁层的磁化方向。例如,当这两个磁层的磁化方向彼此反平行时,磁隧道结图案可以具有相对大的电阻。当这两个磁层的磁化方向彼此平行时,磁隧道结图案可以具有相对小的电阻。磁存储装置可以利用磁隧道结图案的电阻之间的差异来读取/写入数据。在自旋转移力矩磁随机存取存储器(STT-MRAM)器件中,向磁单元写入数据所需的写电流的大小可以随着磁单元的尺寸的减小而减小。因此,期望减小STT-MRAM器件的尺寸。
技术实现思路
本专利技术构思的实施方式提供具有改善的可靠性的磁存储装置。在一个方面中,一种磁存储装置可以包括:基板;在基板上的着陆焊盘(landingpad);第一磁隧道结图案和第二磁隧道结图案,设置在基板上并在从平面图观看时与着陆焊盘间隔开;以及互连结构,将第二磁隧道结图案的顶表面电连接到着陆焊盘。当从平面图观看时,第一磁隧道结图案和第二磁隧道结图案可以彼此间隔开第一距离。当从平面图观看时,着陆焊盘和第一磁隧道结图案之间的距离可以大于第一距离。当从平面图观看时,着陆焊盘和第二磁隧道结图案之间的距离可以大于第一距离。在一个 ...
【技术保护点】
一种磁存储装置,包括:基板;着陆焊盘,在所述基板上;第一磁隧道结图案和第二磁隧道结图案,在所述基板上,所述第一磁隧道结图案和所述第二磁隧道结图案与所述着陆焊盘间隔开;以及互连结构,将所述第二磁隧道结图案的顶表面电连接到所述着陆焊盘,其中所述第一磁隧道结图案与所述着陆焊盘间隔开第一距离,其中所述第二磁隧道结图案与所述着陆焊盘间隔开第二距离,其中所述第一磁隧道结图案与所述第二磁隧道结图案间隔开第三距离,其中所述第一距离大于所述第三距离,并且其中所述第二距离大于所述第三距离。
【技术特征摘要】
2015.10.15 KR 10-2015-0144268;2015.11.09 KR 10-2011.一种磁存储装置,包括:基板;着陆焊盘,在所述基板上;第一磁隧道结图案和第二磁隧道结图案,在所述基板上,所述第一磁隧道结图案和所述第二磁隧道结图案与所述着陆焊盘间隔开;以及互连结构,将所述第二磁隧道结图案的顶表面电连接到所述着陆焊盘,其中所述第一磁隧道结图案与所述着陆焊盘间隔开第一距离,其中所述第二磁隧道结图案与所述着陆焊盘间隔开第二距离,其中所述第一磁隧道结图案与所述第二磁隧道结图案间隔开第三距离,其中所述第一距离大于所述第三距离,并且其中所述第二距离大于所述第三距离。2.如权利要求1所述的磁存储装置,还包括:第一底部电极,电连接到所述第一磁隧道结图案的底表面;和第二底部电极,电连接到所述第二磁隧道结图案的底表面,其中所述着陆焊盘的顶表面相对于所述基板的顶表面设置在与所述第一底部电极的顶表面和所述第二底部电极的顶表面相同的水平面处。3.如权利要求1所述的磁存储装置,还包括在所述基板上的第一选择元件和第二选择元件,其中所述第一选择元件电连接到所述第一磁隧道结图案的底表面,并且其中所述第二选择元件通过所述着陆焊盘和所述互连结构电连接到所述第二磁隧道结图案的顶表面。4.如权利要求1所述的磁存储装置,还包括:第一位线和第二位线,其中所述第一位线电连接到所述第一磁隧道结图案的顶表面,并且其中所述第二位线电连接到所述第二磁隧道结图案的底表面。5.如权利要求1所述的磁存储装置,其中所述第一磁隧道结图案和所述第二磁隧道结图案相对于所述基板的顶表面设置在相同的水平面处。6.如权利要求1所述的磁存储装置,其中所述第一磁隧道结图案包括:第一自由图案;第一被钉扎图案;以及第一隧道阻挡图案,设置在所述第一自由图案和所述第一被钉扎图案之间,其中所述第二磁隧道结图案包括:第二自由图案;第二被钉扎图案;以及第二隧道阻挡图案,设置在所述第二自由图案和所述第二被钉扎图案之间,其中所述第一自由图案和所述第一被钉扎图案在所述基板上的堆叠顺序与所述第二自由图案和所述第二被钉扎图案在所述基板上的堆叠顺序相同。7.一种磁存储装置,包括:至少一个存储器列,每个存储器列包括布置在第一方向上的多个单位存储器单元,其中每个所述单位存储器单元包括:着陆焊盘;第一磁隧道结图案,与所述着陆焊盘间隔开第一距离;第二磁隧道结图案,与所述着陆焊盘间隔开第二距离并与所述第一磁隧道结图案间隔开第三距离;以及互连结构,将所述着陆焊盘电连接到所述第二磁隧道结图案的顶表面,其中所述第一距离和所述第二距离大于所述第三距离。8.如权利要求7所述的磁存储装置,其中包括在所述存储器列中的所述第一磁隧道结图案布置在所述第一方向上,并且其中所述第一距离和所述第二距离大于所述第一磁隧道结图案之间在所述第一方向上的距离。9.如权利要求7所述的磁存储装置,其中包括在所述存储器列中的所述第二磁隧道结图案布置在所述第一方向上,并且其中所述第一距离和所述第二距离大于所述第二磁隧道结图案之间在所述第一方向上的距离。10.如权利要求7所述的磁存储装置,其中包括在所述存储器列中的所述第一磁隧道结图案布置在所述第一方向上,其中包括在所述存储器列中的所述第二磁隧道结图案布置在所述第一方向上,并且其中所述第三距离等于所述第一磁隧道结图案之间在所述第一方向上的距离和所述第二磁隧道结图案之间在所述第一方向上的距离。11.如权利要求10所述的磁存储装置,其中所述第一磁隧道结图案和所述第二磁隧道结图案沿着所述第一方向布置成Z字形图案。12.如权利要求7所述的磁存储装置,其中包括在所述存储器列中的所述第一磁隧...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐辅永,徐宣揆,高宽协,李龙圭,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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